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31. 发明公开

KR1020020044636A 반도체 장치의 제조에서 케미컬 공급장치 无效
标题翻译：化学提供装置制造半导体器件
公开(公告)号：KR1020020044636A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：KR1020000073625
申请日：2000-12-06
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김승언 , 김수련 , 이중선 , 홍사문
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A chemical supplying apparatus is provided to minimize a thermal influence on an exact density measurement by firstly controlling a temperature of a chemical having a high density and then mixing the chemical with water. CONSTITUTION: A chemical supplying apparatus has a temperature controlling part, thereby controlling a temperature of a chemical so as to exactly measure the density of the chemical. The temperature controlling part comprises a solution holding tank(50) including a solution(52) for controlling the temperature of the chemical, a temperature controlling part(62) having a heater for keeping a defined temperature by controlling the temperature of the solution(52), and a first tube(54) located in the solution(52). At this point, the edge portions of the first tube(54) are connected with first supplying lines(60).
摘要翻译：目的：提供一种化学品供应装置，通过首先控制具有高密度的化学品的温度，然后将化学品与水混合来最小化对精密密度测量的热影响。构成：化学品供给装置具有温度控制部，由此控制化学品的温度，以精确地测量化学品的密度。温度控制部分包括溶液储存箱（50），该溶液容纳罐包括用于控制化学品温度的溶液（52），温度控制部分（62）具有用于通过控制溶液（52）的温度来保持限定温度的加热器）和位于溶液（52）中的第一管（54）。此时，第一管（54）的边缘部与第一供给线（60）连接。

32. 发明授权

KR100302482B1 반도체씨엠피공정의슬러리공급시스템 失效
标题翻译：用于半导体EPP工艺的浆料供应系统
公开(公告)号：KR100302482B1
公开(公告)日：2001-11-30
申请号：KR1019980023772
申请日：1998-06-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김수련 , 김승언 , 전재강 , 홍사문
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 본 발명은 슬러리의 이차입자를 단위입자로 분산하여 씨엠피장비로 공급하는 반도체 씨엠피공정의 슬러리 공급시스템에 관한 것이다.
본 발명의 반도체 씨엠피공정의 슬러리 공급시스템은, 슬러리저장소에 저장된 슬러리를 슬러리공급라인을 통하여 씨엠피장비로 공급하는 반도체 씨엠피공정의 슬러리 공급시스템에 있어서, 상기 슬러리의 단위입자가 이차입자로 응집되지 않도록 상기 슬러리공급라인에 설치되어 상기 슬러리에 초음파를 인가하는 초음파인가수단을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 슬러리중의 연마입자의 응집에 의한 이차입자의 형성을 방지하여, 웨이퍼 표면의 미세긁힘현상을 방지함으로써 후속공정에서의 웨이퍼 수율을 향상시키게 하는 효과를 갖는다.

33. 发明公开

KR1020000051800A 웨이퍼 연마용 약액의 안정화 장치 失效
标题翻译：用于抛光抛光的浆料稳定装置
公开(公告)号：KR1020000051800A
公开(公告)日：2000-08-16
申请号：KR1019990002439
申请日：1999-01-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 홍사문 , 김수련 , 김승언 , 이진선
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A stabilized device of a slurry for a wafer polishing is provided by stabilization of the slurry through precipitating the large particles of the slurry in a supplying equipment of the slurry. CONSTITUTION: A method of manufacturing the stabilized device of the slurry for the wafer polishing consists of: a stabilized device of the slurry to be installed between the transferring lines of the slurry from a supply unit(drum unit) to a mixing module; the first precipitation unit to store and stabilize the slurry to be flowed in from the drum unit; the second precipitation unit to stabilize the stabilized slurries to be supplied from the first precipitation unit during transferring continuously; the outlet pipes to be connected to the bottoms of the first and the second precipitation units, and to exhaust the precipitation on the bottom of units.
摘要翻译：目的：通过在浆料的供给设备中沉淀浆料的大颗粒而使浆料稳定化来提供用于晶片抛光的浆料的稳定化装置。制造用于晶片抛光的浆料的稳定化装置的方法包括：将浆料的稳定化装置安装在从供给单元（鼓单元）到混合模块的浆料的输送管线之间; 第一沉淀单元，用于储存并稳定从滚筒单元流入的浆料; 第二降水单元，用于稳定在连续输送期间从第一降水单元供应的稳定化浆料; 出口管连接到第一和第二降水单元的底部，并排出单元底部的沉淀物。

