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1. 发明授权

US09012126B2 Positive photosensitive material 有权
标题翻译：正感光材料
公开(公告)号：US09012126B2
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：US13524790
申请日：2012-06-15
申请人： Weihong Liu , PingHung Lu , Chunwei Chen , Stephen Meyer , Medhat Toukhy , SookMee Lai
发明人： Weihong Liu , PingHung Lu , Chunwei Chen , Stephen Meyer , Medhat Toukhy , SookMee Lai
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： The invention relates to a novel positive working photosensitive composition having: at least one photoacid generator; at least one novolak polymer; at least one polymer, having a polymer backbone, said polymer comprising a structure of the following formula: wherein R1-R5 are, independently, —H or —CH3, A is a linear or branched C1-C10 alkylene group, B is a C1-C12 alkyl or alicyclic group, D is a linking group that may be a chemical bond, a carboxylate group, wherein the carbonyl carbon is bonded to the polymer backbone, or a —COOCH2— group, wherein the carbonyl carbon is bonded to the polymer backbone, Ar is a substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group, E is a linear or branched C2-C10 alkylene group, G is an acid cleavable group. The invention further relates to a process for using the novel composition for forming an image.
摘要翻译：本发明涉及一种新型的正性光敏组合物，其具有：至少一种光致酸发生剂; 至少一种酚醛清漆聚合物; 至少一种具有聚合物主链的聚合物，所述聚合物包含下式的结构：其中R 1 -R 5独立地是-H或-CH 3，A是直链或支链C 1 -C 10亚烷基，B是C1 -C 12烷基或脂环基，D是可以是化学键的连接基团，其中羰基碳键合到聚合物主链上的羧酸酯基团或-COOCH 2 - 基团，其中羰基碳键合到聚合物上骨架，Ar是取代或未取代的芳基或杂芳基，E是直链或支链C 2 -C 10亚烷基，G是酸可裂解基团。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

2. 发明授权

US08906594B2 Negative-working thick film photoresist 有权
标题翻译：负性厚膜光致抗蚀剂
公开(公告)号：US08906594B2
公开(公告)日：2014-12-09
申请号：US13524811
申请日：2012-06-15
申请人： Chunwei Chen , PingHung Lu , Weihong Liu , Medhat Toukhy , SangChul Kim , SookMee Lai
发明人： Chunwei Chen , PingHung Lu , Weihong Liu , Medhat Toukhy , SangChul Kim , SookMee Lai
IPC分类号： G03F7/028 , G03F7/075 , G03F7/40 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/028 , C08F220/18 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/0755 , G03F7/0757 , G03F7/30 , G03F7/40 , C08F2220/185 , C08F220/20 , C08F2220/281 , C08F220/06 , C08F2220/1825 , C08F212/08
摘要： Disclosed are compositions for negative-working thick film photophotoresists based on acrylic co-polymers. Also included are methods of using the compositions.
摘要翻译：公开了基于丙烯酸共聚物的负性厚膜光致抗蚀剂的组合物。还包括使用组合物的方法。

3. 发明授权

US08524441B2 Silicon-based antireflective coating compositions 失效
标题翻译：硅系抗反射涂料组合物
公开(公告)号：US08524441B2
公开(公告)日：2013-09-03
申请号：US12449735
申请日：2008-02-25
申请人： Ruzhi Zhang , WooKyu Kim , David J. Abdallah , PingHung Lu , Mark O. Neisser , Ralph R. Dammel , Ari Karkkainen
发明人： Ruzhi Zhang , WooKyu Kim , David J. Abdallah , PingHung Lu , Mark O. Neisser , Ralph R. Dammel , Ari Karkkainen
IPC分类号： C09D183/04
CPC分类号： C08G77/045 , C09D183/04 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/3124
摘要： A polymer comprising a siloxane polymer having at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is condensation stabilizing group optionally having a reactive functional group, wherein the siloxane polymer, when placed into a solvent, has a weight average molecular weight increase of less than or equal to 50% after aging for one week at 40° C. as measured by GPC is provided.
摘要翻译：包含具有至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团的硅氧烷聚合物的聚合物，其中R是任选具有反应性官能团的缩合稳定基团，其中所述硅氧烷聚合物在置于溶剂中时具有重量提供了通过GPC测量的在40℃下老化1周后的平均分子量增加小于或等于50％。

4. 发明申请

US20100093969A1 Process for making siloxane polymers 审中-公开
标题翻译：制备硅氧烷聚合物的方法
公开(公告)号：US20100093969A1
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：US12449750
申请日：2008-02-25
申请人： Ruzhi Zhang , David Abdallah , PingHung Lu , Mark Neisser
发明人： Ruzhi Zhang , David Abdallah , PingHung Lu , Mark Neisser
IPC分类号： C08G77/06
CPC分类号： C09D183/06 , C08G77/06 , G03F7/0752 , G03F7/091 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/3122
摘要： The present invention relates to process for making a siloxane polymer which comprises at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is a moiety other than hydrogen, comprising reacting one or more silane reactants together in the presence of a hydrolysis catalyst in either a water/alcohol mixture or in one or more alcohols to form the siloxane polymer; and separating the siloxane polymer from the water/alcohol mixture or the alcohol(s).
摘要翻译：本发明涉及制备硅氧烷聚合物的方法，其包含至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团，其中R是不同于氢的部分，包括使一种或多种硅烷反应物在一起存在下反应在水/醇混合物中或在一种或多种醇中的水解催化剂以形成硅氧烷聚合物; 以及从水/醇混合物或醇分离硅氧烷聚合物。

