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11. 发明专利

JP2005529488A Use of the overlay diagnostic for enhanced automated process control 有权
公开(公告)号：JP2005529488A
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：JP2004511937
申请日：2003-06-05
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：アデル・マイケル・イー． , イジクソン・パベル , ギノブカー・マーク , シムキン・ボリス , セリグソン・ジョエル・エル． , チューリップマン・デイビッド , ロビンソン・ジョン
IPC分类号： G01B11/00 , G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70483 , G03F7/705 , G03F7/70516 , G03F7/70633
摘要：【課題】オーバレイターゲットの質を分析する方法および装置を提供する。
【解決手段】ある実施形態において、オーバレイターゲットからデータを抽出する方法が開示される。まず、オーバレイターゲットの画像情報または強度信号が提供される。オーバレイ誤差は、オーバレイターゲットの画像情報または強度信号（群）を分析することによってオーバレイターゲットから得られる。系統誤差測定値はまた、オーバレイターゲットの画像情報または強度信号（群）を分析することによって、オーバレイターゲットから得られる。例えば、系統誤差測定値は、オーバレイターゲットの１つ以上の部分についての非対称性測定値を示す。ノイズ測定値は、粒状性の背景のような、オーバレイターゲットに関連付けられた空間ノイズを特徴付ける。他の実施形態において、オーバレイおよび／またはステッパ分析プロシージャが、オーバレイデータと共に系統誤差測定値および／またはノイズ測定値に基づいてそれから実行される。

12. 发明专利

JP2005520353A Registration error detection 有权
公开(公告)号：JP2005520353A
公开(公告)日：2005-07-07
申请号：JP2004521380
申请日：2001-10-26
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ザオ，グオヘング , ブイ．シューシェグローブ，アンドレイ , ツサイ，ベン , ニコナハッド，メールダッド
IPC分类号： G01B11/00 , G01B11/27 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70633 , G01B11/272
摘要：格子をその表面に有する重ね合わせターゲット（２４）が照明され、ターゲットにより散乱された放射が検出器（３２）上に結像される。次に、位置ずれ誤差を見出すために、検出器の出力間で位相差が検出される。別の局面においては、格子またはボックス・イン・ボックス（４０）構造を有する重ね合わせターゲットが照明され、ターゲットにより散乱された放射が、暗視野検出方式における照明の鏡面反射方向からずらして配置された検出器上に結像される。

13. 发明专利

JP2005517906A System for detecting surface abnormalities and / or shape 有权
公开(公告)号：JP2005517906A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：JP2003568338
申请日：2003-02-11
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ヴァエス−イラヴァニ，メディ , ザオ，グオヘング , イー．ストッコウスキー，スタンレー
IPC分类号： G01B11/30 , G01B11/24 , G01N21/47 , G01N21/94 , G01N21/95 , G01N21/956 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/95623 , G01N21/47 , G01N21/94 , G01N2201/1045
摘要：円柱鏡または円柱レンズを使用して、コリメートされた入力光線ビームを検査対象表面上の線分に集束する。この場合、その線分は集束されたビームの実質的に入射面内にある。ビームの像は、表面の異常および／または形状を検出するための電荷結合素子のアレイの上に投影され、この電荷結合素子アレイは、集束されたビームの入射面外にその線分に平行に配置される。パターンを備えた表面を検査するために、表面からの光を、電荷結合素子上に結像させる前に、最初に空間フィルタに通す。この空間フィルタは、散乱反射性の領域のストライプを有し、それが、ビームと表面間の相対運動と同期してシフト移動し、パターンからのフーリエ成分を遮蔽する。空間フィルタは、散乱放射を選択的に検出器に反射する反射ストリップに置き換えることもできる。この場合、反射ストリップも相対運動と同期してシフト移動する。

14. 发明专利

JP2004531735A System and method for wafer inspection systems employing multiple angles and multiple wavelength irradiation 有权
公开(公告)号：JP2004531735A
公开(公告)日：2004-10-14
申请号：JP2003507532
申请日：2002-06-26
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ヴァエス−イラヴァニ，メディ , イー．ストッコウスキー，スタンレー , ビーラーク，スティーブ
IPC分类号： G01N21/956 , G01N21/47 , G01N21/84 , G01N21/88 , G01N21/95 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/47 , G01N21/474 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/8825 , H01L22/12
摘要：基板（４２８）の上部表面（４２６）上の異常を検出する方法であって、第１の波長を有する第１の放射ビーム（４１４）を垂線から測定した第１の角度で基板（４２８）の上部表面（４２６）に照射する工程と、第２の波長を有する第２の放射ビーム（４１８）を垂線から測定した第２の角度で基板（４２８）の上部表面（４２６）に照射する工程とを含み、第２の波長は第１の波長と等しくない。さらに、この方法は、粒子またはＣＯＰの存在を検出して、その２つを区別するために、第１の放射ビーム（４１４）と第２の放射ビーム（４１８）とから散乱した放射を検出する工程とを含む。第１の放射ビーム（４１４）と第２の放射ビーム（４１８）から検出された散乱放射の差異から、粒子とＣＯＰを区別するために必要なデータを得る。

