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21. 发明专利

TW201530690A 用於化學氣相沉積系統之具有隔熱蓋的晶圓載具审中-公开
简体标题：用于化学气相沉积系统之具有隔热盖的晶圆载具
公开(公告)号：TW201530690A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103145394
申请日：2014-12-25
申请人：威科精密儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS, INC.
发明人：古拉瑞亞歷山大I , GURARY, ALEXANDER I. , 阿莫艾瑞克 , ARMOUR, ERIC
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67333 , C23C16/4584 , C23C16/46 , H01L21/68735 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , Y10T29/49826 , Y10T29/49837
摘要：本發明基本上為關於半導體製造技術，更具體地說，關於化學氣相沉積(CVD)加工及其用以處理半導體晶圓表面溫度不均之關聯設備。實施例包括一種適用於藉由CVD在晶圓上成長磊晶層之系統之晶圓載具，該晶圓載具包含一頂板及一底板，其作用為協調地減少在CVD加工期間所造成的溫度變異性。
简体摘要：本发明基本上为关于半导体制造技术，更具体地说，关于化学气相沉积(CVD)加工及其用以处理半导体晶圆表面温度不均之关联设备。实施例包括一种适用于借由CVD在晶圆上成长磊晶层之系统之晶圆载具，该晶圆载具包含一顶板及一底板，其作用为协调地减少在CVD加工期间所造成的温度变异性。

22. 发明专利

TW201500579A 具有熱一致性改善特色的晶圓舟盒审中-公开
简体标题：具有热一致性改善特色的晶圆舟盒
公开(公告)号：TW201500579A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103119321
申请日：2014-06-04
申请人：威科精密儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS, INC.
发明人：阿莫艾瑞克 , ARMOUR, ERIC , 克里斯南山迪普 , KRISHNAN, SANDEEP , 張艾力克斯 , ZHANG, ALEX , 米特羅維克波簡 , MITROVIC, BOJAN , 古拉瑞亞歷山大 , GURARY, ALEXANDER
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/46
CPC分类号： C30B25/12 , C23C16/4584 , C23C16/4586 , C23C16/46 , C30B25/105 , Y10T29/49826
摘要：一種晶圓舟盒(或稱載具)裝置，適用於一系統內，其中該系統是用於利用化學氣相沉積方式將磊晶層生長在一或多片晶圓上，該晶圓載具裝置包含一晶圓載具主體，係以一中心軸而對稱配置，且包括垂直於該中心軸之一大致平坦的上表面及水平於該上表面之一平坦的下表面。至少一晶圓留置袋部係從該上表面凹陷於該晶圓載具主體內。每一該些容置袋部包括一底部表面及環繞該底部表面之一周緣壁面，該周緣壁面定義該晶圓留置袋部的一周圍。至少一熱控制特徵包括形成於該晶圓載具主體中且由該晶圓載具主體之內表面所定義之一內空腔或空洞。
简体摘要：一种晶圆舟盒(或称载具)设备，适用于一系统内，其中该系统是用于利用化学气相沉积方式将磊晶层生长在一或多片晶圆上，该晶圆载具设备包含一晶圆载具主体，系以一中心轴而对称配置，且包括垂直于该中心轴之一大致平坦的上表面及水平于该上表面之一平坦的下表面。至少一晶圆留置袋部系从该上表面凹陷于该晶圆载具主体内。每一该些容置袋部包括一底部表面及环绕该底部表面之一周缘壁面，该周缘壁面定义该晶圆留置袋部的一周围。至少一热控制特征包括形成于该晶圆载具主体中且由该晶圆载具主体之内表面所定义之一内空腔或空洞。

23. 实用新型

TWM477041U 加熱器組件有权
简体标题：加热器组件
公开(公告)号：TWM477041U
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW102220470
申请日：2013-11-04
申请人：威科精密儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS, INC.
发明人：古拉瑞亞歷山大I , GURARY, ALEXANDER I. , 波古斯拉夫斯基威汀 , BOGUSLAVSKIY, VADIM
IPC分类号： H01L21/365

