基本信息:
- 专利标题： 用於在射頻環境中之裝置的控制架構
- 专利标题（英）：CONTROL ARCHITECTURE FOR DEVICES IN AN RF ENVIRONMENT
- 专利标题（中）：用于在射频环境中之设备的控制架构
- 申请号：TW104139236 申请日：2015-11-25
- 公开(公告)号：TWI693653B 公开(公告)日：2020-05-11
- 发明人： 克里米奈爾菲利浦 , CRIMINALE, PHILLIP , 巴巴揚史蒂芬E , BABAYAN, STEVEN E. , 馬洛爾丹恩A , MAROHL, DAN A.
- 申请人： 美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
- 专利权人： 美商應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： 美商應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 代理人： 李世章; 彭國洋
- 优先权： 14/555,424 20141126
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67
公开/授权文献:
- TW201626490A 用於在射頻環境中之裝置的控制架構 公开/授权日：2016-07-16
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/67 | .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置 |