基本信息:
- 专利标题： 狀態量測裝置及狀態量測方法
- 专利标题（英）：State-measuring apparatus and state-measuring method
- 专利标题（中）：状态量测设备及状态量测方法
- 申请号：TW098111945 申请日：2009-04-10
- 公开(公告)号：TW201003035A 公开(公告)日：2010-01-16
- 发明人： 田口都一 , 大川內真
- 申请人： 大塚電子股份有限公司
- 申请人地址： OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD. 日本 JP
- 专利权人： 大塚電子股份有限公司
- 当前专利权人： 大塚電子股份有限公司
- 当前专利权人地址： OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD. 日本 JP
- 代理人： 洪澄文
- 优先权： 日本 2008-118322 20080430
- 主分类号： G01B
- IPC分类号： G01B ; G01J
摘要：
為了使吸光度產生週期性地變動的干涉相位角的影響減低至零，極力減低s偏光成份，將以p偏光成份為主體的光以既定的入射角照射被測定物（OBJ）。入射角為包含在膜（24）與基板（22）的介面，以及在膜（24）與真空的介面，p偏光成份的振幅反射率分別為最小值的入射角的既定範圍內的值。
摘要（中）：
为了使吸光度产生周期性地变动的干涉相位角的影响减低至零，极力减低s偏光成份，将以p偏光成份为主体的光以既定的入射角照射被测定物（OBJ）。入射角为包含在膜（24）与基板（22）的界面，以及在膜（24）与真空的界面，p偏光成份的振幅反射率分别为最小值的入射角的既定范围内的值。
摘要（英）：
A measured object OBJ is irradiated with a light, constituted mainly of a p-polarized light component, at a predetermined incident angle, while minimizing the s-polarized light component, in order to eliminate the influence of an interference phase angle that causes periodic variation to absorbance. The incident angle includes preset incident angles at which amplitude reflectance of the p-polarized light component becomes a minimum value, respectively, in an interface between a thin film 24 and the substrate 22 and in an interface between vacuum and the thin film 24.
公开/授权文献:
- TWI452257B 狀態量測裝置及狀態量測方法 公开/授权日：2014-09-11