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11. 发明授权

KR101328097B1 티에프티 엘시디용 칼라 레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：用于TFT-LCD制备的彩色去除组合物
公开(公告)号：KR101328097B1
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：KR1020070000865
申请日：2007-01-04
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 장석창 , 윤석일 , 정세환 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 티에프티 엘시디의 칼라필터 공정 중 발생하는 불량의 기판을 재사용하기 위해 칼라레지스트 패턴 및 오버코트를 제거하는 티에프티 엘시디용 칼라레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (a) 무기 알칼리 하이드록사이드, 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬 암모늄 하이드록사이드 및 페닐알킬 암모늄 하이드록사이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 하이드록사이드 화합물 1 내지 50 중량%, (b) 극성을 가진 황화합물 5 내지 30 중량%, (c) 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬렌 글리콜 에테르 5 내지 35 중량%, (d) 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬렌 글리콜 디알킬 에테르 2 내지 30 중량%, (e) 수용성 아민 화합물 2 내지 30 중량%, 및 (f) 잔량의 물을 포함하는 칼라 필터용 박리액 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 칼라 레지스트 박리액 조성물은 칼라 레지스트와 오버코트를 단시간 내에 제거할 수 있고, 하부의 금속배선의 부식을 최소화할 수 있으며, 후속의 린스 공정에서 이소프로필알콜, 디메틸설폭사이드와 같은 유기용제를 사용할 필요 없이 물만으로 린스 할 수 있는 장점이 있어, 종래 칼라 레지스트 패턴의 제거가 곤란하여 대부분 폐기되었던 칼라 필터 기판의 재사용을 가능케 한다.
칼라 레지스트, 오버코트, 박리액, 티에프티 엘시디

12. 发明公开

KR1020060045957A 레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：用于去除（照片）电阻的组合物
公开(公告)号：KR1020060045957A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：KR1020050038213
申请日：2005-05-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤석일 , 김성배 , 정종현 , 박희진 , 장석창 , 신성건 , 김위용 , 허순범 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/426
摘要： 본 발명은 전자회로 또는 표시소자를 패턴하는 레지스트(resist) 제거용 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 아민, 용제 및 부식방지제를 포함하며, 상기 부식방지제가 트리아졸류 화합물, 머캅토류 화합물, 하이드록실기를 갖는 벤젠류 화합물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 레지스트 제거용 조성물을 제공한다.
본 발명의 레지스트 제거용 조성물은 레지스트 제거력이 매우 우수하고, 패턴된 금속배선의 부식을 최소화 할 수 있는 장점이 있다.
레지스트 제거용 조성물, 부식방지제

13. 发明公开

KR1020050036308A 세정장치 및 이를 이용한 세정방법 无效
标题翻译：清洁装置和使用该清洁装置的清洁方法
公开(公告)号：KR1020050036308A
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：KR1020030071942
申请日：2003-10-15
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤석일 , 김성배 , 장석창
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 세정장치에 관한 것으로, 특히 액정표시장치 기판의 제조방법에 있어서 포토레지스트를 제거하기 위하여 사용되는 스트리퍼를 세정하는 공정에 적합한 세정장치 및 이를 이용한 세정방법에 관한 것이다.
본 발명의 세정장치는 스트리퍼의 세정에 적합한 세정액을 간단한 구성으로 제어가 가능하며, 정량적 및 정성적인 면에서 자동적으로 세정액을 공급하여 세정공정을 원활하게 하며, 상기 세정장치를 이용한 세정방법은 액정표시장치의 배선금속의 부식 없이 잔류유기물을 제거할 수 있으며, 배선금속의 부식 및 잔류유기물의 제거를 위하여 추가적으로 사용되는 약품비를 절감함으로써 생산비용을 현저히 감소시킬 수 있다.

14. 发明公开

KR1020070075277A 티에프티 엘시디용 칼라 레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：用于TFT-LCD制备的彩色去除组合物
公开(公告)号：KR1020070075277A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：KR1020070000865
申请日：2007-01-04
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 장석창 , 윤석일 , 정세환 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D1/40 , C11D11/0047 , G03F7/0007 , G03F7/34 , G03F7/422
摘要： Provided is a color resist remover composition for removing color resist and over coat of inferior substrates produced in the preparation process of a color filter of TFT-LCD, whereby the substrates can be used as a black mask or a glass substrate. The remover composition includes (a) 1 to 50 wt% of a hydroxide compound selected from the group consisting of an inorganic alkali hydroxide, alkyl ammonium hydroxide and phenyl alkyl ammonium hydroxide, in which the alkyl group has 1-4 carbon atoms, (b) 5 to 30 wt% of a sulfuric compound having a polarity, (c) 5 to 35 wt% of alkylene glycol ether, in which the alkyl group has 1 to 4 carbon atoms, (d) 2 to 30 wt% of alkylene glycol dialkyl ether, in which the alkyl group has 1 to 4 carbon atoms, (e) 2 to 30 wt% of water-soluble amine compound, and (f) the balance of water. The stripper composition can readily remove color resist in a short period of time and be rinsed away by water without using an organic solvent.
摘要翻译：本发明提供了一种用于去除TFT-LCD滤色片制备工艺中产生的劣质基板的色光抗蚀剂和外涂层的色素去除剂组合物，由此可将基板用作黑色掩模或玻璃基板。除去组合物包含（a）1〜50重量％的选自烷基具有1-4个碳原子的无机碱金属氢氧化物，烷基氢氧化铵和苯基烷基氢氧化铵的氢氧化物，（b ）5〜30重量％的具有极性的硫酸化合物，（c）5〜35重量％的烷基具有1〜4个碳原子的亚烷基二醇醚，（d）2〜30重量％的亚烷基二醇其中烷基具有1至4个碳原子的二烷基醚，（e）2至30重量％的水溶性胺化合物，和（f）余量的水。脱模剂组合物可以在短时间内容易地除去抗蚀剂，并且在不使用有机溶剂的情况下用水漂洗掉。

15. 发明公开

KR1020050120914A 레지스트 제거용 조성물 无效
公开(公告)号：KR1020050120914A
公开(公告)日：2005-12-26
申请号：KR1020040046031
申请日：2004-06-21
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 김성배 , 윤석일 , 장석창
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 전자회로 또는 표시소자의 금속배선을 패턴하는 레지스트 제거용 조성물에 관한 것으로, 상기 레지스트 제거용 조성물은 알킬렌 카보네이트와, 3차 아민 및 산화제 중 적어도 어느 하나를 포함한다.
본 발명의 레지스트 제거용 조성물은 패턴된 금속막의 상부에 잔류하는 레지스트를 제거하는 제거력이 우수하고, 고온에서 휘발에 따른 조성변화 및 약액 피로도가 미세하며, 패턴된 금속막의 부식을 최소화 할 수 있는 장점이 있다.

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