34. 发明公开

KR1020000020609A 혼합유니트 및 혼합유니트를 포함하는 액체혼합장치 失效
标题翻译：混合单元和含有混合单元的液体混合器
公开(公告)号：KR1020000020609A
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019980039279
申请日：1998-09-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김수련 , 홍사문 , 김승언 , 전재강
IPC分类号： B01F7/16
摘要： PURPOSE: A mixing unit and a liquid mixer containing the mixing unit are provided to easily mix more than two liquids. CONSTITUTION: A mixing unit(6) contains a first spiral tube(61) forming a first spiral groove(611) and a second spiral tube(62) forming a second spiral groove(621). The end of the first spiral tube is pulled in the second spiral tube. A device for mixing liquids including the mixing unit contains a mixing container, a first and a second service tubes for separately inputting liquid to be mixed, a service tube of mixture for connecting the mixing unit with the mixing container, a withdrawing tube for withdrawing the mixture from the mixing container, and a service tube of compressed gas. Herein, the mixing container includes an agitating rod and an agitating wing installed at the end of the agitating rod. Also, the service tube of compressed gas includes a valve for supplying compressed gas into the mixing container to withdraw the mixture.
摘要翻译：目的：提供混合单元和含有混合单元的液体混合器，以容易地混合两种以上的液体。构成：混合单元（6）包含形成第一螺旋槽（611）的第一螺旋管（61）和形成第二螺旋槽（621）的第二螺旋管（62）。第一螺旋管的端部被拉入第二螺旋管中。用于混合包括混合单元的液体的装置包括混合容器，用于分别输入待混合的液体的第一和第二服务管，用于将混合单元与混合容器连接的混合物的服务管，用于取出混合容器的抽出管来自混合容器的混合物和压缩气体的服务管。这里，混合容器包括安装在搅拌棒末端的搅拌棒和搅拌翼。此外，压缩气体的服务管包括用于将压缩气体供应到混合容器中以抽出混合物的阀。

35. 发明公开

KR1019990041355A 반도체 웨이퍼 세정배쓰 및 이를 이용한 세정방법 无效
标题翻译：半导体晶片清洗槽及使用其的清洗方法
公开(公告)号：KR1019990041355A
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019970061937
申请日：1997-11-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 오윤철 , 김현준 , 김수련 , 김승언
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 세정배쓰 상단부에 가스분사부가 구비되어 있는 반도체 웨이퍼 세정배쓰 및 이를 이용한 세정방법에 관한 것이다.
본 발명의 반도체 웨이퍼 세정배쓰는 상기 세정배쓰 상단부에 가스공급관 및 상기 가스공급관 단측에 다수의 노즐을 포함한 가스분사부를 포함하여 이루어지며, 본 발명의 세정방법은 웨이퍼가 적재된 카세트를 세정배쓰에 장착하는 단계; 상기 세정배쓰 상단부에 비활성가스를 분사하는 단계; 및 상기 비활성가스가 분사되는 동시에 탈이온수가 공급되어 상기 웨이퍼를 세정하는 단계를 구비하여 이루어진다.
따라서, 세정배쓰 상단부에 가스분사부를 설치하여 가스커튼을 형성함으로써 세정공정중 공기중의 산소가 탈이온수내로 녹아 들어가는 것을 방지하여 웨이퍼 위에 물반점 및 산화막형성을 효과적으로 막아 공정불량을 억제시키는 효과가 있다.

