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31. 发明专利

JP2014222239A リング状照射を備える暗視野検査システム有权
标题翻译：具有环形照明的暗场检测系统
公开(公告)号：JP2014222239A
公开(公告)日：2014-11-27
申请号：JP2014140065
申请日：2014-07-07
申请人：ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： ZHAO GUOHENG , MEHDI VAEZ-IRAVANI , SCOTT YOUNG , BHASKAR KRIS
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/8806 , G01N2021/8822
摘要：【課題】スペックルノイズの影響を低減した暗視野ウエハ検査システムを提供する。【解決手段】サンプル表面の粗度によるスペックルノイズを最小限に抑える暗視野検査システムは、ウェハ104上に合成集束照射線を生成するための、複数のビーム成形経路101を含み得る。各ビーム成形経路101は、傾斜角でウェハ104を照射することができる。複数のビーム成形経路101は、リング状照射を形成することができる。このリング状照射は、スペックルの影響を低減することにより、SNRを改善することができる。対物レンズは、ウェハ104からの散乱光を捕捉することができ、画像センサーは、対物レンズの出力を受け取ることができる。ウェハ104の照射が傾斜角で実施されるため、対物レンズは高いNAを有し得、このことによって、画像センサーの光学解像度、および結果的に得られる信号レベルが改善される。【選択図】図1A
摘要翻译：要解决的问题：提供减少斑点噪声影响的暗视场晶片检查系统。解决方案：使由于样品表面粗糙度引起的散斑噪声最小化的暗场检查系统可以包括多个光束整形路径101，用于产生复合聚焦照明线路。每个光束整形路径101可以以倾斜角度照射晶片104。多个光束整形路径101可以形成环形照明。这种环形照明可以减少斑点效应，从而提高SNR。物镜可以捕获来自晶片104的散射光，成像传感器可以接收物镜的输出。由于晶片104的照射以倾斜角发生，所以物镜可以具有高NA，从而提高成像传感器的光学分辨率和所得到的信号电平。

32. 发明专利

JP2014211447A 偏光広帯域ウェーハ検査有权
标题翻译：极化宽带波形检测
公开(公告)号：JP2014211447A
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：JP2014141486
申请日：2014-07-09
申请人：ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： PETER HILL , ROBERT DANEN , WANG CHARLES
IPC分类号： G01N21/88 , G01B11/30 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/21 , G01N21/8806 , G01N21/956 , G03F7/7065
摘要：【課題】高感度および高スループットのウェーハ検査のための深紫外線、フレキシブル明視野および暗視野画像化システムを含む、広帯域紫外線の偏光制御を提供する。【解決手段】表面検査システムは、線形偏光子105およびアポクロマートの位相子107のうちの少なくとも1つを含む偏光制御アセンブリ103、開口制御機構109、およびビームスプリッタ113、を含み、対象の表面上へ放射線を指向する放射線指向アセンブリと、線形偏光子119およびアポクロマートの位相子121のうちの少なくとも1つを含む偏光制御アセンブリ117、開口制御機構123、および少なくとも1つの放射線検出装置127、を含み、前記対象の前記表面から反射する放射線を収集する放射線収集アセンブリと、を含む。【選択図】図1A
摘要翻译：要解决的问题：提供宽带紫外线的偏振控制，包括深紫外线，柔性明场和暗场成像系统，用于具有高灵敏度和高吞吐量的晶片检测。解决方案：表面检测系统包括：辐射导向组件目标辐射到物体的表面上，辐射导向组件包括偏振控制组件103，偏振控制组件103包括线性偏振器105和复消色差延迟器107中的至少一个，辐射导向组件还包括孔径控制机构109和分束器113 ; 用于收集从物体表面反射的辐射的辐射收集组件，所述辐射收集组件包括包括线性偏振器119和复消色差延迟器121中的至少一个的偏振控制组件117，所述辐射收集组件还包括孔径控制机构 123和至少一个辐射感测装置127。

