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31. 发明公开

EP2148354A1 ELECTRON SOURCE 有权
标题翻译：电子源
公开(公告)号：EP2148354A1
公开(公告)日：2010-01-27
申请号：EP08752646.3
申请日：2008-05-13
申请人： Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha
发明人： TERUI, Yoshinori , NONOGAKI, Ryozo
IPC分类号： H01J1/26 , H01J1/20 , H01J37/063
CPC分类号： H01J37/063 , H01J1/20 , H01J1/26 , H01J37/073 , H01J37/075 , H01J2237/0216 , H01J2237/06316
摘要： Provided is an electron source which provides a stable electron beam even when vibration is applied from external to a device which uses the electron source. The electron source is provided with a needlelike chip (1) having an electron emitting section at one end; a cup-like component (6) bonded to the other end of the needlelike chip (1); and a filament (3) for heating the cup-like component.(6). The filament (3) is arranged in a gap inside the cup-like component (6), in a noncontact state to the cup-like component (6).
摘要翻译：本发明提供一种即使从外部向使用电子源的装置施加振动时也能够提供稳定的电子束的电子源。电子源设有一端具有电子发射部分的针状芯片（1）与针状片（1）的另一端结合的杯状部件（6）; 和用于加热杯形部件的丝（3）。细丝（3）设置在杯状部件（6）内部的间隙中，与杯状部件（6）处于非接触状态。

32. 发明授权

EP1018137B1 CHARGED PARTICLE BEAM EMITTING ASSEMBLY 有权
标题翻译： DEVICE FOR放出带电POND RAY
公开(公告)号：EP1018137B1
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：EP98944099.5
申请日：1998-09-24
申请人： THE WELDING INSTITUTE
发明人： SANDERSON, Allan
IPC分类号： H01J37/063 , H01J37/065 , H01J37/075 , H01J37/301
CPC分类号： H01J37/075 , H01J37/063 , H01J37/065 , H01J37/301 , H01J2237/3104
摘要： A charged particle emitting assembly comprises an emitter member (5) for emitting charged particles of one polarity. A tubular shield electrode (6) circumferentially surrounds the emitter member and is held in use at the same polarity as the charged particles. A tubular accelerating electrode (7) is positioned substantially coaxially with the shield electrode (6) and is held in use at the opposite polarity to the shield electrode. The arrangement is such that charged particles from the emitter member (5) initially spread laterally outwardly and then are focused into a beam which passes through the tubular accelerating electrode (7).

33. 发明授权

EP0217210B1 Elektronenstrahlerzeuger mit einer direkt und einer indirekt beheizbaren Katode 失效
标题翻译：电子束枪具有直接和间接加热的阴极
公开(公告)号：EP0217210B1
公开(公告)日：1990-04-04
申请号：EP86112696.9
申请日：1986-09-13
申请人： LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Kraft, Reinhard , Ranke, Horst, Dr.
IPC分类号： H01J3/02 , H01J37/075
CPC分类号： H01J37/075 , H01J3/027

34. 发明申请

WO2015101538A1 CATHODE ARRANGEMENT, ELECTRON GUN, AND LITHOGRAPHY SYSTEM COMPRISING SUCH ELECTRON GUN 审中-公开
标题翻译：包括这种电子枪的阴极布置，电子枪和光刻系统
公开(公告)号：WO2015101538A1
公开(公告)日：2015-07-09
申请号：PCT/EP2014/078995
申请日：2014-12-22
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： DINU-GÜRTLER, Laura , HOGERVORST, Eric Petrus
IPC分类号： H01J3/02 , H01J1/28 , H01J1/46 , H01J37/07
CPC分类号： H01J37/3174 , G03F7/70058 , H01J1/15 , H01J1/28 , H01J3/027 , H01J3/029 , H01J37/075 , H01J37/3177 , H01J2229/481 , H01J2237/061
摘要： The invention relates to a cathode arrangement (20) comprising: • - a thermionic cathode comprising an emission portion (30) provided with an emission surface for emitting electrons, and a reservoir (38) for holding a material, wherein the material, when heated, releases work function lowering particles that diffuse towards the emission portion and emanate at the emission surface at a first evaporation rate; • - a focusing electrode (40) comprising a focusing surface for focusing the electrons emitted from the emission surface of the cathode; and • - an adjustable heat source (50) configured for keeping the focusing surface at a temperature at which accumulation of work function lowering particles on the focusing surface is prevented.
摘要翻译：本发明涉及阴极布置（20），其包括：·热阴极，其包括设置有用于发射电子的发射表面的发射部分（30）和用于保持材料，其中所述材料在被加热时释放朝向所述发射部分扩散并在所述发射表面以第一蒸发速率发散的功函数降低颗粒; - 聚焦电极（40），其包括用于聚焦从阴极的发射表面发射的电子的聚焦表面; 和 - 可调节热源（50），其被配置用于将聚焦表面保持在防止聚焦表面上的功函数下降颗粒的聚集的温度。