5. 发明申请

US20100092895A1 SILICON-BASED ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITIONS 失效
标题翻译：硅基抗反射涂料组合物
公开(公告)号：US20100092895A1
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：US12449735
申请日：2008-02-25
申请人： Ruzhi Zhang , Wookyu Kim , David J. Abdallah , PingHung Lu , Mark O. Neissor , Ralph R. Dammel , Ari Karkkainen
发明人： Ruzhi Zhang , Wookyu Kim , David J. Abdallah , PingHung Lu , Mark O. Neissor , Ralph R. Dammel , Ari Karkkainen
IPC分类号： G03F7/20 , C08G77/04 , C08G77/38
CPC分类号： C08G77/045 , C09D183/04 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/3124
摘要： A polymer comprising a siloxane polymer having at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is condensation stabilizing group optionally having a reactive functional group, wherein the siloxane polymer, when placed into a solvent, has a weight average molecular weight increase of less than or equal to 50% after aging for one week at 40° C. as measured by GPC is provided.
摘要翻译：包含具有至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团的硅氧烷聚合物的聚合物，其中R是任选具有反应性官能团的缩合稳定基团，其中所述硅氧烷聚合物在置于溶剂中时具有重量提供了通过GPC测量的在40℃下老化1周后的平均分子量增加小于或等于50％。

6. 发明授权

US07638262B2 Antireflective composition for photoresists 有权
标题翻译：用于光致抗蚀剂的抗反射组合物
公开(公告)号：US07638262B2
公开(公告)日：2009-12-29
申请号：US11502706
申请日：2006-08-10
申请人： Hengpeng Wu , Zhong Xiang , Hong Zhuang , Jianhui Shan , Jian Yin , Huirong Yao , PingHung Lu
发明人： Hengpeng Wu , Zhong Xiang , Hong Zhuang , Jianhui Shan , Jian Yin , Huirong Yao , PingHung Lu
IPC分类号： G03F7/095 , G03F7/11 , G03F7/38 , G03F7/09
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S438/952
摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' 独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）烃基连接部分。本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

7. 发明授权

US08026040B2 Silicone coating composition 有权
标题翻译：硅胶涂料组合物
公开(公告)号：US08026040B2
公开(公告)日：2011-09-27
申请号：US11676673
申请日：2007-02-20
申请人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
发明人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
IPC分类号： G03F7/40 , G03F7/075 , G03F7/11
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/06
摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.
摘要翻译：本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。

8. 发明申请

US20080196626A1 SILICONE COATING COMPOSITION 有权
标题翻译：硅胶涂料组合物
公开(公告)号：US20080196626A1
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：US11676673
申请日：2007-02-20
申请人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
发明人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
IPC分类号： G03C1/46 , C04B28/26 , G03C8/00 , C08G77/20
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/06
摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.
摘要翻译：本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。

9. 发明授权

US08568958B2 Underlayer composition and process thereof 有权
标题翻译：底层组成及其工艺
公开(公告)号：US08568958B2
公开(公告)日：2013-10-29
申请号：US13164869
申请日：2011-06-21
申请人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Zachary Bogusz , PingHung Lu , WooKyu Kim , Mark Neisser
发明人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Zachary Bogusz , PingHung Lu , WooKyu Kim , Mark Neisser
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/00 , C08K5/04 , C08K5/00 , H01L51/00
CPC分类号： C08K5/0091 , G03F7/091 , G03F7/094 , C08L33/16 , C08L101/06
摘要： The present invention relates to an underlayer composition comprising a polymer, an organic titanate compound and optionally a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one fluoroalcohol group and at least one epoxy group. The invention also relates to a process for using this underlayer material as an antireflective coating composition and/or a hard mask for pattern transfer.
摘要翻译：本发明涉及包含聚合物，有机钛酸盐化合物和任选的热酸发生剂的底层组合物，其中聚合物包含至少一个氟代醇基团和至少一个环氧基团。本发明还涉及使用该底层材料作为抗反射涂料组合物和/或用于图案转印的硬掩模的方法。

10. 发明申请

US20080038659A1 Antireflective composition for photoresists 有权
标题翻译：用于光致抗蚀剂的抗反射组合物
公开(公告)号：US20080038659A1
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：US11502706
申请日：2006-08-10
申请人： Hengpeng Wu , Zhong Xiang , Hong Zhuang , Jianhui Shan , Jian Yin , Huirong Yao , PingHung Lu
发明人： Hengpeng Wu , Zhong Xiang , Hong Zhuang , Jianhui Shan , Jian Yin , Huirong Yao , PingHung Lu
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： G03F7/091 , Y10S438/952
摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' '独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C 1 -C 20 -C 20）烃基部分，W是（C 1 H 12） C 20 -C 20烃基连接部分，Y'独立地为（C 1 -C 20）烃基连接部分。本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

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