36. 发明公开

KR1019980077718A 반도체장치제조공정용초순수의제조를위한살균조성물 및 이를이용한초순수제조장치의살균방법 失效
标题翻译：用于制造半导体器件制造工艺用超纯水的消毒组合物及使用其的超纯水制造装置的消毒方法
公开(公告)号：KR1019980077718A
公开(公告)日：1998-11-16
申请号：KR1019970014955
申请日：1997-04-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김승언 , 오윤철 , 김수련 , 황정성
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 과산화수소와 과초산의 혼합물로 이루어진 살균조성물과 이 살균조성물과 열수를 이용한 반도체장치 제조공정용 초순수제조장치를 살균하는 방법 및 살균조성물과 열수에 의하여 살균되는 반도체장치 제조공정용 초순수제조장치에 관한 것이다.
본 발명은 과산화수소, 과초산 및 탈이온수를 포함하는 살균조성물과, 살균제살균단계와 열수살균단계를 구비하는 살균방법과, 순수공급탱크(11), 열교환기(12), 자외선살균기(13), 유기물폴리셔(14), 혼성폴리셔(15), 한외여과필터(16), 상기 유기물폴리셔(14)와 혼성폴리셔(15)들을 우회하도록 배관된 폴리셔우회관(22) 및 상기 유기물폴리셔(14)와 혼성폴리셔(15)에 열수를 공급하는 폴리셔용 열교환기(21)를 구비하는 초순수제조장치를 제공한다.
따라서, 과산화수소와 과초산을 포함하는 살균조성물의 사용 및 이러한 살균조성물과 열수에 의한 초순수제조장치 및 초순수배관의 살균으로 완전한 살균효과를 얻을 수 있으며, 또한 최소 6개월 이상, 적어도 10개월 이상 살균효과가 유지되어 빈번한 살균처리의 필요성을 현저하게 저감시키는 효과를 얻을 수 있다.

37. 发明公开

KR1020030043393A 슬러리 저장 유니트 및 사용점에서의 혼합 유니트를 갖는슬러리 공급장치 有权
标题翻译：浆料贮存单元和装置在使用点供应混合单元的浆料
公开(公告)号：KR1020030043393A
公开(公告)日：2003-06-02
申请号：KR1020010074547
申请日：2001-11-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김수련 , 채승기 , 김승언 , 이제구 , 안승훈
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B24B57/02 , B01F3/1221 , B01F3/1271 , B01F15/00123 , B01F2003/1285
摘要： PURPOSE: A slurry supply system is provided to prevent polishing particles contained in an undiluted slurry solution and diluted slurry from being precipitated or solidified by continuously circulating the undiluted slurry solution in a slurry storage portion, the diluted slurry in a mixing portion, the diluted slurry in a supply portion and additive in an additive storage portion. CONSTITUTION: The slurry is stored in a bottle(1). The slurry in the bottle is stored in the slurry storage portion(3) that self-circulates the stored slurry. A predetermined amount of the slurry in the slurry storage portion is diluted with a diluent solution in the mixing portion(5) that self-circulates the diluted slurry. The supply portion(7) stores and circulates the diluted slurry in the mixing portion, including the first circulation loop line. The additive storage portion(9) stores and circulates the additive, including the second circulation loop line. At least one mixing unit at a point of P.O.U mixing units(11,13) mixes the diluted slurry circulated through the first circulation loop line with the additive circulated through the second circulation loop line.
摘要翻译：目的：提供一种浆料供应系统，以防止未稀释的浆料溶液中所含的抛光颗粒和稀释的浆料通过将未稀释的浆料溶液连续循环到浆料储存部分中，稀释的浆料在混合部分中，稀释的浆液在供给部分和添加剂存储部分中的添加剂。构成：将浆料储存在瓶子（1）中。瓶中的浆料储存在使所储存的浆料自行循环的浆料储存部分（3）中。在混合部分（5）中用稀释液稀释浆料储存部分中的预定量的浆料，该混合部分使稀释的浆料自循环。供应部分（7）将稀释的浆料储存并循环到包括第一循环回路管线的混合部分中。添加剂存储部（9）存储并循环包括第二循环回路线的添加剂。在P.O.U混合单元（11,13）的点处的至少一个混合单元将通过第一循环回路管线循环的稀释浆料与通过第二循环回路管线循环的添加剂混合。