35. 发明申请

WO2012138966A1 INDIRECTLY HEATED CATHODE CARTRIDGE DESIGN 审中-公开
标题翻译：独立加热阴极盒设计
公开(公告)号：WO2012138966A1
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：PCT/US2012/032476
申请日：2012-04-06
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. , CHANEY, Craig, R. , KLOS, Leo , RENAU, Anthony , PEREL, Alexander
发明人： CHANEY, Craig, R. , KLOS, Leo , RENAU, Anthony , PEREL, Alexander
IPC分类号： H01J19/14 , H01J37/067 , H01J37/075 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/067 , H01J19/14 , H01J19/20 , H01J29/485 , H01J37/026 , H01J37/075 , H01J37/3171 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375
摘要： An. apparatus and method for producing electrons in a plasma flood gun is disclosed. The apparatus includes an indirectly heated cathode (IHC) which contained within a pre-fabricated cartridge. This cartridge can be readily replaced in a plasma flood gun. In addition, the use of an 1HC reduces the amount of contaminants that are injected into the workpiece or water.
摘要翻译：一个。公开了一种在等离子体喷枪中制造电子的装置和方法。该装置包括一个间接加热的阴极（IHC），它包含在一个预制的盒中。这种墨盒可以在等离子喷枪中轻松更换。此外，使用1HC减少了注入工件或水中的污染物的量。

36. 发明申请

WO2011068101A1 フィラメントの支持方法、電子銃、及び処理装置审中-公开
标题翻译：电子支撑方法，电子枪和加工装置
公开(公告)号：WO2011068101A1
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：PCT/JP2010/071386
申请日：2010-11-30
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一
发明人：飯島　栄一
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/07
CPC分类号： H01J37/075 , H01J37/07
摘要：電子銃は、カソード電極（１３）を熱電子により加熱するために通電されるフィラメント（１２）と、フィラメント（１２）を支持する２つのフィラメント支柱（４２, ４３）とを含む。フィラメント支柱（４２, ４３）の各々は、フィラメント（１２）が取着される先端（４２ｃ, ４３ｃ）と、ベース（４１）に固定される基端とを有する。フィラメント支柱（４２, ４３）の各々は、通電によりフィラメント（１２）に発生する伸びに応じて、それぞれの先端（４２ｃ, ４３ｃ）を変位させる。当該構成により、電子ビーム出力の安定化を図ることが可能となる。
摘要翻译：公开了一种电子枪，包括用热量加热阴极电极（13）的电力的灯丝（12）和用于支撑灯丝（12）的两个灯丝支撑件（42,43）。灯丝支撑件（42,43）分别具有安装灯丝（12）的前端（42c，43c），并且基端部固定在基座（41）上。根据由于施加电力而发生在灯丝（12）处的伸长，灯丝支撑件（42,43）使其前端（42c，43c）分别位移。电子束输出可以用这种配置来稳定。