15. 发明专利

JP2003531735A Apparatus and method for detecting a killer particles in a chemical mechanical polishing 有权
公开(公告)号：JP2003531735A
公开(公告)日：2003-10-28
申请号：JP2001578938
申请日：2001-04-19
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：セスーラマン・アナンザ・アール． , チャオ・グオヘング , ニコーナハド・メアダッド
IPC分类号： G01N15/02 , B24B37/005 , B24B49/12 , B24D7/12 , G01B11/00 , G01B11/06 , G01N1/32 , G01N1/34 , G01N21/00 , G01N21/15 , G01N21/21 , G01N21/45 , G01N21/47 , G01N21/94 , G01N21/956 , H01L21/304 , H01L21/66 , B24B37/00
CPC分类号： B24B49/12 , B24B37/005 , B24D7/12 , G01B11/00 , G01B11/0683 , G01N21/15 , G01N21/94
摘要： Disclosed is a system for detecting anomalies associated with a sample. The system includes an objective arranged proximate to a sample while the sample is undergoing chemical mechanical polishing and a beam source arranged to generate an incident beam and direct the incident beam through the objective and toward the sample while the sample is undergoing chemical mechanical polishing. The system also includes a sensor arranged to detect a scattered beam reflected from at least one anomaly associated with the sample while the sample is undergoing chemical mechanical polishing, the scattered beam being in response to the incident beam. The scattered beam indicates a characteristic of the anomaly, such as particle size.

16. 发明专利

JP2003529743A Scan, spliced, and measurement of a double-sided measurement inspection tool, including the anti-vibration 有权
公开(公告)号：JP2003529743A
公开(公告)日：2003-10-07
申请号：JP2001505166
申请日：2000-06-16
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ダニエルイヴァノブカヴァルドジェブ , ジョージクレン , ポールジェーサリヴァン , デイビッドダブリュショート , ロドニーシースメット , ハンスジェーハンセン , クリストファーエフベヴィス
IPC分类号： G01B11/30 , G01N21/95 , G01R31/265 , G01R31/28 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01R31/2656 , G01R31/2831
摘要： (57)【要約】半導体ウェーハのような検体１１１を検査するシステムを提供する。このシステムは、両面仕様の検体のスキャンを提供するが、望ましくない音響的地震波的振動を濾別する防振装置１１４を用い、検体の最初の部分をスキャンする光学装置１１２および１１３と、その検体を一つの位置に移送又は回転するための移送又は回転装置を有し、そこでその光学装置は検体の残りの部分をスキャン出来るようになっている。そのシステムは更にスキャンを共に繋ぎ合わせる手段を有し、それによって、検体の防振と、より小さく、より費用のかからない光学素子に必要なものを提供している。

17. 发明专利

JP2009532862A Apparatus and method for detecting overlay error using the scatterometry 有权
公开(公告)号：JP2009532862A
公开(公告)日：2009-09-10
申请号：JP2009502820
申请日：2007-03-08
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：カンデル・ダニエル , ゴロヴァネブスキイ・ボリス , ミーハー・ウォルター・ディ．
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70633
摘要：【解決手段】本発明の実施形態は、基板の層の間のアライメントを決定する際に利用されるスキャトロメトリターゲットを含む。ターゲット配列が、基板上に形成されており、複数のターゲットセルを備えている。各セルは、周期的なフィーチャを含む２つの層を有しており、それらの層は、上側の層が下側の層よりも上に配列されるよう構成され、上側の層の周期的なフィーチャは、下側の層の周期的なフィーチャに対するオフセット、および／または、下側の層の周期的なフィーチャと異なるピッチを有するよう構成されている。それらのピッチは、ターゲットが照明源にさらされた時に周期信号を生成するよう配列されている。ターゲットは、さらに、セルの間に配列された曖昧性除去用フィーチャを備えており、曖昧性除去用フィーチャは、照明源にさらされた時にセルによって生成される周期信号により引き起こされる曖昧性を解決するよう構成されている。
【選択図】図２（ｇ）

