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1. 发明申请

WO2015075214A1 REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT, SOWIE OPTISCHES SYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：反射光学元件，以及微光刻投射曝光设备的光学系统
公开(公告)号：WO2015075214A1
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：PCT/EP2014/075356
申请日：2014-11-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , PAUL, Hans-Jochen , SCHICKETANZ, Thomas , DIER, Oliver , WEBER, Jörn , GRASSE, Christian , WINTER, Ralf , STROBEL, Sebastian
发明人： ENKISCH, Hartmut , PAUL, Hans-Jochen , SCHICKETANZ, Thomas , DIER, Oliver , WEBER, Jörn , GRASSE, Christian , WINTER, Ralf , STROBEL, Sebastian
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G21K1/062
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein reflektives optisches Element sowie ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Ein reflektives optisches Element weist ein Substrat (52) und ein auf diesem Substrat angeordnetes Viellagensystem (51) auf, wobei das Viellagensystem (51) eine Mehrzahl von Teilstapeln aus jeweils einer ersten Lage (54) eines ersten Materials und wenigstens einer zweiten Lage (55) eines zweiten Materials aufweist, wobei sich das erste Material und das zweite Material im Wert des Realteils des Brechungsindex bei einer Arbeitswellenlänge des reflektiven optischen Elements (50) voneinander unterscheiden, wobei jeder dieser Teilstapel (53) eine Teilstapeldicke (D i ) und ein Lagendickenverhältnis (Γ i ) aufweist, wobei das Lagendickenverhältnis (Γ i ) als Quotient der Dicke der jeweiligen ersten Lage (54) und der Teilstapeldicke (D i ) definiert ist, wobei in einem ersten Abschnitt des Viellagensystems (51) für wenigstens eine der beiden Größen Teilstapeldicke (D i ) und Lagendickenverhältnis (Γ i ) die mittlere quadratische Abweichung vom jeweiligen Mittelwert um wenigstens 10% kleiner ist als in einem zweiten Abschnitt des Viellagensystems (51); und wobei das reflektive optische Element (50) eine Reflektivität (R) aufweist, deren Wellenlängenabhängigkeit in einem Wellenlängenintervall von Δλ = 0.5nm einen PV-Wert kleiner als 0.25 besitzt, wobei der PV-Wert definiert ist als PV = (R max_rel - R min_rel )/R max_abs , wobei R max_rel den maximalen Reflektivitätswert in diesem Wellenlängenintervall Δλ, R min_rel den minimalen Reflektivitätswert in diesem Wellenlängenintervall Δλ und R max_abs den absolut maximalen Reflektivitätswert bezeichnen.
摘要翻译：本发明涉及一种反射光学元件和微光刻投射曝光设备的光学系统。一种反射光学元件包括基底（52）和设置在阀所述衬底的多层系统（51），所述多层系统（51）包括多个亚电池堆的每个包括第一材料的第一层（54）和至少一个第二层（55 ）第二材料，其中所述第一材料和在所述反射光学元件的工作波长的折射率的实数部分的值的第二材料（50）彼此不同，每个所述子叠层（53）（一个局部堆叠厚度（DI）和一个层厚度比 γI），其中所述片材厚度之比（γI）被定义为相应的第一层（54）和部件层叠厚度（DI），的厚度的比率，其中在所述多层系统（51），用于所述两个尺寸部分堆叠厚度中的至少一个的第一部分（DI）和位置厚度比（γI），根均从各自的均方差的至少10％是小比在多层系统（51）的第二部分; 并且其中，所述反射光学元件（50）具有一个反射率（R），其波长依赖性在波长间隔Δλ= 0.5nm的PV值具有小于0.25，其中，所述PV值被定义为PV =（Rmax_rel - Rmin_rel） / Rmax_abs其中Rmax_rel在该波长间隔Δλ，Rmin_rel最大反射率表示在该波长间隔Δλ最小反射率和Rmax_abs绝对最大反射率。