33. 发明专利

JP2014123762A Process condition measurement device 有权
标题翻译：工艺条件测量装置
公开(公告)号：JP2014123762A
公开(公告)日：2014-07-03
申请号：JP2014031279
申请日：2014-02-21
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： SUN MEI , MARK WILTSE , WAYNE G RENKEN , REID ZACHARY , TONY DIBIASE
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67253 , G03F7/70616 , G03F7/7085 , G03F7/70875 , Y10T29/4913
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device which measures the temperature of wafers under exposure.SOLUTION: The device which measures parameters comprises: a substrate; a plurality of sensors 101-105 which measure parameters independently in different positions and are carried to the face of the substrate to be arranged thereon; electric conductors which spread on the surface and are connected to the sensors 101-105 and an electronic process component; and a cover which is arranged on the sensors 101-105, the electronic process component, and the conductors. The cover and the substrate have the same material characteristics to a manufacturing substrate to be processed by a substrate process cell. The present device has the approximately same thickness and/or flatness as that of the manufacturing substrate. A substrate process may be applied to the present device, and one or more parameters may be measured during the process using the present device. On the basis of parameter measurement by one or more sensors 101-105, operation characteristic of manufacturing wafers in the substrate process may be analyzed.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种测量曝光下晶片温度的装置。解决方案：测量参数的装置包括：基板; 多个传感器101-105，其独立于不同位置测量参数，并被传送到要布置在其上的基板的表面; 在表面上扩展并连接到传感器101-105和电子处理部件的电导体; 以及布置在传感器101-105，电子处理部件和导体上的盖。盖和基板与由基板处理单元加工的制造基板具有相同的材料特性。本装置具有与制造基板大致相同的厚度和/或平坦度。可以将衬底工艺应用于本装置，并且可以在使用本装置的工艺期间测量一个或多个参数。基于通过一个或多个传感器101-105的参数测量，可以分析在基板工艺中制造晶片的操作特性。

34. 发明专利

JP2014042048A Substrate processing apparatus and method 审中-公开
标题翻译：基板加工装置和方法
公开(公告)号：JP2014042048A
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：JP2013212848
申请日：2013-10-10
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： ZYWNO MAREK , NOAH BAREKET
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/027 , H01L21/683 , H02K41/02 , H02K41/025 , H02K41/03 , H02N15/00
CPC分类号： G03F7/70775 , F16C32/044 , G01N21/9501 , G03F7/704 , G03F7/70733 , G03F7/70816 , H01L21/67265 , H01L21/68714 , H01L21/68771
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing apparatus and a method thereof.SOLUTION: A substrate processing apparatus may comprise a support structure and a moveable stage including first and second stages 102 and 104. The moveable stage has one or more maglev units attached to the first stage 102 and/or the second stage 104 proximate an edge of the first stage 102. The first stage 102 retains one or more substrates and moves with respect to a first axis that is substantially fixed with respect to the second stage 104. The second stage 104 translates along a second axis with respect to the support structure. In other embodiments, a first motor may maintain a rotary stage at an angular speed and/or accelerate or decelerate the stage from a first angular speed to a second angular speed. A second motor may accelerate the stage from rest to the first angular speed and/or decelerate the stage from a non-zero angular speed.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种基板处理装置及其方法。解决方案：基板处理装置可以包括支撑结构和包括第一和第二平台102和104的可移动台。可移动台具有附接的一个或多个磁浮单元到第一阶段102的边缘附近的第一阶段102和/或第二阶段104.第一阶段102保持一个或多个基底并相对于基本上相对于第二阶段104固定的第一轴线移动。第二级104相对于支撑结构沿着第二轴线平移。在其他实施例中，第一马达可以以角速度保持旋转台，和/或将载物台从第一角速度加速或减速到第二角速度。第二马达可以将载物台从休止加速到第一角速度和/或使载物台从非零角速度减速。

35. 发明专利

JP2013242595A Catoptric objective mirror, broadband objective optical system with mirror, optical imaging system with catadioptric lens and broadband optical imaging system having two imaging paths or more 有权
标题翻译：目标目镜，宽带目标光学系统，具有镜面，光学成像系统，具有阴影镜头和宽带光学成像系统，具有两个成像条或更多
公开(公告)号：JP2013242595A
公开(公告)日：2013-12-05
申请号：JP2013156941
申请日：2013-07-29
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： HWANG SHIOW-HWEI , GREGORY L KIRK , HWAN J JEONG , DAVID SHAFER , RUSSELL HUDYMA
IPC分类号： G02B17/08 , G01N21/956 , G02B13/18
CPC分类号： G02B17/0808 , G02B17/0652 , G02B17/084 , G02B21/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a broadband objective optical system and a broadband optical imaging system with two imaging paths or more that allow a use of a much shorter wavelength to improve resolving power as to an imaging optical device for sample inspection and avoid a risk of contaminant diffusion on a wafer.SOLUTION: An optical system includes an objective optical system with at least four mirrors and a focus adjustment optical system, and the mirrors include an outermost mirror with an aspect ratio equal to or less than 20:1. The focus adjustment optical system includes a refractive optical element. The objective optical system is configured to provide imaging at a numerical aperture equal to or greater than 0.7 and with central obscuration as low as 35%. The objective optical system may include two mirrors or more and one of the two or more mirrors contains a refractive module that seals off a central opening of the outermost mirror. The broadband imaging system may include one objective optical system and two or more imaging paths and the imaging paths are configured to provide imaging at the numeral aperture equal to or more than 0.7 and a field of view equal to or more than 0.8 mm.
摘要翻译：要解决的问题：提供宽带物镜光学系统和宽带光学成像系统，其具有两个成像路径或更多，允许使用更短的波长来提高用于样本检查的成像光学装置的分辨率，并避免风险污染物扩散在晶片上。解决方案：光学系统包括具有至少四个反射镜和焦点调节光学系统的物镜光学系统，并且反射镜包括具有等于或小于20:1的纵横比的最外镜。聚焦调整光学系统包括折射光学元件。物镜光学系统被配置为提供等于或大于0.7的数值孔径并且具有低至35％的中心遮蔽的成像。物镜光学系统可以包括两个反射镜或多于一个，并且两个或更多个反射镜中的一个包含折射模块，该折射模块密封最外侧镜的中心开口。宽带成像系统可以包括一个物镜光学系统和两个或更多个成像路径，并且成像路径被配置为提供等于或大于0.7的数值孔径和等于或大于0.8mm的视场的成像。