18. 发明专利

JP2009513995A Non-critical phase matching in CLBO for generating a sub-213nm wavelength 审中-公开
公开(公告)号：JP2009513995A
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：JP2008524137
申请日：2006-07-26
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ジェイジョセフアームストロング , ユン−ホチャン
IPC分类号： G02F1/37 , G01N21/84 , G01N21/956 , H01S3/06 , H01S3/10
CPC分类号： H01S3/06708 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G02F1/3501 , G02F1/3534 , G02F1/3536 , G02F1/3544 , G02F1/3551 , G02F1/3553 , G02F1/3558 , G02F1/37 , G02F2001/3507 , G02F2001/354 , H01S3/06712 , H01S3/06741 , H01S3/0675 , H01S3/06791 , H01S3/094007 , H01S3/09415 , H01S3/1118 , H01S3/23 , H01S3/2383
摘要：本発明は、レーザ照明方法であって、９９８ｎｍなどの異なる基本波長の基本周波数レーザエネルギを生成する段階と、基本周波数レーザエネルギの一部を第２高調波周波数レーザエネルギへ変換する段階と、第２高調波周波数レーザエネルギを第４高調波周波数レーザエネルギへ更に変換する段階と、第４高調波周波数レーザエネルギを基本周波数レーザエネルギの一部と混合させて、和周波数のレーザエネルギを生成する段階とを含む。混合は、ホウ酸セシウムリチウム（ＣＬＢＯ）の結晶における非臨界位相整合によって行なわれる。或いは、レーザ照明方法は、基本周波数レーザエネルギの一部をラマン線のレーザエネルギへシフトさせる段階及び／又は第２高調波周波数レーザエネルギを基本周波数レーザエネルギの一部と混合させて第３高調波周波数レーザエネルギを生成する段階を使用してもよい。

19. 发明专利

JP2008262148A Inspection method and system for lithographic mask 有权
标题翻译：检索方法和系统的LITHOGRAPHIC MASK
公开(公告)号：JP2008262148A
公开(公告)日：2008-10-30
申请号：JP2007212566
申请日：2007-08-17
申请人： Kla-Tencor Technologies Corp , ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人： STOKOWSKI STANLEY E
IPC分类号： G03F1/08 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/705
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method for finding a defect on a reticle.
SOLUTION: At least a pair of related intensity images of the reticle are obtained using an inspection apparatus (202). The intensity images are obtained such that each of the images experience different focus settings for the reticle so that there is a constant focus offset between the two focus values of the images. These images are then analyzed to obtain a transmission function of the reticle (204). This transmission function is then input into a model of the lithography system to produce an aerial image of the reticle pattern. The aerial image produced can then be input to a photoresist model to yield a "resist-modeled image" that corresponds to an image pattern to be printed onto the substrate using the reticle. This resist-modeled image is compared with a reference image to obtain defect information (206).
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于在掩模版上发现缺陷的装置和方法。解决方案：使用检查装置（202）获得掩模版的至少一对相关强度图像。获得强度图像，使得每个图像对于掩模版经历不同的焦点设置，使得在图像的两个焦点值之间存在恒定的聚焦偏移。然后分析这些图像以获得掩模版（204）的透射函数。然后将该传输函数输入到光刻系统的模型中以产生标线图案的空中图像。然后可以将产生的空间图像输入到光致抗蚀剂模型，以产生对应于使用掩模版印刷到基板上的图像图案的“抗蚀剂建模图像”。将该抗蚀剂建模图像与参考图像进行比较以获得缺陷信息（206）。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

20. 发明专利

JP2007536629A High-throughput image for processing inspection image 有权
公开(公告)号：JP2007536629A
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：JP2007511477
申请日：2005-05-02
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ミラー・ローレンス・アール．
IPC分类号： G06T1/00 , G01N21/88 , G01N21/956 , G06F15/80 , G06K9/00 , G06T7/00
CPC分类号： G06T7/0004 , G01N21/9501 , G01N2021/95615 , G01N2021/95676 , G06T2207/30148
摘要：【課題】
【解決手段】試料の画像を、試料が欠陥を含むかを判断するために分析する画像処理システムを開示する。システムは、試料からの画像データを受領し、試料が欠陥を有するかを判断するために、こうした画像データの一つ以上の選択されたパッチ（群）を分析する、複数のプロセッサ（２０２、３０６）を含む。システムは、更に、プロセッサを共に結合し、仕様として、毎秒約５０ギガビット以上のデータレートおよび約１０
-16 未満のエラーレートを有する複数のバス（２０６、４５０）を含む。一実施例において、バスは、低電圧差分信号バスであり、別の実施形態において、バスは、ハイパートランスポートバスである。
【選択図】図３

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