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    • 161. 发明申请
    • INHOMOGENE ÜBERTRAGUNGSLEITUNG ZUR POSITIONSAUFGELÖSTEN PERMITTIVITÄTSBESTIMMUNG EINES MESSOBJEKTES
    • 用于位置不均匀的输电线路已解决PERMITTIVITÄTSBESTIMMUNG被测物体
    • WO2016124489A1
    • 2016-08-11
    • PCT/EP2016/051887
    • 2016-01-29
    • IHP GMBH - INNOVATIONS FOR HIGH PERFORMANCE MICROELECTRONICS / LEIBNIZ-INSTITUT FÜR INNOVATIVE MIKROELEKTRONIK
    • MELIANI, ChafikGUHA, SubhajitFARABI, Ibne, Jamal
    • G01N27/22G01N22/00G01N33/487
    • G01R27/32G01N15/1031G01N22/00G01N33/48728
    • Messträger und Messvorrichtung für eine ortsaufgelöste messtechnische Ermittlung einer von der dielektrischen Permittivität eines auf den Messträger aufzulegenden Messobjektes abhängigen Messgröße. Der Messträger hat eine Auflage mit einer Messauflagefläche, auf die das Messobjekt aufgelegt werden kann, sowie eine die Messauflagefläche ganz oder teilweise bildende Mess-Übertragungsleitung, die zur Übertragung eines am Eingangsport einkoppelbaren elektromagnetischen Hochfrequenz-Messsignals als eine elektrische Reihenschaltung einer Vielzahl Übertragungsleitungszellen ausgebildet ist. Die Messauflagefläche ist zellenförmig strukturiert, wobei jede der Übertragungsleitungszellen der Mess-Übertragungsleitung für sich betrachtet in einem messobjektfreien Zustand bezüglich des Hochfrequenz-Messsignals eine zellenindividuelle Ausbreitungskonstante aufweist, die von den jeweiligen zellenindividuellen Ausbreitungskonstanten der anderen Übertragungsleitungszellen verschieden ist, und ausgebildet ist, in einem Mess-Zustand bei Aufliegen des Messobjekts auf der Übertragungsleitungszelle eine im Vergleich mit dem messobjektfreien Zustand verschiedene zellenindividuelle Ausbreitungskonstante anzunehmen.
    • 测量载体和用于空间分辨计量判定测量装置,其取决于aufzulegenden对测量载波测量对象测量的变量的介电常数。 所述测量光束具有带测量支撑表面在其上可放置待测量的对象,以及所测得的接触表面完全或部分地形成用于发送测量传输线被形成为多个传输线单元中的所述输入端口einkoppelbaren电磁高频测量信号中的串联电连接的焊盘。 测量支撑表面被构造细胞形的,其中,每个在测量分别考虑所述测量传输线的传输线单元的对象自由状态相对于所述高频测量信号包括细胞单独传播常量,它是从其他传输线单元的各个体的传播常数不同,并且在测量形成 接受状态在传输线路上的测量对象的细胞与测量无物体的状态相比,各种细胞个体传播常数的休息。
    • 167. 发明申请
    • MICROELECTRONIC COMPONENT
    • MICRO电子元件
    • WO2011128188A3
    • 2012-01-12
    • PCT/EP2011054362
    • 2011-03-22
    • IHP GMBHKAYNAK MEHMETTILLACK BERNDSCHOLZ RENE
    • KAYNAK MEHMETTILLACK BERNDSCHOLZ RENE
    • B81C1/00
    • B81C1/00587B81B2207/015B81B2207/07B81C2201/014
    • In a method for producing an MEMS component, wherein, in the course of producing the multilevel interconnect layer stack for connecting microelectronic circuits, micromechanical structure elements (7, 8, 9) that are to be exposed later are embedded at the same time, a cutout is subsequently produced from a substrate rear side (R) as far as the multilevel interconnect layer stack, and then the micromechanical structure elements in the multilevel interconnect layer stack are exposed through the cutout. In order to increase the process accuracy, as early as in the course of producing the multilevel interconnect layer stack or even in the front end of line, a reference mask (22) for defining a lateral position or a lateral extent of the micromechanical structure elements (7, 8, 9) to be exposed is produced, wherein the reference mask (22) is arranged on the substrate front side between the substrate and the multilevel interconnect layer stack or in a layer of the multilevel interconnect layer stack that is situated nearer to the substrate (1) in comparison with the structure element.
    • 被嵌入在一种用于制造MEMS装置,其中在生产所述多级Leitbahnschichtstapels的用于同时或随后连接微电子电路的过程中被暴露的微机械的结构元件(7,8,9),在基板背面侧的anschließendeine凹部(R)的 多级Leitbahnschichtstapel制备,然后通过在所述多级Leitbahnschichtstapel通过凹部微机械结构元件露出。 为了提高加工精度是已经在生产多级Leitbahnschichtstapels的过程中或甚至在线路的前端的基准掩模(22),以限定一个横向位置或侧向延伸derfreizulegenden微机械结构元件(7,8,9),使用参考掩模 (22)被设置在所述基板和所述多级Leitbahnschichtstapel之间或在与基板(1)更接近多级Leitbahnschichtstapels的层的结构元件的比较基板正面。