36. 发明专利

JP2013012184A Robust peak finder for sample data 有权
标题翻译：用于样本数据的稳健峰值查找器
公开(公告)号：JP2013012184A
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：JP2012119119
申请日：2012-05-25
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： HARISCH P HILIANNIER , DONALD WALKER
IPC分类号： G06F17/18 , G06T7/60
CPC分类号： G06F17/18
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To determine a peak value in a histogram or sample data stream for data with a lot of noise.SOLUTION: An embodiment includes: fitting a curve modeled based on an orthonormal expansion to a data sequence; acquiring a derivative curve representing change in gradients in the curve fitted to the data sequence; finding at least one root of the derivative curve; calculating a corresponding value on the curve fitted to the data sequence for each of the one root of the derivative curve; and determining a peak value in the data sequence based on the maximum value of the corresponding values calculated for the one root of the derivative curve.
摘要翻译：要解决的问题：确定具有大量噪声的数据的直方图或采样数据流中的峰值。解决方案：一个实施例包括：将基于正交扩展建模的曲线拟合到数据序列; 获取表示拟合到数据序列的曲线中的梯度变化的导数曲线; 找到导数曲线的至少一个根; 计算拟合到导数曲线的每个根的数据序列的曲线上的相应值; 并且基于针对所述导数曲线的一根计算出的对应值的最大值来确定所述数据序列中的峰值。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

37. 发明专利

JP2012248535A Device and method for forming conductive passage through insulating layer 有权
标题翻译：通过绝缘层形成导电通道的装置和方法
公开(公告)号：JP2012248535A
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：JP2012116119
申请日：2012-05-22
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： THOMAS PLETTNER , MEHRAN NACEL-GOSH , ROBERT HEINES , RUDY GARCIA
IPC分类号： H01J37/20 , H01L21/66
CPC分类号： H01L21/743
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To electrically ground a substrate through an insulating layer on a surface of the substrate by nondestructive method.SOLUTION: It relates to a device for forming a conductive passage through an insulating layer on a surface of a substrate. A first radiation source is arranged so as to emit radiation to a first region of the insulating layer and a first electric contact is arranged so as to apply a first bias voltage to the first region. A second radiation source is arranged so as to emit radiation to a second region of the insulating layer and a second electric contact is arranged so as to apply a second bias voltage to the second region. Conductivity of the regions is increased by radiation such that a conduction passage is formed through the insulating layer in the regions. In an embodiment, the device can be used in an electron beam apparatus. Another embodiment relates to a method for forming the conductive passage through the insulating layer.
摘要翻译：要解决的问题：通过非破坏性方法将衬底电绝缘在衬底表面上的绝缘层。解决方案：涉及用于形成通过基板表面上的绝缘层的导电通路的装置。第一辐射源被布置成向绝缘层的第一区域发射辐射，并且布置第一电触点以便向第一区域施加第一偏置电压。第二辐射源被布置成将辐射发射到绝缘层的第二区域，并且布置第二电触点以便向第二区域施加第二偏置电压。通过辐射增加区域的电导率，使得通过该区域中的绝缘层形成传导通道。在一个实施例中，该装置可以用在电子束装置中。另一实施例涉及一种用于形成穿过绝缘层的导电通路的方法。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

