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91. 发明申请

WO2005081295A1 露光方法、露光装置及び露光システム並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置，曝光系统和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2005081295A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/JP2005/002538
申请日：2005-02-18
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70 , G03F7/70341 , G03F7/70458
摘要：ウエハ（Ｗ１（又はＷ２））の同一レジスト層に対して複数回の露光を行うに際し、複数回の露光のうちの少なくとも１回の露光では、例えば、露光光（ＩＬ）をウエハ（Ｗ１（又はＷ２））上に投射する投影光学系（ＰＬ）とウエハとの間の空間を液体給排ユニット（３２）により水で浸すことにより、ウエハに到達する露光光（ＩＬ）の実質的な波長を、他の回の露光における露光光（ＩＬ）の実質的な波長とは異なるようにする。これにより、高精度かつ高スループットな露光を実現する。
摘要翻译：至少在多次曝光中曝光一次时，多次曝光晶片（W1（或W2））的相同抗蚀剂层时，曝光光的实际波长（IL）允许在其他时间的曝光中，例如通过在突出曝光光（IL）的投影光学系统（PL）之间浸渍空间，到达晶片的曝光光（IL）的实际波长不同，在晶片（W1（或W2））上，并且通过液体供应/排出单元（32）具有水的晶片。因此，获得了高精度和高通量的曝光。

92. 发明申请

WO99036949A1 EXPOSURE METHOD AND LITHOGRAPHY SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF PRODUCING THE APPARATUS, AND METHOD OF PRODUCING DEVICE 审中-公开
标题翻译：曝光方法和平版印刷系统，曝光装置及其制造方法及其制造方法
公开(公告)号：WO99036949A1
公开(公告)日：1999-07-22
申请号：PCT/JP1999/000122
申请日：1999-01-18
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7045 , G03F7/70258 , G03F7/70458 , G03F7/70558
摘要： Based on the information about the capability of a first exposure device (20A or 20B) of correcting the distortion of the image of a first mask transferred onto a wafer (W), the image forming characteristics of a second exposure apparatus (20B or 20A) are adjusted. Therefore, image forming characteristics can be appropriately adjusted (decreasing the correction residual error), considering the distortion of the pattern image of the first mask transferred onto the wafer by the first exposure apparatus. That is, in order to properly transfer the pattern of a second mask onto the wafer by using the second exposure apparatus, the image forming characteristics of the second exposure apparatus are so adjusted that the distortion of the image of the pattern of the second mask is almost the same of that of the first mask. Hence, good image registration is realized.
摘要翻译：基于关于第一曝光装置（20A或20B）的校正转印到晶片（W）上的第一掩模的图像的畸变的能力的信息，第二曝光装置（20B或20A）的图像形成特性，被调整。因此，考虑到通过第一曝光装置转印到晶片上的第一掩模的图案图像的失真，可以适当地调整图像形成特性（减小校正残差）。也就是说，为了通过使用第二曝光装置将第二掩模的图案适当地转印到晶片上，调整第二曝光装置的图像形成特性，使得第二掩模的图案的图像的失真为几乎与第一个面具相同。因此，实现良好的图像配准。

93. 发明专利

JP2016066091A モデルベースのプロセスシミュレーション方法有权
标题翻译：基于模型的过程模拟方法
公开(公告)号：JP2016066091A
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：JP2015238241
申请日：2015-12-07
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：イエ,ジュン , カオ,ユ , グーセンス,ロナルド , シャオ,ウェンジン , コーンメン,ジム
IPC分类号： G03F1/36 , G03F7/20
CPC分类号： B29C67/0088 , G03F7/70091 , G03F7/70458 , G03F7/705 , G03F7/70516 , G03F7/70525 , G06F17/50 , G06F17/5009 , G06F17/5081
摘要：【課題】差分モデルを用いたリソグラフィシミュレーションを提供する。【解決手段】差分モデルは、調整可能なおよび非調整可能な設定に関連する2つのスキャナの結像特性における差を記述する。2つのスキャナのうちの一方のスキャナのモデルは、もう一方のスキャナのモデルと差分モデルとを用いて導出される。同様に、感度モデルは、様々なスキャナ設定に関連する1つのスキャナの結像特性における差を記述する。さらに、プリント結果との比較によって差分モデルと感度モデルを較正する。【選択図】図8
摘要翻译：要解决的问题：使用差分模型提供光刻模拟。解决方案：差分模型描述了与可调谐和不可调设置相关的两台扫描仪的成像特性的差异。通过使用其他扫描仪和差分模型的模型，推导出两种扫描仪之一的模型。类似地，灵敏度模型描述了与不同扫描仪设置相关的一个扫描仪的成像特征的差异。此外，通过与打印结果的比较来校准差分模型和灵敏度模型。选择图：图8

