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11. 发明专利

TW201321547A 原料氣化供給裝置审中-公开
简体标题：原料气化供给设备
公开(公告)号：TW201321547A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101123716
申请日：2012-07-02
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485
摘要： [課題]可一面使用壓力式流量控制裝置，來對將固體原料或液體原料加熱所生成的原料蒸氣進行流量控制，一面安定供給至製程腔室，藉此達成原料的氣化供給裝置的小型化、及半導體製品的品質提升，並且可輕易進行原料的殘量管理。[課題解決手段]由：貯留原料的來源槽；將原料蒸氣由來源槽的內部空間部供給至製程腔室的原料蒸氣供給路；被介設在該原料蒸氣供給路，且控制供給至製程腔室的原料蒸氣流量的壓力式流量控制裝置；及將前述來源槽、供給路、及壓力式流量控制裝置加熱至設定溫度的恆溫加熱部所構成，將在來源槽的內部空間部所生成的原料蒸氣，一面藉由壓力式流量控制裝置進行流量控制，一面供給至製程腔室。
简体摘要： [课题]可一面使用压力式流量控制设备，来对将固体原料或液体原料加热所生成的原料蒸气进行流量控制，一面安定供给至制程腔室，借此达成原料的气化供给设备的小型化、及半导体制品的品质提升，并且可轻易进行原料的残量管理。[课题解决手段]由：贮留原料的来源槽；将原料蒸气由来源槽的内部空间部供给至制程腔室的原料蒸气供给路；被介设在该原料蒸气供给路，且控制供给至制程腔室的原料蒸气流量的压力式流量控制设备；及将前述来源槽、供给路、及压力式流量控制设备加热至设置温度的恒温加热部所构成，将在来源槽的内部空间部所生成的原料蒸气，一面借由压力式流量控制设备进行流量控制，一面供给至制程腔室。

12. 发明专利

TW201319305A 具備原料濃度檢測機構之原料氣化供給裝置审中-公开
简体标题：具备原料浓度检测机构之原料气化供给设备
公开(公告)号：TW201319305A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101127436
申请日：2012-07-30
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 中村剛 , NAKAMURA, TAKESHI
IPC分类号： C23C16/52 , C23C16/448
CPC分类号： F17D3/00 , C23C16/4482 , C23C16/45561 , G05D11/135 , Y10T137/8158
摘要： [課題]構成為：能夠對於載體氣體和原料氣體之混合氣體內的原料濃度作正確的調整，並能夠在高精確度之流量控制下而對於製程腔作安定的供給，並且，不需使用高價之濃度計等，便能夠將混合氣體內之原料氣體蒸氣濃度簡單地以高精確度而檢測出來並作即時顯示。[解決手段]在通過質量流控制器(3)而將載體氣體(GK)供給至原料槽(5)內，並從原料槽(5)內而放出載體氣體(GK)，並且將藉由以恆溫部來將原料槽(5)保持在一定溫度所產生的原料(4)之飽和蒸氣(G)以及前述載體氣體(GK)之混合氣體(GS)供給至製程腔處的原料氣化供給裝置中，構成為：在從前述原料槽(5)而來之混合氣體(GS)的流出通路處，設置自動壓力調整裝置(8)，並且在其之下游側處設置質量流計(9)，並藉由對於前述自動壓力調整機構(8)之控制閥(8a)作開閉控制，來將原料槽(5)之內部壓力(PO)控制為特定值，再將由前述質量流控制器(3)所致之載體氣體(GK)的流量(Q1)和前述槽內壓(PO)以及前述質量流計(9)之混合氣體(GS)的流量(QS)之各檢測值，輸入至原料濃度演算部(10)中，在該原料濃度演算部(10)中，將原料流量(Q2)藉由Q2=QS×PMO/PO而進行演算，再使用該原料流量(Q2)，而將供給至前述製程腔之混合氣體(GS)的原料氣體蒸氣濃度(K)，作為K=Q2/QS而演算出來並作顯示，其中，前述(PMO)，係為原料槽內之在溫度t℃時的原料氣體(G)之飽和蒸氣壓。
简体摘要： [课题]构成为：能够对于载体气体和原料气体之混合气体内的原料浓度作正确的调整，并能够在高精确度之流量控制下而对于制程腔作安定的供给，并且，不需使用高价之浓度计等，便能够将混合气体内之原料气体蒸气浓度简单地以高精确度而检测出来并作实时显示。[解决手段]在通过质量流控制器(3)而将载体气体(GK)供给至原料槽(5)内，并从原料槽(5)内而放出载体气体(GK)，并且将借由以恒温部来将原料槽(5)保持在一定温度所产生的原料(4)之饱和蒸气(G)以及前述载体气体(GK)之混合气体(GS)供给至制程腔处的原料气化供给设备中，构成为：在从前述原料槽(5)而来之混合气体(GS)的流出通路处，设置自动压力调整设备(8)，并且在其之下游侧处设置质量流计(9)，并借由对于前述自动压力调整机构(8)之控制阀(8a)作开闭控制，来将原料槽(5)之内部压力(PO)控制为特定值，再将由前述质量流控制器(3)所致之载体气体(GK)的流量(Q1)和前述槽内压(PO)以及前述质量流计(9)之混合气体(GS)的流量(QS)之各检测值，输入至原料浓度演算部(10)中，在该原料浓度演算部(10)中，将原料流量(Q2)借由Q2=QS×PMO/PO而进行演算，再使用该原料流量(Q2)，而将供给至前述制程腔之混合气体(GS)的原料气体蒸气浓度(K)，作为K=Q2/QS而演算出来并作显示，其中，前述(PMO)，系为原料槽内之在温度t℃时的原料气体(G)之饱和蒸气压。

