基本信息:
- 专利标题： 氣相化合物原位形成之方法和系統
- 专利标题（英）：METHOD AND SYSTEM FOR IN SITU FORMATION OF GAS-PHASE COMPOUNDS
- 专利标题（中）：气相化合物原位形成之方法和系统
- 申请号：TW104122889 申请日：2015-07-15
- 公开(公告)号：TWI683922B 公开(公告)日：2020-02-01
- 发明人： 托勒 約翰 , TOLLE, JOHN , 希爾 艾瑞克 , HILL, ERIC , 威克勒 傑瑞德 李 , WINKLER, JERELD LEE
- 申请人： 荷蘭商ASM智慧財產控股公司 , ASM IP HOLDING B. V.
- 专利权人： 荷蘭商ASM智慧財產控股公司,ASM IP HOLDING B. V.
- 当前专利权人： 荷蘭商ASM智慧財產控股公司,ASM IP HOLDING B. V.
- 代理人： 閻啓泰; 林景郁
- 优先权： 14/465,252 20140821
- 主分类号： C23C16/448
- IPC分类号： C23C16/448 ; C23C16/52
公开/授权文献:
- TW201615883A 氣相化合物原位形成之方法和系統 公开/授权日：2016-05-01