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11. 发明专利

TW201514222A 偏光薄膜之製造方法、偏光板其製造方法审中-公开
简体标题：偏光薄膜之制造方法、偏光板其制造方法
公开(公告)号：TW201514222A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW104100477
申请日：2013-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 中居壽夫 , NAKAI, TOSHIO
IPC分类号： C08J5/18 , B29C55/06 , G02B5/30 , B29K29/00
CPC分类号： B29C41/26 , B29D11/00644 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , C08J5/18 , C08J2429/04 , G02B5/3033
摘要：本發明係提供一種可製造長波長區域之吸光度高，而且偏光度高之偏光薄膜的PVA系聚合物薄膜、以及其製造方法。本發明係在水中之結晶長週期為14.5~16.0nm的PVA系聚合物薄膜。又，本發明為一種PVA系聚合物薄膜之製造方法，其係於使用具備旋轉軸相互平行之多個乾燥輥與熱處理輥的製膜裝置而將PVA系聚合物薄膜製膜時，使式(I)所示的T1→2成為60~75而予以乾燥，T1→2={T1×(40-V1)+T2×(V1-V2)}/(40-V2) (I)(T1表示第1乾燥輥的表面溫度(℃)，V1表示自第1乾燥輥剝離時之薄膜的揮發分率(質量%；但為10~30)，T2表示由第2乾燥輥至最後的乾燥輥為止之各乾燥輥的表面溫度之平均值(℃)，V2表示自最後的乾燥輥剝離時之薄膜的揮發分率(質量%))。
简体摘要：本发明系提供一种可制造长波长区域之吸光度高，而且偏光度高之偏光薄膜的PVA系聚合物薄膜、以及其制造方法。本发明系在水中之结晶长周期为14.5~16.0nm的PVA系聚合物薄膜。又，本发明为一种PVA系聚合物薄膜之制造方法，其系于使用具备旋转轴相互平行之多个干燥辊与热处理辊的制膜设备而将PVA系聚合物薄膜制膜时，使式(I)所示的T1→2成为60~75而予以干燥，T1→2={T1×(40-V1)+T2×(V1-V2)}/(40-V2) (I)(T1表示第1干燥辊的表面温度(℃)，V1表示自第1干燥辊剥离时之薄膜的挥发分率(质量%；但为10~30)，T2表示由第2干燥辊至最后的干燥辊为止之各干燥辊的表面温度之平均值(℃)，V2表示自最后的干燥辊剥离时之薄膜的挥发分率(质量%))。

12. 发明专利

TWI701264B 聚乙烯醇系聚合物薄膜之製造方法有权
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI701264B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW104139310
申请日：2015-11-26
申请人：日商可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 鈴木悠希 , SUZUKI, YUUKI , 勝野良治 , KATUNO, RYOJI , 森翔大朗 , MORI, SHOTARO
IPC分类号： C08F16/06 , C08J5/18 , B29C41/26 , B29C41/46 , B29C41/52 , G02B1/04 , G02B5/30 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00

13. 发明专利

TWI551424B 乙烯改性聚乙烯醇系聚合物薄膜有权
公开(公告)号：TWI551424B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW102108762
申请日：2013-03-13
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 中居壽夫 , NAKAI, TOSHIO , 真田恭太 , SANADA, KYOTA , 風藤修 , KAZETO, OSAMU , 日笠慎太郎 , HIKASA, SHINTARO , 勝野良治 , KATSUNO, RYOJI
IPC分类号： B29C55/04 , G02B5/30 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00
CPC分类号： C08J5/18 , B29C55/04 , C08J2329/04 , G02B5/3083

14. 发明专利

TWI502007B 聚乙烯醇系聚合物薄膜及其製造方法有权
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI502007B
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW102110808
申请日：2013-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 中居壽夫 , NAKAI, TOSHIO
IPC分类号： C08J5/18 , B29C55/06 , G02B5/30 , B29K29/00
CPC分类号： B29C41/26 , B29D11/00644 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , C08J5/18 , C08J2429/04 , G02B5/3033

15. 发明专利

TWI465331B 聚乙烯醇系聚合物薄膜及其製造方法有权
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI465331B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW101110482
申请日：2012-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 風藤修 , KAZETO, OSAMU , 日笠慎太郎 , HIKASA, SHINTARO , 勝野良治 , KATSUNO, RYOJI
IPC分类号： B29C55/06 , C08J5/18 , G02B5/30 , B29K29/00
CPC分类号： B29C41/26 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , G02B5/3025 , G02B5/3083

16. 发明专利

TW201345929A 聚乙烯醇系聚合物薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201345929A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102110911
申请日：2013-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：森保二郎 , MORI, YASUJIRO , 風藤修 , KAZETO, OSAMU
IPC分类号： C08F16/06 , C08K3/22 , G02B5/30
CPC分类号： C08J5/18 , C08J2329/04
摘要：本發明係一種聚乙烯醇系聚合物薄膜，其係含有聚乙烯醇系聚合物(A)之聚乙烯醇系聚合物薄膜，其中含有選自包含過渡金屬及鋁之群組的至少1種金屬元素(B)，且相對於聚乙烯醇系聚合物(A)，該金屬元素(B)之含量為0.2ppm以上50ppm以下。該金屬元素(B)係以選自包含鉻、鐵、鈷、錳、鎳、鈦、鋅、銅及鋁之群組的至少1種金屬元素為較佳。該金屬元素(B)係以包含鐵為較佳。該金屬元素(B)係以作為金屬化合物而被含有為較佳。
简体摘要：本发明系一种聚乙烯醇系聚合物薄膜，其系含有聚乙烯醇系聚合物(A)之聚乙烯醇系聚合物薄膜，其中含有选自包含过渡金属及铝之群组的至少1种金属元素(B)，且相对于聚乙烯醇系聚合物(A)，该金属元素(B)之含量为0.2ppm以上50ppm以下。该金属元素(B)系以选自包含铬、铁、钴、锰、镍、钛、锌、铜及铝之群组的至少1种金属元素为较佳。该金属元素(B)系以包含铁为较佳。该金属元素(B)系以作为金属化合物而被含有为较佳。

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