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31. 发明专利

TW200823147A 用於監視與控制光阻分散系統之倒吸量的設備及方法 METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING AND CONTROL OF SUCK BACK LEVEL IN A PHOTORESIST DISPENSE SYSTEM 审中-公开
简体标题：用于监视与控制光阻分散系统之倒吸量的设备及方法 METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING AND CONTROL OF SUCK BACK LEVEL IN A PHOTORESIST DISPENSE SYSTEM
公开(公告)号：TW200823147A
公开(公告)日：2008-06-01
申请号：TW096129691
申请日：2007-08-10
申请人：數獨股份有限公司 SOKUDO CO., LTD.
发明人：波拉斯艾莉卡R. PORRAS, ERICA R. , 拉馬南那塔羅傑 RAMANAN, NATARAJAN
IPC分类号： B67D , G01B
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/67253
摘要：監視一分配噴嘴中半導體處理流體介面的位置的設備包括:一延伸光源,其用以提供沿著一光學路徑行進的光束。光束的特徵在於以對準一分配方向之第一方向測量的路徑寬度。此設備還包括:一光學偵測器,其耦接光學路徑且用來偵測至少部分光束;以及一分配噴嘴,其沿著光學路徑設在延伸光源與光學偵測器之間的一地點。此設備更包括:一噴嘴定位構件,其耦接分配噴嘴且以第一方向轉移分配噴嘴。
简体摘要：监视一分配喷嘴中半导体处理流体界面的位置的设备包括:一延伸光源,其用以提供沿着一光学路径行进的光束。光束的特征在于以对准一分配方向之第一方向测量的路径宽度。此设备还包括:一光学侦测器,其耦接光学路径且用来侦测至少部分光束;以及一分配喷嘴,其沿着光学路径设在延伸光源与光学侦测器之间的一地点。此设备更包括:一喷嘴定位构件,其耦接分配喷嘴且以第一方向转移分配喷嘴。

32. 发明专利

TWI456627B 於導軌式微影工具中控制關鍵尺寸的方法及系統有权
简体标题：于导轨式微影工具中控制关键尺寸的方法及系统
公开(公告)号：TWI456627B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW096129033
申请日：2007-08-07
申请人：數獨股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：麥克森提姆 , MICHAELSON, TIM , 貝奇亞里斯尼可拉奧斯 , BEKIARIS, NIKOLAOS
IPC分类号： H01L21/027

33. 发明专利

TW201413852A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201413852A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102127498
申请日：2013-07-31
申请人：迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：柏山真人 , KASHIYAMA, MASAHITO , 西山耕二 , NISHIYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： G03F7/16 , H01L21/67028 , H01L21/67046 , H01L21/6838
摘要：於第1及第2處理區塊分別設置有搬送機構。各搬送機構具有手部。手部不與基板之端部接觸地保持基板之另一面。藉由手部移動，而於密接強化處理單元或冷卻單元與塗佈處理單元或顯影處理單元之間搬送基板。於密接強化處理單元及冷卻單元中，於吸附保持基板之背面之狀態下，對基板進行溫度處理。於塗佈處理單元及顯影處理單元中，於基板之背面藉由旋轉夾頭而吸附保持之狀態下，對基板之主面供給處理液。
简体摘要：于第1及第2处理区块分别设置有搬送机构。各搬送机构具有手部。手部不与基板之端部接触地保持基板之另一面。借由手部移动，而于密接强化处理单元或冷却单元与涂布处理单元或显影处理单元之间搬送基板。于密接强化处理单元及冷却单元中，于吸附保持基板之背面之状态下，对基板进行温度处理。于涂布处理单元及显影处理单元中，于基板之背面借由旋转夹头而吸附保持之状态下，对基板之主面供给处理液。

34. 发明专利

TWI425586B 基板搬送裝置及熱處理裝置有权
简体标题：基板搬送设备及热处理设备
公开(公告)号：TWI425586B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW097107796
申请日：2008-03-06
申请人： SOKUDO股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：森田彰彥 , AKIHIKO MORITA , 小山賢一 , KENICHI KOYAMA , 西幸治 , KOJI NISHI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67248 , H01L21/67109