37. 发明申请

WO02001597A1 CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION APPARATUS AND METHOD FOR FABRICATING DEVICE USING THAT INSPECTION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束检查装置和使用该检查装置来制造装置的方法
公开(公告)号：WO02001597A1
公开(公告)日：2002-01-03
申请号：PCT/JP2001/005496
申请日：2001-06-27
IPC分类号： G01N23/225 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/29 , G01B15/00 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70616 , G01N23/225 , H01J37/05 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/075 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/226 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/0435 , H01J2237/057 , H01J2237/06316 , H01J2237/082 , H01J2237/202 , H01J2237/20228 , H01J2237/204 , H01J2237/22 , H01J2237/2446 , H01J2237/24485 , H01J2237/24564 , H01J2237/248 , H01J2237/2482 , H01J2237/2806 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817
摘要： An inspection apparatus and a method for fabricating a semiconductor device using that inspection apparatus. The inspection apparatus is used for inspecting the defect of a sample, e.g. a wafer, and measuring the line width and surface potential thereof. In the inspection apparatus, a plurality of charged particles from a primary optical system impinge on a sample and secondary charged particles emitted from the sample are separated from the primary optical system and introduced through a secondary optical system to a detector. The sample is irradiated with charged particles while being moved. Irradiating points of charged particles are arranged in N rows in the moving direction of the sample and in M columns in the direction perpendicular thereto. Each row of charged particle irradiating points is shifted sequentially, by a constant amount, in the direction perpendicular to the moving direction of the sample.
摘要翻译：一种使用该检查装置制造半导体装置的检查装置和方法。检查装置用于检查样品的缺陷，例如，晶片，并测量其线宽和表面电位。在检查装置中，来自初级光学系统的多个带电粒子撞击样品，从样品发射的二次带电粒子与主光学系统分离，并通过二次光学系统引入检测器。移动时，带电粒子照射样品。带电粒子的照射点在样品的移动方向上以N列排列，并且在垂直于其的方向上排列成M列。每行带电粒子照射点在垂直于样品移动方向的方向上顺序地移动一定量。

38. 发明申请

WO2015101537A1 CATHODE ARRANGEMENT, ELECTRON GUN, AND LITHOGRAPHY SYSTEM COMPRISING SUCH ELECTRON GUN 审中-公开
标题翻译：包括这种电子枪的阴极布置，电子枪和光刻系统
公开(公告)号：WO2015101537A1
公开(公告)日：2015-07-09
申请号：PCT/EP2014078993
申请日：2014-12-22
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP BV
发明人： DINU-GÜRTLER LAURA , HOGERVORST ERIC PETRUS
IPC分类号： H01J3/02 , H01J1/28 , H01J1/46 , H01J37/063 , H01J37/07 , H01J37/075
CPC分类号： H01J37/3174 , G03F7/70058 , H01J1/15 , H01J1/28 , H01J3/027 , H01J3/029 , H01J37/075 , H01J37/3177 , H01J2229/481 , H01J2237/061
摘要： The invention relates to a cathode arrangement (20) comprising: a cathode body housing an emission surface (32) for emitting electrons in a longitudinal direction (Z), wherein the emission surface is bounded by an emission perimeter (35); a focusing electrode (40) at least partially enclosing the cathode body in a transversal direction and comprising an electron transmission aperture (44) for focusing the electrons emitted by the emission surface, wherein the aperture is bounded by an aperture perimeter (45), wherein the cathode body is moveably arranged within the focusing electrode over a maximum transversal distance (d1) from an aligned position (R0), and wherein the aperture perimeter transversally extends over the emission surface and beyond the emission perimeter over an overlap distance (d2) that exceeds the maximum transversal distance.
摘要翻译：本发明涉及一种阴极布置（20），包括：阴极主体，该阴极主体容纳用于沿纵向方向（Z）发射电子的发射表面（32），其中发射表面由发射周界（35）界定; 聚焦电极（40），所述聚焦电极（40）在横向方向上至少部分地包围所述阴极体并且包括用于聚焦由所述发射表面发射的所述电子的电子传输孔（44），其中所述孔由孔周边（45）所述阴极体在与所述对准位置（R 0）相距最大横向距离（d 1）的范围内可移动地布置在所述聚焦电极内，并且其中所述孔周边横跨所述发射表面并且在重叠距离（d 2）之上横跨所述发射周界横向延伸，超过最大横向距离。

