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1. 发明申请

WO2009010592A1 ANORDNUNG ZUM BERÜHRUNGSLOSEN TRANSPORT VON FLACHEN SUBSTRATEN 审中-公开
标题翻译：装置，用于平面基底的非接触运输
公开(公告)号：WO2009010592A1
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：PCT/EP2008/059530
申请日：2008-07-21
申请人： CENTROTHERM THERMAL SOLUTIONS GMBH + CO. KG , VOELK, Hans-Peter , HARTUNG, Robert Michael
发明人： VOELK, Hans-Peter , HARTUNG, Robert Michael
IPC分类号： B65G51/03 , H01L21/677
CPC分类号： B65G51/03 , H01L21/67784
摘要： Die Erfindung betrifft eine Anordnung zum berührungslosen Transport von flachen Substraten, insbesondere von quadratischen oder eckigen Platten hoher Bruchempfindlichkeit, entlang eines Transportweges. Durch die Erfindung soll eine Anordnung zum berührungslosen Transport von flachen Substraten geschaffen werden, mit der die Substrate auch Überkopf sicher beschleunigt, transportiert und wieder abgebremst werden können und zwar unabhängig von der Umgebungsatmosphäre und Umgebungstemperatur. Erreicht wird das dadurch, dass eine Mehrzahl von Bernoulli-Greifern (2a, 2b) beidseitig eines Transportweges (3) abstandsweise hintereinander angeordnet sind, derart, dass das zu transportierende Substrat (1) die Bernoulli-Greifer (2a, 2b) beidseitig des Transportweges (3) jeweils nur teilweise überdeckt, dass die Bernoulli-Greifer (2a, 2b) jeweils einen rechts oder links drehenden zum Substrat (1) und in Transportrichtung gerichteten Gasstrom (5, 6) erzeugen, wobei die Bernoulli-Greifer (2a, 2b) eines Paares jeweils einen unterschiedlich drehenden Gasstrom (5, 6) erzeugen und dass beidseitig des Transportweges (3) mechanische Seitenführungselemente vorgesehen ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于平面基底的非接触式运输，特别是正方形或高易于骨折的矩形板的布置中，沿着传送路径。本发明提供了一种用于平面基底的非接触式传输的安排是要创建，利用该基材还开销安全地加速可以再次被输送并减速而不管周围大气和环境温度。这是在将多个伯努利夹持器（2A，2B）的传送路径（3）在两侧布置在另一个后面的距离之一，来实现，使得可运输衬底（1）上的传输路径的两侧上的伯努利夹持器（2A，2B）（3）仅部分地覆盖，所述伯努利夹持器（2A，2B）分别具有向左或向右旋转到基板（1）和引导在输送气流的（5,6）生成，方向，其中，所述伯努利夹持器（2A，2B ）一对分别具有不同的旋转气流（如图5所示，产生6）和所述传送路径（3）机械横向引导元件是设置在两侧上。

2. 发明申请

WO2007090900A1 VORRICHTUNG ZUR BEHANDLUNG VON DÜNNEN SCHEIBENFÖRMIGEN OBJEKTEN IM DURCHLAUFVERFAHREN IN EINEM VERTIKALREAKTOR 审中-公开
标题翻译： DEVICE薄圆盘状物体连续过程的在立式反应器处理
公开(公告)号：WO2007090900A1
公开(公告)日：2007-08-16
申请号：PCT/EP2007/051340
申请日：2007-02-12
申请人： CENTROTHERM PHOTOVOLTAICS AG , MOELLER, Rainer , VOELK, Hans-Peter , WANKA, Harald
发明人： MOELLER, Rainer , VOELK, Hans-Peter , WANKA, Harald
IPC分类号： F27B9/14 , F27B9/30 , H01L21/00 , H01L21/324 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67748 , H01L21/67115
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Behandlung von Wafern (1) im Durchlauf verfahren in einem Vertikalreaktor (2) der mit einer Einrichtung zum Be- und Entladen der Wafer (1) gekoppelt ist. Mit der Vorrichtung soll ein schonender Durchlauf der Wafer (1) durch den Vertikalreaktor (2) gewährleistet werden. Erreicht wird das dadurch, dass in dem Vertikalreaktor (2) zwei fest stehende Waferträger (3, 4) zur liegenden Aufnahme einer Vielzahl von Wafern (1) derart in einem vorgegebenen Abstand nebeneinander angeordnet sind, dass eine zwischen den Waferträgern (3, 4) befindliche Hub- und Schwenkeinheit (5) zur vorübergehenden liegenden Aufnahme von Wafern (1) frei drehbar und teilweise durch die Position der Waferträger (3, 4), diese durchdringend, bewegbar ist und innerhalb des Vertikalreaktors (2) in eine freie Position (6) hinter und eine Übergabeposition (7) vor den Waferträgern (3, 4) positionierbar ist und in der Übergabeposition (7) mit der außerhalb des Vertikalreaktors (2) befindlichen externen Be- und Entladeeinheit (8) für einzelne Wafer (1) in Wirkverbindung steht und wobei die Anzahl der Aufnahmepositionen für die Wafer (1) in der Hub- und Schwenkeinheit (5) mindestens um eins größer ist, als in den Waferträgern (3, 4).
摘要翻译：本发明涉及一种用于在连续过程中处理的晶片（1）在立式反应器（2）的装置与用于装载的装置和卸载（1）耦合在晶片。与该装置的晶片（1）由所述竖直反应器（2）的温和通道被确保。这是，在所述竖直反应器（2）的两个固定的晶片载体（3,4）被布置为位于（1）在由侧的规定距离侧接收多个晶片的实现的，即晶片载体之间（3，4）升降位于与枢转单元（5），用于暂时位于接收晶片（1）可自由旋转，并部分地由所述晶片载体的位置（3,4），这是很普遍的，可移动的自由位置（竖直反应器（2）6内）的后面并在所述晶片载体的前面（3的转印位置（7），4）被定位和（与转印位置7）（位于竖直反应器2）外部装载和卸载单元的外部（8），用于在可操作地连接各个晶片（1）是并且其中用于所述晶片的记录位置的数目（1）在所述提升和枢转单元（5）至少比在晶片载体大1（3，4）。

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