基本信息:
- 专利标题： 光照射裝置、基板處理裝置及基板處理裝置之製造方法
- 专利标题（英）：Light irradiating apparatus, substrate treating apparatus, and method of producing substrate treating apparatus
- 专利标题（中）：光照射设备、基板处理设备及基板处理设备之制造方法
- 申请号：TW103129714 申请日：2014-08-28
- 公开(公告)号：TW201523767A 公开(公告)日：2015-06-16
- 发明人： 島井太 , SHIMAI, FUTOSHI , 佐藤晶彦 , SATO, AKIHIKO , 細田浩 , HOSODA, HIROSHI , 千葉正樹 , CHIBA, MASAKI
- 申请人： 東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 专利权人： 東京應化工業股份有限公司,TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 当前专利权人： 東京應化工業股份有限公司,TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 2013-180667 20130830;2014-132560 20140627
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67 ; G03F7/20
摘要：
一種光照射裝置，係具備有：具有特定面，並可收容基板之腔；和被設置於前述特定面處，並能夠進行前述基板之搬入以及搬出之基板搬入搬出口；和以使通過前述基板搬入搬出口而被搬入至前述腔之內部的前述基板通過前述基板搬入搬出口而被搬出至前述腔之外部的方式來在前述腔之內部使前述基板移動之基板移動部；和對於在前述腔之內部移動的前述基板照射既定之波長之光之光照射部。
摘要（中）：
一种光照射设备，系具备有：具有特定面，并可收容基板之腔；和被设置于前述特定面处，并能够进行前述基板之搬入以及搬出之基板搬入搬出口；和以使通过前述基板搬入搬出口而被搬入至前述腔之内部的前述基板通过前述基板搬入搬出口而被搬出至前述腔之外部的方式来在前述腔之内部使前述基板移动之基板移动部；和对于在前述腔之内部移动的前述基板照射既定之波长之光之光照射部。
摘要（英）：
A light irradiating apparatus including: a chamber having a predetermined face and being capable of accommodating a substrate; a substrate loading/unloading port provided on the predetermined face and being capable of loading and unloading the substrate; a substrate transferring part which transfer the substrate being passed through the substrate loading/unloading port and loaded inside the chamber to be passed through the substrate loading/unloading port and unloaded outside the chamber; and a light irradiating part which irradiates a light having a predetermined wavelength to the substrate being transferred inside the chamber.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/67 | .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置 |