基本信息:

• 专利标题： 電氣結構製程及電氣結構
• 专利标题（英）：Process of electronic structure and electronic structure
• 专利标题（中）：电气结构制程及电气结构
• 申请号：TW100107938 申请日：2011-03-09
• 公开(公告)号：TWI413475B 公开(公告)日：2013-10-21
• 发明人： 何崇文 , HO, CHUNG W.
• 申请人： 旭德科技股份有限公司 ,  SUBTRON TECHNOLOGY CO. LTD.
• 申请人地址： 新竹縣
• 专利权人： 旭德科技股份有限公司,SUBTRON TECHNOLOGY CO. LTD.
• 当前专利权人： 旭德科技股份有限公司,SUBTRON TECHNOLOGY CO. LTD.
• 当前专利权人地址： 新竹縣
• 代理人： 詹銘文
• 主分类号： H05K3/46
• IPC分类号： H05K3/46 ; B32B7/06

公开/授权文献:

• TW201238422A  電氣結構製程及電氣結構 PROCESS OF ELECTRONIC STRUCTURE AND ELECTRONIC STRUCTURE 公开/授权日：2012-09-16

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