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    • 1. 发明授权
    • Universal spatial pattern recognition system
    • 通用空间模式识别系统
    • US07106897B1
    • 2006-09-12
    • US10134718
    • 2002-04-29
    • Michael G. McIntyreJames E. Morris
    • Michael G. McIntyreJames E. Morris
    • G06K9/00
    • G06K9/48G06K9/6292G06T7/0006G06T2207/30148
    • A method and apparatus for analyzing patterns in semiconductor wafers wherein the patterns are compared to a plurality of patterns stored in a common pattern library. A spatial pattern recognition engine is operable to receive a first set of data corresponding to a pattern on a semiconductor wafer and to generate a normalized contour representation of said first data set. A pattern analyzer compares the normalized data set to a plurality of reference contour data sets stored in a common pattern data reference library and generates a correlation label associating the first data set with one of the plurality of reference contour data sets. The label associated with the first data set is stored in a label storage database that can be accessed to perform subsequent analysis on the data associated with a specific wafer. The system can be used to analyze multiple types of patterns, including defect data, bin data, positional parameter data and in-line site data.
    • 一种用于分析半导体晶片中的图案的方法和装置,其中将图案与存储在公共图案库中的多个图案进行比较。 空间模式识别引擎可操作以接收对应于半导体晶片上的图案的第一组数据并产生所述第一数据集的归一化轮廓表示。 模式分析器将归一化数据集与存储在公共模式数据参考库中的多个参考轮廓数据集进行比较,并生成将第一数据集与多个参考轮廓数据集中的一个相关联的相关标签。 与第一数据集相关联的标签存储在可以被访问的标签存储数据库中,以对与特定晶片相关联的数据执行后续分析。 该系统可用于分析多种类型的模式,包括缺陷数据,仓库数据,位置参数数据和在线站点数据。