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1. 发明专利

JP2015057656A 反射対物鏡、ミラーを有する広帯域対物光学系、及び屈折レンズを有する光学撮像システム、及び２つ以上の結像経路を有する広帯域光学撮像システム有权
标题翻译：具有目标目镜的光学成像系统，具有镜面和折射镜的宽带目标光学，以及具有两个或更多成像片段的宽带光学成像系统
公开(公告)号：JP2015057656A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：JP2014210549
申请日：2014-10-15
申请人：ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation , Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： HWANG SHIOW-HWEI , GREGORY L KIRK , HWAN J JEONG , DAVID SHAFER , RUSSELL HUDYMA
IPC分类号： G02B17/00 , G02B13/14 , G03F1/84
CPC分类号： G02B17/0808 , G02B17/0652 , G02B17/084 , G02B21/04
摘要：【課題】反射対物光学系、反射屈折対物光学系の使用、及び複数の波長帯域及び/または検査モードの同時使用に好適な光学系を提供する。【解決手段】試料検査用の光学システムにおいて、最外部のミラーを含む少なくとも1つのミラーを具えた対物光学系142と、対物光学系に光結合され、1つ以上の屈折光学素子を含む焦点調節光学系とを具え、対物光学系は、0.7以上の開口数、瞳孔内の35%以下の中心不明瞭化で結像を行い、最外部のミラー115’の試料側のアスペクト比が20:1以下である。【選択図】図1b
摘要翻译：要解决的问题：提供适合使用反射物镜光学和反折射物镜光学的光学器件，以及同时使用多个波长带和/或检查模式。解决方案：用于样品检查的光学系统包括：具有至少一个镜子包括最外面的镜子; 并且聚焦光学器件光学耦合到物镜光学元件并且包括一个或多个折射光学元件。目标光学器件以0.7或更大的数值孔径执行成像，并且在瞳孔中进行35％或更小的中心遮蔽。样品侧的最外镜115'的纵横比为20:1或更小。

2. 发明专利

JP2013242595A Catoptric objective mirror, broadband objective optical system with mirror, optical imaging system with catadioptric lens and broadband optical imaging system having two imaging paths or more 有权
标题翻译：目标目镜，宽带目标光学系统，具有镜面，光学成像系统，具有阴影镜头和宽带光学成像系统，具有两个成像条或更多
公开(公告)号：JP2013242595A
公开(公告)日：2013-12-05
申请号：JP2013156941
申请日：2013-07-29
申请人： Kla-Tencor Corp , ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
发明人： HWANG SHIOW-HWEI , GREGORY L KIRK , HWAN J JEONG , DAVID SHAFER , RUSSELL HUDYMA
IPC分类号： G02B17/08 , G01N21/956 , G02B13/18
CPC分类号： G02B17/0808 , G02B17/0652 , G02B17/084 , G02B21/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a broadband objective optical system and a broadband optical imaging system with two imaging paths or more that allow a use of a much shorter wavelength to improve resolving power as to an imaging optical device for sample inspection and avoid a risk of contaminant diffusion on a wafer.SOLUTION: An optical system includes an objective optical system with at least four mirrors and a focus adjustment optical system, and the mirrors include an outermost mirror with an aspect ratio equal to or less than 20:1. The focus adjustment optical system includes a refractive optical element. The objective optical system is configured to provide imaging at a numerical aperture equal to or greater than 0.7 and with central obscuration as low as 35%. The objective optical system may include two mirrors or more and one of the two or more mirrors contains a refractive module that seals off a central opening of the outermost mirror. The broadband imaging system may include one objective optical system and two or more imaging paths and the imaging paths are configured to provide imaging at the numeral aperture equal to or more than 0.7 and a field of view equal to or more than 0.8 mm.
摘要翻译：要解决的问题：提供宽带物镜光学系统和宽带光学成像系统，其具有两个成像路径或更多，允许使用更短的波长来提高用于样本检查的成像光学装置的分辨率，并避免风险污染物扩散在晶片上。解决方案：光学系统包括具有至少四个反射镜和焦点调节光学系统的物镜光学系统，并且反射镜包括具有等于或小于20:1的纵横比的最外镜。聚焦调整光学系统包括折射光学元件。物镜光学系统被配置为提供等于或大于0.7的数值孔径并且具有低至35％的中心遮蔽的成像。物镜光学系统可以包括两个反射镜或多于一个，并且两个或更多个反射镜中的一个包含折射模块，该折射模块密封最外侧镜的中心开口。宽带成像系统可以包括一个物镜光学系统和两个或更多个成像路径，并且成像路径被配置为提供等于或大于0.7的数值孔径和等于或大于0.8mm的视场的成像。

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