13. 发明专利

TWI588452B 液面偵測電路、液面計、具備其之容器、及使用該容器的汽化器有权
简体标题：液面侦测电路、液面计、具备其之容器、及使用该容器的汽化器
公开(公告)号：TWI588452B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW104140166
申请日：2015-12-01
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01F23/22
CPC分类号： G01F23/246 , G01F23/241 , G01F23/243

14. 发明专利

TWI534575B 孔口板及壓力式流量控制裝置有权
简体标题：孔口板及压力式流量控制设备
公开(公告)号：TWI534575B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW103114392
申请日：2014-04-21
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 廣瀬 , HIROSE, TAKASHI
IPC分类号： G05D7/01 , G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0635 , F16L55/02718

15. 发明专利

TWI525734B 半導體製造裝置之原料氣體供給裝置有权
简体标题：半导体制造设备之原料气体供给设备
公开(公告)号：TWI525734B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW101117394
申请日：2012-05-16
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： C23C16/448 , C23C16/4485 , C23C16/45561 , C23C16/52 , Y10T137/86485

16. 发明专利

TWI481740B 原料氣化供給裝置有权
简体标题：原料气化供给设备
公开(公告)号：TWI481740B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW101123716
申请日：2012-07-02
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485

17. 发明专利

TWI474865B 氣化器有权
简体标题：气化器
公开(公告)号：TWI474865B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481