35. 发明专利

TWI424541B 溫度變更系統有权
简体标题：温度变更系统
公开(公告)号：TWI424541B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW100125191
申请日：2011-07-15
申请人：迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：霍夫斯基里昂 , VOLFOVSKI, LEON , 賀誠哈拉德 , HERCHEN, HARALD , 賓森杰D , PINSON, JAY D.
IPC分类号： H01L23/34

36. 发明专利

TW201324651A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201324651A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101127502
申请日：2012-07-30
申请人：迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：橋本勝巳 , HASHIMOTO, KATSUMI , 中西學 , NAKANISHI, MANABU , 松下隆 , MATSUSHITA, TAKASHI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67109 , F27B17/0025
摘要：本發明提供一種無需設置專用之冷卻機構而可確實防止過度烘烤之基板處理裝置及基板處理方法。本發明係將依序投入之各基板搬送至空置之冷卻單元CP1~CP3之任一個中，將該冷卻單元預約為對該基板W進行曝光後烘烤處理後之冷卻處理的單元，並記憶該預約資訊。於曝光後烘烤處理前事前預約冷卻單元CP1~CP3之任一個後，無需進行冷卻處理而將基板W自該冷卻單元搬送至加熱單元PEB1~PEB3之任一個中進行曝光後烘烤處理。曝光後烘烤處理結束後，將基板W自該加熱單元搬送至事前預約好之預約完畢冷卻單元而進行冷卻處理。
简体摘要：本发明提供一种无需设置专用之冷却机构而可确实防止过度烘烤之基板处理设备及基板处理方法。本发明系将依序投入之各基板搬送至空置之冷却单元CP1~CP3之任一个中，将该冷却单元预约为对该基板W进行曝光后烘烤处理后之冷却处理的单元，并记忆该预约信息。于曝光后烘烤处理前事前预约冷却单元CP1~CP3之任一个后，无需进行冷却处理而将基板W自该冷却单元搬送至加热单元PEB1~PEB3之任一个中进行曝光后烘烤处理。曝光后烘烤处理结束后，将基板W自该加热单元搬送至事前预约好之预约完毕冷却单元而进行冷却处理。

37. 发明专利

TWI397148B 軌跡微影工具中之晶圓置中情形的偵測方法與系統失效
简体标题：轨迹微影工具中之晶圆置中情形的侦测方法与系统
公开(公告)号：TWI397148B
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：TW097100858
申请日：2008-01-09
申请人：數獨股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：哈拉德赫前 , HERCHEN, HARALD , 潘莉莉 , PANG, LILY , 波拉斯艾莉卡 , PORRAS, ERICA
IPC分类号： H01L21/68 , G01B11/24
CPC分类号： G01D5/342

38. 发明专利

TW200933810A 基板保持旋轉裝置,具備該裝置之基板洗淨裝置及基板處理裝置 SUBSTRATE HOLDING AND ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE CLEANING APPARATUS COMPRISING THE SAID DEVICE 审中-公开
简体标题：基板保持旋转设备,具备该设备之基板洗净设备及基板处理设备 SUBSTRATE HOLDING AND ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE CLEANING APPARATUS COMPRISING THE SAID DEVICE
公开(公告)号：TW200933810A
公开(公告)日：2009-08-01
申请号：TW097142814
申请日：2008-11-06
申请人： SOKUDO股份有限公司 SOKUDO CO., LTD.
发明人：西山耕二 KOJI NISHIYAMA , 吉井弘至 HIROSHI YOSHII
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67173 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/68728 , H01L21/68742 , Y10S134/902
摘要：本發明係在進行基板之斜面洗淨處理時,將第1磁板配置於下方位置,且將第2磁板配置於上方位置。此時,第1磁板之外側區域中各夾具銷成為閉合狀態,第2磁板之外側區域中各夾具銷成為開啓狀態。即,各夾具銷之保持部係在通過第1磁板之外側區域時維持於接觸到基板之外周端部之狀態,且在通過第2磁板之外側區域時自基板之外周端部離開。
简体摘要：本发明系在进行基板之斜面洗净处理时,将第1磁板配置于下方位置,且将第2磁板配置于上方位置。此时,第1磁板之外侧区域中各夹具销成为闭合状态,第2磁板之外侧区域中各夹具销成为开启状态。即,各夹具销之保持部系在通过第1磁板之外侧区域时维持于接触到基板之外周端部之状态,且在通过第2磁板之外侧区域时自基板之外周端部离开。

