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1. 发明专利

TW201413852A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201413852A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102127498
申请日：2013-07-31
申请人：迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：柏山真人 , KASHIYAMA, MASAHITO , 西山耕二 , NISHIYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： G03F7/16 , H01L21/67028 , H01L21/67046 , H01L21/6838
摘要：於第1及第2處理區塊分別設置有搬送機構。各搬送機構具有手部。手部不與基板之端部接觸地保持基板之另一面。藉由手部移動，而於密接強化處理單元或冷卻單元與塗佈處理單元或顯影處理單元之間搬送基板。於密接強化處理單元及冷卻單元中，於吸附保持基板之背面之狀態下，對基板進行溫度處理。於塗佈處理單元及顯影處理單元中，於基板之背面藉由旋轉夾頭而吸附保持之狀態下，對基板之主面供給處理液。
简体摘要：于第1及第2处理区块分别设置有搬送机构。各搬送机构具有手部。手部不与基板之端部接触地保持基板之另一面。借由手部移动，而于密接强化处理单元或冷却单元与涂布处理单元或显影处理单元之间搬送基板。于密接强化处理单元及冷却单元中，于吸附保持基板之背面之状态下，对基板进行温度处理。于涂布处理单元及显影处理单元中，于基板之背面借由旋转夹头而吸附保持之状态下，对基板之主面供给处理液。

2. 发明专利

TW201435973A 基板洗淨乾燥方法及基板顯影方法审中-公开
简体标题：基板洗净干燥方法及基板显影方法
公开(公告)号：TW201435973A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103100242
申请日：2014-01-03
申请人：迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：後藤友宏 , GOTO, TOMOHIRO , 柏山真人 , KASHIYAMA, MASAHITO , 高橋保夫 , TAKAHASHI, YASUO , 森田彰彥 , MORITA, AKIHIKO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67028
摘要：本發明之基板洗淨乾燥方法包括：洗淨步驟，其係對顯影後之基板供給洗淨液而洗淨基板；盛液步驟，其係將洗淨液盛於基板上；薄膜化步驟，其係使盛於基板上之洗淨液之膜厚變薄；以及乾燥步驟，其係使基板旋轉，形成覆蓋基板之上方之外氣流，而於外氣流與基板之間形成用以使基板上之洗淨液移動之內氣流。
简体摘要：本发明之基板洗净干燥方法包括：洗净步骤，其系对显影后之基板供给洗净液而洗净基板；盛液步骤，其系将洗净液盛于基板上；薄膜化步骤，其系使盛于基板上之洗净液之膜厚变薄；以及干燥步骤，其系使基板旋转，形成覆盖基板之上方之外气流，而于外气流与基板之间形成用以使基板上之洗净液移动之内气流。

3. 发明专利

TW201409601A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201409601A
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW102125989
申请日：2013-07-19
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD. , 迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：桑原丈二 , KUWAHARA, JOJI , 田口隆志 , TAGUCHI, TAKASHI , 柏山真人 , KASHIYAMA, MASAHITO , 岩崎宏平 , IWASAKI, KOHEI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： B05C13/00 , H01L21/67259 , H01L21/681
摘要：本發明之基板處理裝置基於表示利用把手之基板之接收位置及基板之載置位置之座標資訊而搬運基板。若基板自第1位置偏移，則在基板之中心自把手之正規位置偏移之狀態下利用把手接收基板。保持基板之把手向第2位置移動。在載置基板前，檢測基板之外周部之複數個部分。基於檢測結果，檢測基板相對於把手之正規位置之偏移，且在第2位置以使由把手所要載置之基板之中心位置與第2位置之中心之偏移抵消之方式修正座標資訊。
简体摘要：本发明之基板处理设备基于表示利用把手之基板之接收位置及基板之载置位置之座标信息而搬运基板。若基板自第1位置偏移，则在基板之中心自把手之正规位置偏移之状态下利用把手接收基板。保持基板之把手向第2位置移动。在载置基板前，检测基板之外周部之复数个部分。基于检测结果，检测基板相对于把手之正规位置之偏移，且在第2位置以使由把手所要载置之基板之中心位置与第2位置之中心之偏移抵消之方式修正座标信息。