18. 发明专利

TW201441412A 原料氣化供應裝置审中-公开
简体标题：原料气化供应设备
公开(公告)号：TW201441412A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW102143011
申请日：2013-11-26
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , C23C16/52 , F17C9/02 , F22B1/284 , F22B1/285
摘要：本發明係無論是固體原料或液體原料，都能讓大多數的原料氣體不引起熱分解地成為期望之高溫、高蒸氣壓的原料氣體，藉此可將高純度且期望濃度的原料氣體以高精度進行流量控制的同時，穩定供應給處理室。本發明之原料氣體供應裝置，係具備：原料接收槽、將從液體接收槽壓送來的液體加以氣化的氣化器、來自氣化器之原料氣體流量加以調整的流量控制裝置、以及用來加熱氣化器和高溫型壓力式流量控制裝置和與此等連接之流路的期望部分的加熱裝置，而且至少對將前述原料接收槽和氣化器和流量控制裝置和前述各機器裝置間加以連結的流路及將介設在流路的開關閥中任一者之金屬表面的各液體接觸部或氣體接觸部，進行Al2O3鈍化處理或Cr2O3鈍化處理或FeF2鈍化處理。
简体摘要：本发明系无论是固体原料或液体原料，都能让大多数的原料气体不引起热分解地成为期望之高温、高蒸气压的原料气体，借此可将高纯度且期望浓度的原料气体以高精度进行流量控制的同时，稳定供应给处理室。本发明之原料气体供应设备，系具备：原料接收槽、将从液体接收槽压送来的液体加以气化的气化器、来自气化器之原料气体流量加以调整的流量控制设备、以及用来加热气化器和高温型压力式流量控制设备和与此等连接之流路的期望部分的加热设备，而且至少对将前述原料接收槽和气化器和流量控制设备和前述各机器设备间加以链接的流路及将介设在流路的开关阀中任一者之金属表面的各液体接触部或气体接触部，进行Al2O3钝化处理或Cr2O3钝化处理或FeF2钝化处理。

19. 发明专利

TWI445058B 原料的氣化供給裝置有权
简体标题：原料的气化供给设备
公开(公告)号：TWI445058B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW101108841
申请日：2012-03-15
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45512 , C23C16/4481 , C23C16/45557 , C23C16/52 , Y10T137/7837

20. 发明专利

TW201632841A 液面偵測電路、液面計、具備其之容器、及使用該容器的汽化器审中-公开
简体标题：液面侦测电路、液面计、具备其之容器、及使用该容器的汽化器
公开(公告)号：TW201632841A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104140166
申请日：2015-12-01
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01F23/22
CPC分类号： G01F23/246 , G01F23/241 , G01F23/243
摘要：關於本發明的液面計(30)係具備第1電阻測溫體(R11)、配置於第1電阻測溫體的附近的第1溫度測定體(R12)、及根據第1電阻測溫體及第1溫度測定體的溫度，偵測液面的位置的液面偵測部(39)，更具備：檢測出第1電阻測溫體及第1溫度測定體的溫度的溫度檢測部(37)、以藉由溫度檢測部所檢測出之第1電阻測溫體的溫度與第1溫度測定體的溫度的差成為第1一定值之方式，決定施加於第1電阻測溫體的電流值的電流控制部(38)、及將決定之電流值的電流，施加於第1電阻測溫體的電源部(32)，液面偵測部，係使用施加於第1電阻測溫體的電流值，判定第1電阻測溫體是存在於液體中，或存在於液體外。藉此，可不受到周圍溫度的影響而進行液面的檢測，以定溫度差進行溫度控制，故不會對電阻測溫體施加必要以上的電力，可謀求長壽命化。
简体摘要：关于本发明的液面计(30)系具备第1电阻测温体(R11)、配置于第1电阻测温体的附近的第1温度测定体(R12)、及根据第1电阻测温体及第1温度测定体的温度，侦测液面的位置的液面侦测部(39)，更具备：检测出第1电阻测温体及第1温度测定体的温度的温度检测部(37)、以借由温度检测部所检测出之第1电阻测温体的温度与第1温度测定体的温度的差成为第1一定值之方式，决定施加于第1电阻测温体的电流值的电流控制部(38)、及将决定之电流值的电流，施加于第1电阻测温体的电源部(32)，液面侦测部，系使用施加于第1电阻测温体的电流值，判定第1电阻测温体是存在于液体中，或存在于液体外。借此，可不受到周围温度的影响而进行液面的检测，以定温度差进行温度控制，故不会对电阻测温体施加必要以上的电力，可谋求长寿命化。

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