39. 发明专利

TW200913028A 基板洗淨裝置及具備其之基板處理裝置 SUBSTRATE CLEANING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME 审中-公开
简体标题：基板洗净设备及具备其之基板处理设备 SUBSTRATE CLEANING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME
公开(公告)号：TW200913028A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097126032
申请日：2008-07-10
申请人： SOKUDO股份有限公司 SOKUDO CO., LTD.
发明人：西山耕二 KOJI NISHIYAMA , 西村讓一 JOICHI NISHIMURA , 吉井弘至 HIROSHI YOSHII
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67046
摘要：洗淨處理單元具備有將基板保持水平並使基板圍繞通過基板中心的鉛直軸旋轉之旋轉夾具。在旋轉夾具的外側配置有斜面洗淨部。斜面洗淨部具備有洗淨刷。洗淨刷具有相對鉛直軸旋轉對稱之形狀,並具有上斜面洗淨面、端面洗淨面及下斜面洗淨面。端面洗淨面為以鉛直方向為軸心的圓筒面。上斜面洗淨面係從端面洗淨面上端朝外側上方傾斜延伸,下斜面洗淨面從端面洗淨面下端朝外側下方傾斜延伸。
简体摘要：洗净处理单元具备有将基板保持水平并使基板围绕通过基板中心的铅直轴旋转之旋转夹具。在旋转夹具的外侧配置有斜面洗净部。斜面洗净部具备有洗净刷。洗净刷具有相对铅直轴旋转对称之形状,并具有上斜面洗净面、端面洗净面及下斜面洗净面。端面洗净面为以铅直方向为轴心的圆筒面。上斜面洗净面系从端面洗净面上端朝外侧上方倾斜延伸,下斜面洗净面从端面洗净面下端朝外侧下方倾斜延伸。

40. 发明专利

TWI284353B 基板處理裝置及基板處理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD 有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TWI284353B
公开(公告)日：2007-07-21
申请号：TW094141871
申请日：2005-11-29
申请人： SOKUDO股份有限公司 SOKUDO CO., LTD.
发明人：安田周一 SHUICHI YASUDA , 金岡雅 MASASHI KANAOKA , 金山幸司 KOJI KANEYAMA , 宮城聰 TADASHI MIYAGI , 茂森和士 KAZUHITO SHIGEMORI , 淺野徹 TORU ASANO , 鳥山幸夫 YUKIO TORIYAMA , 田口隆志 TAKASHI TAGUCHI , 三橋毅 TSUYOSHI MITSUHASHI , 奧村剛 TSUYOSHI OKUMURA
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70341
摘要：一種基板處理裝置，具備有索引器塊，防止反射膜用處理塊，抗蝕劑膜用處理塊，洗淨/顯像處理塊和介面塊。以鄰接介面塊之方式配置有曝光裝置。在抗蝕劑膜用處理塊，於基板上形成為抗蝕劑膜。在曝光裝置於對基板進行曝光處理之前，在洗淨/顯像處理塊之洗淨處理單元，進行基板之洗淨和乾燥處理。
简体摘要：一种基板处理设备，具备有索引器块，防止反射膜用处理块，抗蚀剂膜用处理块，洗净/显像处理块和界面块。以邻接界面块之方式配置有曝光设备。在抗蚀剂膜用处理块，于基板上形成为抗蚀剂膜。在曝光设备于对基板进行曝光处理之前，在洗净/显像处理块之洗净处理单元，进行基板之洗净和干燥处理。

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