基本信息:
- 专利标题： 多層光阻層合體用剝離液及多層光阻層合體之處理方法
- 专利标题（英）：Stripping liquid used in multiple photoresist layer incorporation and processing method of same
- 专利标题（中）：多层光阻层合体用剥离液及多层光阻层合体之处理方法
- 申请号：TW099108368 申请日：2010-03-22
- 公开(公告)号：TW201106117A 公开(公告)日：2011-02-16
- 发明人： 原口高之 , 米村幸治 , 山下直紀 , 橫井滋 , 熊澤明 , 江藤崇弘
- 申请人： 東京應化工業股份有限公司
- 申请人地址： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 日本 JP
- 专利权人： 東京應化工業股份有限公司
- 当前专利权人： 東京應化工業股份有限公司
- 当前专利权人地址： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 日本 JP
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 日本 2009-072085 20090324 日本 2009-271051 20091130
- 主分类号： G03F
- IPC分类号： G03F ; C11D
The present invention provides a photoresist stripping liquid which can simultaneously strip the photoresist film and become the coating film of its lower layer. The present invention provides a stripping liquid used in multiple photoresist layer, which is used to form directly or through the other layer the inorganic photoresist lower-layer film on the substrate and to form the multiple photoresist layer incorporation of the photoresist film on the aforementioned inorganic photoresist lower-layer film. The aforementioned inorganic photoresist lower-layer film and the aforementioned photoresist film is removed by using the stripping liquid used in multiple photoresist layer incorporation, which contains (A) the quaternary ammonium hydroxide, (B) the water-soluble organic solvent, and (C) the water.
公开/授权文献:
- TWI495966B 多層光阻層合體用剝離液及多層光阻層合體之處理方法 公开/授权日：2015-08-11