38. 发明专利

JP2012247811A Ultra-broadband uv microscope imaging system with wide range zoom capability 审中-公开
标题翻译：超宽带紫外显微镜成像系统，具有宽范围的变焦能力
公开(公告)号：JP2012247811A
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：JP2012207059
申请日：2012-09-20
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： SHAFER DAVID ROSS , CHUANG YUNG-HO , TSAI BIN-MING BENJAMIN
IPC分类号： G01N21/33 , G02B17/08 , G02B13/14 , G02B15/14 , G02B15/15 , G02B15/16 , G02B21/00 , G02B21/02 , G02B21/04 , G02B21/16 , G03C5/16 , G03F1/84 , G03F3/00 , G03F7/20 , H04N5/225
CPC分类号： G03F7/70616 , G02B17/0808 , G02B17/0856 , G02B17/0892 , G02B21/16 , G03F1/84 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G03F7/7065
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultra-broadband ultraviolet (UV) catadioptric imaging microscope system with wide-range zoom capability.SOLUTION: The microscope system, which comprises a catadioptric lens group and a zooming tube lens group, has high optical resolution in the deep UV wavelengths, continuously adjustable magnification, and a high numerical aperture. The system integrates microscope modules such as objectives, tube lenses and zoom optics to reduce the number of components, and to simplify the system manufacturing process. The preferred embodiment offers excellent image quality across a very broad deep ultraviolet spectral range, combined with an all-refractive zooming tube lens. The zooming tube lens is modified to compensate for higher-order chromatic aberrations that normally limits performance.
摘要翻译：要解决的问题：提供具有宽范围变焦能力的超宽带紫外（UV）反折射成像显微镜系统。
解决方案：包括反折射透镜组和变焦管透镜组的显微镜系统在深UV波长，连续可调放大倍率和高数值孔径下具有高分辨率。该系统集成了诸如目标，管镜和变焦光学的显微镜模块，以减少部件数量，并简化系统制造过程。优选实施例在非常广泛的深紫外光谱范围内提供优异的图像质量，与全折射变焦管透镜组合。变焦管镜头被修改以补偿通常限制性能的高阶色差。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

39. 发明专利

JP2012084886A Pattern generating device and generating method 审中-公开
标题翻译：图案生成装置和生成方法
公开(公告)号：JP2012084886A
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：JP2011223782
申请日：2011-10-11
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： SHINICHI KOJIMA , CHRISTOPHER F BEVIS , ALLEN M CARROLL
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/305
CPC分类号： G03F7/70291
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an innovative layout of pixels of a pattern generating device of a reflection electron beam lithography device.SOLUTION: The embodiment relates to a device for drawing a pattern on an objective substrate. The device includes a plurality of arrays of pixels, with each array being offset from each other. In addition, the device includes a generation source 1202 and a lens for generating incident beam focused on a plurality of arrays, as well as a circuit for controlling the pixels in each array so that a pixel portion selectively reflects the incident beam, to form a patterned beam. The device further includes a projector 1214 for projecting the pattered beam onto the objective substrate. Other characteristics, modes, and embodiments are disclosed as well.
摘要翻译：要解决的问题：提供反射电子束光刻装置的图案生成装置的像素的创新布局。解决方案：本实施例涉及用于在目标基板上绘制图案的装置。该装置包括多个像素阵列，每个阵列彼此偏移。另外，该装置还包括一个发生源1202和用于产生聚焦在多个阵列上的入射光束的透镜，以及用于控制每个阵列中的像素的电路，使得像素部分选择性地反射入射光束，形成图案光束。该装置还包括用于将图示的光束投射到物镜基板上的投影仪1214。还公开了其它特征，模式和实施例。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

40. 发明专利

JP2011176316A Electron reflector with multiple reflective mode 有权
标题翻译：具有多重反射模式的电子反射器
公开(公告)号：JP2011176316A
公开(公告)日：2011-09-08
申请号：JP2011036851
申请日：2011-02-23
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： GRELLA LUCA , FREED REGINA , MCCORD MARK A
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3175 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31789
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of controllably reflecting electrons from an array of electron reflectors to make electron beam projection lithography possible at low cost because of maskless processing, and a device of a dynamic pattern generation machine for reflective electron beam lithography. SOLUTION: An input electron beam is formed from an electron source, and the input beam is introduced into the array of electron reflectors. A first plurality of reflective plates are configured to reflect electrons in a first reflective mode in which reflected electrons coming out of the reflective plates form a focusing beam. A second plurality of reflective plates are configured to reflect electrons in a second reflective mode in which reflective electrons coming out of the reflective plates are defocused. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种从电子反射器阵列可控地反射电子的方法，以便由于无掩模处理而以低成本实现电子束投影光刻，以及用于反射电子束的动态图案生成机的装置光刻。解决方案：由电子源形成输入电子束，并将输入光束引入电子反射器阵列。第一多个反射板被配置成以第一反射模式反射电子，其中从反射板出来的反射电子形成聚焦光束。第二多个反射板被配置为以第二反射模式反射电子，其中从反射板流出的反射电子散焦。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

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