基本信息:
- 专利标题： Apparatus and methods for a low inductance plasma chamber
- 专利标题（中）：低电感等离子体室的装置和方法
- 申请号：US11179035 申请日：2005-07-11
- 公开(公告)号：US20060027327A1 公开(公告)日：2006-02-09
- 发明人： Carl Sorensen , John White , Suhail Anwar
- 申请人： Carl Sorensen , John White , Suhail Anwar
- 专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 主分类号： C23F1/00
- IPC分类号： C23F1/00
摘要：
In certain aspects, a plasma chamber is provided that has (1) a chamber size of at least about 1.8 by 2.0 meters; and (2) an effective inductance having an inductive reactance of not more than about 12-15 ohms. The plasma chamber may be used, for example, to process substrates used for flat panel displays. Numerous other aspects are provided.
摘要（中）：
在某些方面，提供了一种等离子体室，其具有（1）至少约1.8×2.0米的室尺寸; 和（2）具有不大于约12-15欧姆的感抗的有效电感。 等离子体室可以用于例如处理用于平板显示器的基板。 提供了许多其他方面。