2. 发明申请

WO2017207264A1 MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE 审中-公开
标题翻译： EUV波长范围的镜子
公开(公告)号：WO2017207264A1
公开(公告)日：2017-12-07
申请号：PCT/EP2017/061697
申请日：2017-05-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WEBER, Joern , GRASSE, Christian , STROBEL, Sebastian , HUBER, Peter
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a mirror (S1, S2) for the EUV wavelength range and a projection lens (4) and illumination system (3) for microlithography comprising such a mirror (S1, S2). Furthermore, the invention relates to a projection exposure apparatus (1) for microlithography comprising such a projection lens (4) and/or such an illumination system (3). A mirror for the EUV wavelength range (S1, S2) according to the invention comprises a substrate and a layer arrangement, wherein the layer arrangement (X) comprises a reflective layer system (RL) having at least one layer subsystem (Ρ') and a protective layer system (SPL) protecting the substrate, wherein the protective layer system (SPL) comprises a periodical sequence of at least two periods (P SPL ), consisting of in each case two individual layers (AZ, R), characterized in that the first individual layer (AZ) of the period (P SPL ) simultaneously protects the substrate by absorbing the EUV radiation and compensates for layer stresses in the layer arrangement (X), and the respective second individual layer (R) reduces the surface roughness of the protective layer system (SPL) by smoothing the surface roughness of the first individual layer (AZ).
摘要翻译：本发明涉及用于EUV波长范围的反射镜（S1，S2）以及包括这种反射镜（S1，S2）的用于微光刻的投影透镜（4）和照明系统（3）。此外，本发明涉及包括这种投影透镜（4）和/或这种照明系统（3）的用于微光刻的投影曝光设备（1）。根据本发明的用于EUV波长范围（S1，S2）的反射镜包括衬底和层布置，其中层布置（X）包括具有至少一个层子系统（P'）的反射层系统（RL）和保护基底的保护层系统（SPL），其中保护层系统（SPL）包括至少两个周期（P SPL）的周期性序列，其分别由两个单独的层（AZ ，其特征在于，周期的第一单层（AZ）通过吸收EUV辐射同时保护衬底并补偿层布置（X）中的层应力，并且相应的第二单层（R）通过平滑第一单层（AZ）的表面粗糙度来降低保护层系统（SPL）的表面粗糙度。

3. 发明申请

WO2018054795A1 REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：反射光学元件
公开(公告)号：WO2018054795A1
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：PCT/EP2017/073377
申请日：2017-09-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FREIMANN, Rolf , BECKER, Hans Willy , GRASSE, Christian
IPC分类号： G02B5/08 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B5/0883 , G21K1/062 , G21K2201/064
摘要： Zur Erhöhung der Reflektivität wird ein reflektives optisches Element (50) für den extrem 5 ultravioletten Wellenlängenbereich mit einem Viellagensystem (51) auf einem Substrat (52) vorgeschlagen, bei dem das Viellagensystem (51) erste und zweite Lagen (54, 55) aus jeweils Materialien mit unterschiedlichem Realteil des Brechungsindex bei einer bestimmten Wellenlänge im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich aufweist, die abwechselnd angeordnet sind, wobei zwischen einer ersten (54) und einer zweiten Lage 10 (55) oder einer zweiten (55) und einer ersten Lage (54) eine Übergangsschicht (58, 59) angeordnet ist, deren Brechungsindex bei der bestimmten Wellenlänge über die Dicke (D) der Übergangsschicht variabel ist.
摘要翻译：
为了玉儿＆OUML;悬挂在反射率＆AUML; t是用于在衬底上导航用途ř极其5紫外线波长BEAR提出长度范围内具有多层系统（51）（52）的反射光学元件（50），其中多层系统（51）的每一个在特定波长＆AUML具有折射率不同的实部的材料的第一层和第二层（54，55）;长度在极紫外波长BEAR长度范围，这是交替地布置，其中第一（54）之间以及第二层10（55）或第二（55）和第一层（54）是一个导航用途bergangsschicht（58,59）布置，折射在特定波长＆AUML的索引; NGE在导航用途的厚度（d）过渡层是可变的。

4. 发明申请

WO2017186439A1 OPTISCHES ELEMENT UND OPTISCHE ANORDNUNG DAMIT 审中-公开
标题翻译：光学元件及其光学安装
公开(公告)号：WO2017186439A1
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：PCT/EP2017/057277
申请日：2017-03-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： GRASSE, Christian , DIER, Oliver , WEBER, Jörn , WINTER, Ralf
IPC分类号： G02B1/16 , G21K1/06 , G02B5/08 , G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Element (14), insbesondere für die EUV-Lithographie, umfassend: ein Substrat (15), eine auf das Substrat (15) aufgebrachte reflektierende Beschichtung (16), sowie eine sich zwischen dem Substrat (15) und der reflektierenden Beschichtung (16) erstreckende elektrisch leitende Beschichtung (19), die mindestens eine erste, unter Zugspannung stehende Schicht (22a) und mindestens eine zweite, unter Druckspannung stehende Schicht (22b) aufweist. Die elektrisch leitende Beschichtung (19) weist mindestens einen Abschnitt (20) auf, der sich an dem Substrat (15) seitlich über die reflektierende Beschichtung (16) hinaus erstreckt. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, insbesondere ein EUV-Lithographiesystem, mit mindestens einem solchen optischen Element (14).
摘要翻译：本发明涉及一种尤其用于EUV光刻的光学元件（14），包括：衬底（15），施加到衬底（15）的反射涂层（16），以及在基底（15）和反射涂层（16）之间延伸的导电涂层（19），其包括至少第一张紧层（22a）和至少第二压缩应力层（22b）。导电涂层（19）具有至少一个横向延伸超过衬底（15）上的反射涂层（16）的部分（20）。本发明还涉及一种光学装置，特别是EUV光刻系统，其具有至少一个这样的光学元件（14）