39. 发明申请

WO2010084020A1 VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR ERZEUGUNG EINES ELEKTRONENSTRAHLS 审中-公开
标题翻译： METHOD AND SYSTEM FOR产生电子束
公开(公告)号：WO2010084020A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：PCT/EP2010/000398
申请日：2010-01-22
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , WÜPPEN, Jochen , RUSSBÜLDT, Peter , HOFFMANN, Dieter , MANS, Torsten , STROTKAMP, Michael , WESTER, Rolf
发明人： WÜPPEN, Jochen , RUSSBÜLDT, Peter , HOFFMANN, Dieter , MANS, Torsten , STROTKAMP, Michael , WESTER, Rolf
IPC分类号： H01J35/06 , H01J37/06 , H01J37/075 , H01J37/24 , H05G1/00
CPC分类号： H01J3/02 , H01J37/06 , H01J37/075 , H01J2235/06
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung eines Elektronenstrahls mit einer Anordnung, die mindestens eine Kathode (1), ein elektrisch leitfähiges Gitter (2) und eine Anode (3) umfasst, sowie eine zugehörige Anordnung. In einem an die Kathode (1) und das Gitter (2) angrenzenden Bereich wird ein Plasma (6) erzeugt, aus dem über das Gitter (2) Elektronen (7) ausgekoppelt und in Richtung der Anode (3) beschleunigt werden. Das Plasma (6) wird beim vorgeschlagenen Verfahren durch Fokussieren von Laserpulsen auf eine Oberfläche der Kathode (1) erzeugt. Das Verfahren und die Anordnung lassen sich dadurch problemlos auch im Hochvakuum oder Ultrahochvakuum einsetzen und ermöglichen die Erzeugung sowohl von sub-μs-Pulsen als auch einen DC-Betrieb.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于产生具有一种结构的电子束中的至少一个阴极（1），导电网状物（2）和阳极（3），以及相关联的组件。在阴极（1）和所述光栅（2）相邻的区域中的一个中产生的等离子体（6），耦合出的在栅板（2）的电子（7），并朝向阳极加速（3）。等离子体（6）在所提出的方法通过聚焦阴极（1）的表面上的激光脉冲产生的。该方法和装置可以甚至在高真空或超高真空使用任何问题，并允许两个子微秒脉冲以及一个DC操作的产生来表征。

40. 发明申请

WO2009015154A1 INTENSITY MODULATED ELECTRON BEAM AND APPLICATION TO ELECTRON BEAM BLANKER 审中-公开
标题翻译：强度调制电子束和应用于电子束保护膜
公开(公告)号：WO2009015154A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/US2008/070783
申请日：2008-07-22
申请人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION , ROUGH, Kirkwood , LIU, Xuefeng , LORDI, Vincenzo , LEVI, Shem-tov
发明人： ROUGH, Kirkwood , LIU, Xuefeng , LORDI, Vincenzo , LEVI, Shem-tov
IPC分类号： G21K5/10
CPC分类号： H01J37/063 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/073 , H01J37/075 , H01J37/3174 , H01J2237/0432
摘要： Method and apparatus for achieving an intensity modulated electron blanker are disclosed. An apparatus includes a cathode exposed to an activation source to generate an electron beam. Cathode control circuitry adjusts a cathode control amplifier to regulate cathode voltage and the potential of the electron beam. In some approaches the electron beam potential is used to control the blanking frequency, switching speeds, and duty cycle. In another approach electron generating beams directed on to the cathode are modulated to control the electron beam.
摘要翻译：公开了用于实现强度调制的电子消除器的方法和装置。一种装置包括暴露于激活源的阴极以产生电子束。阴极控制电路调节阴极控制放大器以调节阴极电压和电子束的电位。在一些方法中，电子束电位用于控制消隐频率，开关速度和占空比。在另一种方法中，调节指向阴极的电子产生光束以控制电子束。

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