24. 发明专利

TW201403037A 化學氣相沉積反應器中輻射測量偏誤的縮減审中-公开
简体标题：化学气相沉积反应器中辐射测量偏误的缩减
公开(公告)号：TW201403037A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102121844
申请日：2013-06-20
申请人：威科精密儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS, INC.
发明人：塔斯古瑞 , TAS, GURAY , 周進 , ZHOU, JING , 權大元 , KWON, DAEWON
IPC分类号： G01J5/00 , G01J5/02 , H01L21/67 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/481 , C23C16/52
摘要：一種在例如CVD反應器之外殼中用以減少輻射測溫(量)偏誤之設備。在一實施例中，輻射測溫計利用焦外遠心透鏡裝置，焦外遠心透鏡裝置聚焦於無限遠處，但卻被用於捕獲來自於焦點外之相對接近之目標物(例如在數公尺內)之輻射；捕獲來自目標物之準直的輻射減少了雜散輻射之貢獻。在另一實施例中，源自於周圍加熱元件之指定部分之散射輻射，可藉由若干機制其中一者而局部地減少，包含減少指定部分之發射(例如操作溫度)、或者捕獲源自於該指定部分之輻射之一部分或使其偏斜。固定於接近由晶圓載具之中心延伸之軸線並橫跨該指定部分的輻射測溫計承受較少的雜散輻射，藉此可提供更可靠之溫度讀數。
简体摘要：一种在例如CVD反应器之外壳中用以减少辐射测温(量)偏误之设备。在一实施例中，辐射测温计利用焦外远心透镜设备，焦外远心透镜设备聚焦于无限远处，但却被用于捕获来自于焦点外之相对接近之目标物(例如在数公尺内)之辐射；捕获来自目标物之准直的辐射减少了杂散辐射之贡献。在另一实施例中，源自于周围加热组件之指定部分之散射辐射，可借由若干机制其中一者而局部地减少，包含减少指定部分之发射(例如操作温度)、或者捕获源自于该指定部分之辐射之一部分或使其偏斜。固定于接近由晶圆载具之中心延伸之轴线并横跨该指定部分的辐射测温计承受较少的杂散辐射，借此可提供更可靠之温度读数。

25. 发明专利

TW201026866A 線性沉積源 LINEAR DEPOSITION SOURCE 失效
简体标题：线性沉积源 LINEAR DEPOSITION SOURCE
公开(公告)号：TW201026866A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098142831
申请日：2009-12-15
申请人：威科精密儀器公司
发明人：康瑞雀徳 , 沛瑞迪史考特偉恩 , 戴史龍賈卡柏A , 布斯納漢瑞奇 , 賈霍德大衛威廉 , 派翠恩約翰
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/562 , Y02E10/541 , Y02P70/521
摘要：一種沉積源包含複數個坩堝，每一坩堝包含一沉積材料。一熱遮罩，對於複數個坩堝的至少一者提供至少部分的熱隔離。一本體，包含有複數個傳導通道。複數個的傳導通道的每一者的一輸入端是耦接至複數個坩堝之個別一者的一輸出端。一加熱器增加複數個坩堝的溫度，以至於每一坩堝蒸發該沉積材料進入複數個傳導通道。複數個噴嘴的每一者的一輸入端是耦接至複數個傳導通道之一的一輸出端。從該等坩堝通過該傳導通道傳輸蒸發之沉積材料至該等噴嘴，在此該蒸發之沉積材料從複數個噴嘴噴出以形成一沉積流束。
简体摘要：一种沉积源包含复数个坩埚，每一坩埚包含一沉积材料。一热遮罩，对于复数个坩埚的至少一者提供至少部分的热隔离。一本体，包含有复数个传导信道。复数个的传导信道的每一者的一输入端是耦接至复数个坩埚之个别一者的一输出端。一加热器增加复数个坩埚的温度，以至于每一坩埚蒸发该沉积材料进入复数个传导信道。复数个喷嘴的每一者的一输入端是耦接至复数个传导信道之一的一输出端。从该等坩埚通过该传导信道传输蒸发之沉积材料至该等喷嘴，在此该蒸发之沉积材料从复数个喷嘴喷出以形成一沉积流束。

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