5. 发明申请

WO2017009014A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES SPIEGELS, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：制造方法MIRROR，尤其是对于微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2017009014A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：PCT/EP2016/064385
申请日：2016-06-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DIER, Oliver , GRASSE, Christian , WEBER, Jörn , SIX, Stephan
发明人： DIER, Oliver , GRASSE, Christian , WEBER, Jörn , SIX, Stephan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Spiegels sowie einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren wird in einer Beschichtungsanlage ein Spiegelsubstrat durch Aufbringen eines vorgegebenen Schichtaufbaus zur Erzielung eines vorgegebenen Soll-Schichtdickenprofils des Spiegels beschichtet, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Virtuelles Unterteilen des vorgegebenen Schichtaufbaus in wenigstens zwei Schichtsysteme (610, 710, 620, 720, 730), und Beschichten des Spiegelsubstrats (605, 705) durch Aufbringen der wenigstens zwei Schichtsysteme unter Vorgabe unterschiedlicher Einzel-Soll-Schichtdickenprofile für diese Schichtsysteme, wobei diese Einzel-Soll-Schichtdickenprofile so gewählt werden, dass sich die jeweiligen Abweichungen der Einzel-Soll-Schichtdickenprofile von dem vorgegebenen Soll-Schichtdickenprofil in ihrem Beitrag zur Wellenfrontwirkung des Spiegels wenigstens teilweise kompensieren.
摘要翻译：本发明涉及一种制造反射镜和反射镜，特别是用于微光刻投射曝光设备的方法。 710，620，720虚拟分割所述规定层结构在至少两个层系统（610：在涂布系统中的本发明的方法中，反射镜衬底是通过施加预定的层结构，用于实现所述反射镜的预定的期望层厚度分布涂覆，所述方法包括以下步骤，730），以及镜基板（605的涂层，705），通过不同的各个目标层厚度分布对于这些层系统，其中，这些单独的目标层厚度分布被选择为使得规范应用所述至少两层系统中的单个的各自的偏差期望层厚度分布从预定的期望层厚度分布在其对波阵面的镜面效果的贡献至少部分地补偿。

6. 发明公开

EP3323019A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES SPIEGELS, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 有权
公开(公告)号：EP3323019A1
公开(公告)日：2018-05-23
申请号：EP16734227.8
申请日：2016-06-22
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： DIER, Oliver , GRASSE, Christian , WEBER, Jörn , SIX, Stephan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a method for producing a mirror and to a mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus. In a method according to the invention, a mirror substrate is coated in a coating apparatus by applying a predefined layer structure for achieving a predefined target layer thickness profile of the mirror, wherein the method comprises the following steps: visually subdividing the predefined layer structure into at least two layer systems (610, 710, 620, 720, 730), and coating the mirror substrate (605, 705) by applying the at least two layer systems with different individual target layer thickness profiles being provided for said layer systems, wherein said individual target layer thickness profiles are chosen such that each of the deviations of the individual target layer thickness profiles from the predefined target layer thickness profile at least partially compensates in the contribution thereof to the wavefront effect of the mirror.

7. 发明授权

EP3449291B1 OPTISCHES ELEMENT UND OPTISCHE ANORDNUNG DAMIT 有权
公开(公告)号：EP3449291B1
公开(公告)日：2020-09-16
申请号：EP17714188.4
申请日：2017-03-28
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： GRASSE, Christian , DIER, Oliver , WEBER, Jörn , WINTER, Ralf
IPC分类号： G02B1/16 , G21K1/06 , G02B5/08 , G03F7/20

8. 发明公开

EP3438744A1 METHOD FOR TREATING A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND TREATING APPARATUS 有权
公开(公告)号：EP3438744A1
公开(公告)日：2019-02-06
申请号：EP18183568.7
申请日：2018-07-13
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： GRASSE, Christian , HERMANN, Martin , SIX, Stephan , WEBER, Jörn , WINTER, Ralf , DIER, Oliver , SHKLOVER, Vitaliy , HILD, Kerstin , STROBEL, Sebastian
IPC分类号： G03F1/24 , G03F1/52 , G02B5/08 , G02B1/12 , G21K1/06
摘要： A method and an apparatus for treating a reflective optical element (104) for the EUV wavelength range comprising a reflective coating on a substrate is proposed, wherein the reflective optical element (104) in a holder (106) is irradiated with at least one radiation pulse of a radiation source (102) having a duration of between 1 µs and 1 s, wherein irradiation is carried out by means of at least one radiation source (102) and the at least one radiation source (102) and the reflective optical element (104) perform a relative movement with respect to one another. Preferably, this is carried out directly after applying the reflective coating in a coating chamber (100). Reflective optical elements of this type are suitable in particular for use in EUV lithography or EUV inspection of masks or wafers, for example.

9. 发明公开

EP3449291A1 OPTISCHES ELEMENT UND OPTISCHE ANORDNUNG DAMIT 有权
公开(公告)号：EP3449291A1
公开(公告)日：2019-03-06
申请号：EP17714188.4
申请日：2017-03-28
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： GRASSE, Christian , DIER, Oliver , WEBER, Jörn , WINTER, Ralf
IPC分类号： G02B1/16 , G21K1/06 , G02B5/08 , G03F7/20

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