4. 发明专利

TW201314820A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201314820A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101132390
申请日：2012-09-05
申请人：迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：柏山真人 , KASHIYAMA, MASAHITO , 後藤茂宏 , GOTO, SHIGEHIRO , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 後藤友宏 , GOTO, TOMOHIRO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/67259 , H01L21/681
摘要：本發明中，藉由對由塗佈處理單元中之旋轉夾頭旋轉之基板上供給處理液而形成處理液之膜，藉由對基板上之周緣部供給淋洗液而去除基板之周緣部上之處理液。對由邊緣曝光部中之旋轉夾頭旋轉之基板之外周部之位置與基板上之膜之外周部之位置間的切邊寬度進行檢測。根據所檢測之切邊寬度，判定保持於旋轉夾頭之基板之中心相對於塗佈處理單元中之旋轉夾頭之旋轉中心的位置偏移，並且判定邊緣淋洗噴嘴之淋洗液之供給狀態。
简体摘要：本发明中，借由对由涂布处理单元中之旋转夹头旋转之基板上供给处理液而形成处理液之膜，借由对基板上之周缘部供给淋洗液而去除基板之周缘部上之处理液。对由边缘曝光部中之旋转夹头旋转之基板之外周部之位置与基板上之膜之外周部之位置间的切边宽度进行检测。根据所检测之切边宽度，判定保持于旋转夹头之基板之中心相对于涂布处理单元中之旋转夹头之旋转中心的位置偏移，并且判定边缘淋洗喷嘴之淋洗液之供给状态。

5. 发明专利

TW201401413A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201401413A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102115291
申请日：2013-04-29
申请人：迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：柏山真人 , KASHIYAMA, MASAHITO , 西村和浩 , NISHIMURA, KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： B05C13/00 , H01L21/67167 , H01L21/67178 , H01L21/67751
摘要：本發明之載置部具有上段載置室及下段載置室。於上段載置室及下段載置室中分別設置有載置單元。於上段載置室及下段載置室中，分別設置有與塗佈處理室對應之複數個區域臂。又，於上段載置室及下段載置室中，設置有分別與複數個熱處理單元對應之複數個區域臂、分別與複數個密接強化處理單元對應之複數個區域臂、分別與複數個冷卻單元對應之複數個區域臂。
简体摘要：本发明之载置部具有上段载置室及下段载置室。于上段载置室及下段载置室中分别设置有载置单元。于上段载置室及下段载置室中，分别设置有与涂布处理室对应之复数个区域臂。又，于上段载置室及下段载置室中，设置有分别与复数个热处理单元对应之复数个区域臂、分别与复数个密接强化处理单元对应之复数个区域臂、分别与复数个冷却单元对应之复数个区域臂。

6. 发明专利

TW201430990A 對位裝置及基板處理裝置审中-公开
简体标题：对位设备及基板处理设备
公开(公告)号：TW201430990A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW102147650
申请日：2013-12-20
申请人：迅動股份有限公司 , SOKUDO CO., LTD.
发明人：柏山真人 , KASHIYAMA, MASAHITO
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/681
摘要：本發明之對準器包括複數個基板旋轉部及軸構件。各基板旋轉部包含保持部、凹槽檢測部、電磁離合器及驅動皮帶。各保持部真空吸附基板之背面而水平地保持基板。各凹槽檢測部檢測形成於基板之凹槽，並將其檢測結果作為檢測信號給予對應之電磁離合器。軸構件之一端連接於馬達。利用馬達使軸構件持續地旋轉。各電磁離合器根據自凹槽檢測部給予之檢測信號，切換成將內周部之旋轉力傳達至外周部之連接狀態與不將內周部之旋轉力傳達至外周部之切斷狀態。
简体摘要：本发明之对准器包括复数个基板旋转部及轴构件。各基板旋转部包含保持部、凹槽检测部、电磁离合器及驱动皮带。各保持部真空吸附基板之背面而水平地保持基板。各凹槽检测部检测形成于基板之凹槽，并将其检测结果作为检测信号给予对应之电磁离合器。轴构件之一端连接于马达。利用马达使轴构件持续地旋转。各电磁离合器根据自凹槽检测部给予之检测信号，切换成将内周部之旋转力传达至外周部之连接状态与不将内周部之旋转力传达至外周部之切断状态。

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