基本信息:
- 专利标题： 電感結構與其形成方法
- 专利标题（英）：Inductor structure and method for forming the same
- 专利标题（中）：电感结构与其形成方法
- 申请号：TW103115768 申请日：2014-05-02
- 公开(公告)号：TW201515029A 公开(公告)日：2015-04-16
- 发明人： 曾元泰 , TSENG, YUAN TAI , 劉銘棋 , LIU, MING CHYI , 周仲彥 , CHOU, CHUNG YEN , 蔡嘉雄 , TSAI, CHIA SHIUNG
- 申请人： 台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 申请人地址： 新竹市
- 专利权人： 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 当前专利权人： 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 新竹市
- 代理人： 洪澄文; 顏錦順
- 优先权： 14/044,979 20131003
- 主分类号： H01F17/00
- IPC分类号： H01F17/00 ; H01F41/02
摘要：
本揭露提供一種電感結構與其形成方法。電感結構包括：一基板；一第一介電層形成在該基板之上；一第一金屬層形成在該第一介電層之中；一第二介電層形成在該第一金屬層之上；以及一磁性層形成在該第一介電層之上，其中該磁性層具有一上表面、一下表面與複數個側壁表面介於該上表面與該下表面之間，且其中該些側壁表面具有至少兩個交界點(intersection points)。
摘要（中）：
本揭露提供一种电感结构与其形成方法。电感结构包括：一基板；一第一介电层形成在该基板之上；一第一金属层形成在该第一介电层之中；一第二介电层形成在该第一金属层之上；以及一磁性层形成在该第一介电层之上，其中该磁性层具有一上表面、一下表面与复数个侧壁表面介于该上表面与该下表面之间，且其中该些侧壁表面具有至少两个交界点(intersection points)。
摘要（英）：
Embodiments of mechanisms of forming an inductor structure are provided. The inductor structure includes a substrate and a first dielectric layer formed over the substrate. The inductor structure includes a first metal layer formed in the first dielectric layer and a second dielectric layer over the first metal layer. The inductor structure further includes a magnetic layer formed over the first dielectric layer, and the magnetic layer has a top surface, a bottom surface and sidewall surfaces between the top surface and the bottom surface, and the sidewall surfaces have at least two intersection points.
公开/授权文献:
- TWI537995B 電感結構與其形成方法 公开/授权日：2016-06-11
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01F | 磁体；电感；变压器；磁性材料的选择 |
| ------H01F17/00 | 信号类型的固定电感器 |