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11. 发明专利

TWI701264B 聚乙烯醇系聚合物薄膜之製造方法有权
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI701264B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW104139310
申请日：2015-11-26
申请人：日商可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 鈴木悠希 , SUZUKI, YUUKI , 勝野良治 , KATUNO, RYOJI , 森翔大朗 , MORI, SHOTARO
IPC分类号： C08F16/06 , C08J5/18 , B29C41/26 , B29C41/46 , B29C41/52 , G02B1/04 , G02B5/30 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00

12. 发明专利

TWI551424B 乙烯改性聚乙烯醇系聚合物薄膜有权
公开(公告)号：TWI551424B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW102108762
申请日：2013-03-13
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 中居壽夫 , NAKAI, TOSHIO , 真田恭太 , SANADA, KYOTA , 風藤修 , KAZETO, OSAMU , 日笠慎太郎 , HIKASA, SHINTARO , 勝野良治 , KATSUNO, RYOJI
IPC分类号： B29C55/04 , G02B5/30 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00
CPC分类号： C08J5/18 , B29C55/04 , C08J2329/04 , G02B5/3083

13. 发明专利

TWI502007B 聚乙烯醇系聚合物薄膜及其製造方法有权
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI502007B
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW102110808
申请日：2013-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 中居壽夫 , NAKAI, TOSHIO
IPC分类号： C08J5/18 , B29C55/06 , G02B5/30 , B29K29/00
CPC分类号： B29C41/26 , B29D11/00644 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , C08J5/18 , C08J2429/04 , G02B5/3033

14. 发明专利

TWI465331B 聚乙烯醇系聚合物薄膜及其製造方法有权
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI465331B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW101110482
申请日：2012-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 風藤修 , KAZETO, OSAMU , 日笠慎太郎 , HIKASA, SHINTARO , 勝野良治 , KATSUNO, RYOJI
IPC分类号： B29C55/06 , C08J5/18 , G02B5/30 , B29K29/00
CPC分类号： B29C41/26 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , G02B5/3025 , G02B5/3083

15. 发明专利

TW201345929A 聚乙烯醇系聚合物薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201345929A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102110911
申请日：2013-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 風藤修 , KAZETO, OSAMU
IPC分类号： C08F16/06 , C08K3/22 , G02B5/30
CPC分类号： C08J5/18 , C08J2329/04
摘要：本發明係一種聚乙烯醇系聚合物薄膜，其係含有聚乙烯醇系聚合物(A)之聚乙烯醇系聚合物薄膜，其中含有選自包含過渡金屬及鋁之群組的至少1種金屬元素(B)，且相對於聚乙烯醇系聚合物(A)，該金屬元素(B)之含量為0.2ppm以上50ppm以下。該金屬元素(B)係以選自包含鉻、鐵、鈷、錳、鎳、鈦、鋅、銅及鋁之群組的至少1種金屬元素為較佳。該金屬元素(B)係以包含鐵為較佳。該金屬元素(B)係以作為金屬化合物而被含有為較佳。
简体摘要：本发明系一种聚乙烯醇系聚合物薄膜，其系含有聚乙烯醇系聚合物(A)之聚乙烯醇系聚合物薄膜，其中含有选自包含过渡金属及铝之群组的至少1种金属元素(B)，且相对于聚乙烯醇系聚合物(A)，该金属元素(B)之含量为0.2ppm以上50ppm以下。该金属元素(B)系以选自包含铬、铁、钴、锰、镍、钛、锌、铜及铝之群组的至少1种金属元素为较佳。该金属元素(B)系以包含铁为较佳。该金属元素(B)系以作为金属化合物而被含有为较佳。

16. 发明专利

TW201244914A 聚乙烯醇系聚合物薄膜及其製造方法 POLYVINYL ALCOHOL POLYMER FILM AND MANUFACTURE METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法 POLYVINYL ALCOHOL POLYMER FILM AND MANUFACTURE METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201244914A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101110482
申请日：2012-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司
发明人：森保二郎 , 風藤修 , 日笠慎太郎 , 勝野良治
IPC分类号： B29C , C08J , G02B , B29K
CPC分类号： B29C41/26 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , G02B5/3025 , G02B5/3083
摘要：本發明提供一種PVA薄膜及其製造方法，其係極限延伸倍率高、能夠以高生產性、良好產率製造之以高倍率單軸延伸也不斷裂，光學性能優異的偏光薄膜；本發明提供滿足下列式(I)及(II)之PVA薄膜：△n(MD)Ave-0.1×10 -3 ≦△n(TD)Ave≦△n(MD)Ave+0.25×10 -3 …(I) △n(TD)Ave≦2.5×10 -3 …(II)[式中，△n(MD)Ave表示PVA薄膜之長度方向之複折射率沿薄膜厚度方向平均化之值、△n(TD)Ave表示PVA薄膜之寬度方向之複折射率沿薄膜厚度方向平均化之值]，並提供該PVA薄膜之製造方法，包含：(a)於具備多數乾燥輥之製膜裝置之第1乾燥輥上，吐出含PVA之製膜原液為薄膜狀，部分乾燥後以後續的乾燥輥依序乾燥並製造時，(b)使乾燥輥的周速(ST)相對於PVA薄膜之揮發分率成為13質量%時之第1乾燥輥的周速(S1)之比值(ST/S1)為0.990~1.050，(c)使最終乾燥輥的周速(SL)相對於周速(ST)之比值(SL/ST)為0.960~0.980，(d)比值(SL/S1)為0.970~1.010。
简体摘要：本发明提供一种PVA薄膜及其制造方法，其系极限延伸倍率高、能够以高生产性、良好产率制造之以高倍率单轴延伸也不断裂，光学性能优异的偏光薄膜；本发明提供满足下列式(I)及(II)之PVA薄膜：△n(MD)Ave-0.1×10 -3 ≦△n(TD)Ave≦△n(MD)Ave+0.25×10 -3 …(I) △n(TD)Ave≦2.5×10 -3 …(II)[式中，△n(MD)Ave表示PVA薄膜之长度方向之复折射率沿薄膜厚度方向平均化之值、△n(TD)Ave表示PVA薄膜之宽度方向之复折射率沿薄膜厚度方向平均化之值]，并提供该PVA薄膜之制造方法，包含：(a)于具备多数干燥辊之制膜设备之第1干燥辊上，吐出含PVA之制膜原液为薄膜状，部分干燥后以后续的干燥辊依序干燥并制造时，(b)使干燥辊的周速(ST)相对于PVA薄膜之挥发分率成为13质量%时之第1干燥辊的周速(S1)之比值(ST/S1)为0.990~1.050，(c)使最终干燥辊的周速(SL)相对于周速(ST)之比值(SL/ST)为0.960~0.980，(d)比值(SL/S1)为0.970~1.010。

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