95. 发明专利

JP5104305B2 Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5104305B2
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：JP2007524031
申请日：2006-06-30
申请人：株式会社ニコン
发明人：誠義新井
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01S3/00
CPC分类号： G03F7/70458 , G03F7/7005 , G03F7/70525 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , G03F7/70625 , H01S3/10069 , H01S3/1055 , H01S3/1394 , H01S3/225 , H01S2301/08

96. 发明专利

JP4022374B2 Manufacturing method and system of the semiconductor device 有权
公开(公告)号：JP4022374B2
公开(公告)日：2007-12-19
申请号：JP2001017887
申请日：2001-01-26
申请人：株式会社ルネサステクノロジ
发明人：康裕吉武 , 佳幸宮本 , 俊一松本
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70458 , G03F7/70533 , G03F7/70591 , G03F7/70633

97. 发明专利

JP3952248B2 Exposure method and method of manufacturing a mask used to it 有权
公开(公告)号：JP3952248B2
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：JP2000039080
申请日：2000-02-17
申请人：三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd.
发明人：承亨南 , 泰鎬張
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/768 , G03F1/68 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70458
摘要： An exposing method comprises use of different kinds of aligning and exposing apparatuses having different alignment and exposure characteristics. Capability to select a suitable aligning and exposing apparatus for each layer to be formed is accomplished by manufacturing a mask used for the exposure to be compatible with different kinds of aligning and exposing apparatuses.

98. 发明专利

JP3626448B2 Exposure method 有权
公开(公告)号：JP3626448B2
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：JP2001363133
申请日：2001-11-28
申请人：株式会社東芝
发明人：達彦東木 , 慶太浅沼 , 真歩高桑
IPC分类号： G03F7/22 , G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70258 , G03F7/70458 , G03F7/70541 , G03F7/70633
摘要： Lens distortion correction is characterized by obtaining a correction parameter by using the difference between the latest QC data used when exposing a overlaying layer and the latest QC data used when exposing a overlaid layer.

99. 发明公开

EP2952964A1 Method for determining the parameters of an ic manufacturing process by a differential procedure 审中-公开
标题翻译：一种用于通过微分法确定的IC制造工艺的参数的方法
公开(公告)号：EP2952964A1
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：EP14305835.2
申请日：2014-06-03
申请人： Aselta Nanographics
发明人： Saib, Mohamed , Schiavone, Patrick , Figueiro, Thiago
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/705 , G03F7/70458 , G03F7/70516 , G06F17/5072 , G06F2217/06 , G06F2217/12
摘要： The invention discloses a method to easily determine the parameters of a second process for manufacturing from the parameters of a first process. Metrics representative of the differences between the two processes are computed from a number of values of the parameters, which can be measured for the two processes on a calibration layout, or which can be determined from pre-existing values for layouts or reference data for the two processes by an interpolation/extrapolation procedure. The number of metrics is selected so that their combination gives a precise representation of the differences between the two processes in all areas of a design. Advantageously, the metrics are calculated as a product of convolution of the target design and a compound of a kernel function and a deformation function.
摘要翻译：本发明盘松的方法容易地确定矿的第二工艺参数，用于从第一工艺的参数制造。度量代表的两个过程之间的差异从多个参数的值的，可以测量这两个过程在校准布局计算，或可以是确定性从预先存在的值开采布局或基准数据的两个过程通过内插/外插步骤。度量的数量被选择以便做他们的组合给出了在一个设计的所有区域的两个过程之间的差异精确表示。有利的是，所述度量计算为目标设计的卷积的产物和核函数的化合物和变形函数。

100. 发明授权

EP1378788B1 Transverse electric-field type liquid crystal display device, process of manufacturing the same, and scan-exposing device 有权
标题翻译：横向电场的液晶显示器，用于扫描曝光它们的制备方法和装置
公开(公告)号：EP1378788B1
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：EP03014265.7
申请日：2003-06-25
申请人： Obayashiseikou Co., Ltd.
发明人： Hirota, Naoto
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1368 , G02F1/1343 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/7045 , G02F1/134363 , G02F1/136204 , G02F1/136286 , G02F1/1368 , G02F2001/136236 , G03B27/10 , G03F1/144 , G03F1/50 , G03F7/70358 , G03F7/70458

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