38. 实用新型

KR200177102Y1 반도체 제조라인의 박테리아 샘플링 키트 홀더{Sampling kit holder for semiconductor fabrication line} 失效
标题翻译：半导体制造线套件夹具
公开(公告)号：KR200177102Y1
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR2019960040998
申请日：1996-11-20
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 오윤철 , 김승언
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 반도체 제조라인의 박테리아 샘플링 키트 홀더에 관한 것이다.
본 고안은, 공기 중의 박테리아를 샘플링하는 키트를 고정지지하는 반도체 제조라인의 박테리아 샘플링 키트 홀더에 있어서, 상,하로 간격을 두고 이격 배치된 상,하지지대, 상기 상,하지지대에 설치되어 상기 키트를 압착지지하는 압착지지부, 상기 상,하지지대를 연결하는 수직지지대, 상기 상,하지지대가 회전할 수 있도록 하는 회동수단, 상기 상,하지지대의 양측방을 연결보강하는 수직보강지지대 및 상기 회동수단에 의해서 상기 상,하지지대가 회전하는 것을 방지하도록 상기 수직지지대의 상측 단부에 구비된 고정수단을 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 고안에 의하면 키트를 용이하게 고정함으로써 공기 중의 박테리아를 신속하게 샘플링할 수 있는 효과가 있다.

39. 发明授权

KR100253095B1 반도체소자제조용용수처리설비의광산화처리장치 失效
标题翻译：照相氧化设备，水处理系统和水处理方法适用于半导体制造
公开(公告)号：KR100253095B1
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019970066290
申请日：1997-12-05
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김수련 , 김승언 , 김현준 , 오윤철
IPC分类号： C02F1/72 , C02F9/00
CPC分类号： C02F1/725 , B01J19/123 , C02F1/32 , Y10S210/90
摘要： PURPOSE: A photooxidation treatment equipment of water treatment equipment for manufacturing semi-conductor device is provided, which can prevent any elution of constituents of the catalyst to water by coating the catalyst with polymer film, thereby preventing any contamination of the water and can remove the aromatic organic matter by adsorbing to polymer film and penetrating the film easily to oxidation react at the catalyst. CONSTITUTION: The system comprises the followings: (i) a photooxidation part(22) that has an inlet and an outlet at the side of the cylinder in which UV lamps are installed; (ii) UV lamps(20) fixed in the photooxidation part(22) for irradiating UV of a fixed range of wave length to the pretreated water to oxidize organic matter; and (iii) a catalyst part(30) that is installed inside the photooxidation part(22) for activating oxidation of organic matter.
摘要翻译：目的：提供半导体器件制造用水处理设备的光氧化处理设备，通过用聚合物膜涂覆催化剂，可以防止催化剂成分向水中的任何溶出，从而防止水分的污染，通过吸附到聚合物膜上并且容易地渗透到氧化物上的芳族有机物在催化剂下反应。构成：该系统包括：（i）光氧化部分（22），其在安装有UV灯的圆筒的侧面具有入口和出口; （ii）固定在光氧化部分（22）中的UV灯（20），用于将固定波长范围的UV照射到预处理的水中以氧化有机物质; 和（iii）安装在用于活化有机物氧化的光氧化部分（22）内部的催化剂部分（30）。

40. 发明授权

KR100249310B1 반도체 제조용 탈이온수제조설비 및 그 관리방법 失效
标题翻译：用于半导体制造的水处理设备及其处理方法
公开(公告)号：KR100249310B1
公开(公告)日：2000-03-15
申请号：KR1019970011903
申请日：1997-03-31
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김선필 , 이상구 , 오윤철 , 김승언
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 반도체 제조용 탈이온수제조설비 및 그 관리방법에 관한 것이다.
본 발명은, 기 여과된 용수중에 포함되어 있는 이온을 제거하기 위한 이온교환수지가 충전된 이온교환장치를 포함하는 반도체 제조용 탈이온수제조설비 및 그 관리방법에 있어서, 상기 이온교환수지를 통과하는 용수를 인출하기 위한 용수 인출수단과 상기 이온교환수지 자체를 인출하기 위한 이온교환수지 인출수단이 상기 이온교환장치의 저면부로부터 소정의 높이의 상기 이온교환장치에 쌍을 이루며 설치되어 상기 각 인출수단을 통해서 인출되는 용수 및 이온교환수지를 각각 분석하도록 하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 이온교환수지 및 이온교환수지를 통과하는 용수 등의 분석을 통하여 분석데이터의 신뢰도를 개선시켜 이온교환장치의 효율적인 관리가 이루어져 반도체장치의 생산성이 향상되는 효과가 있다.

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