基本信息:
- 专利标题： 더블 패터닝 공정을 위한 디자인 레이아웃 디콤포지션 방법
- 专利标题（英）：Method of decomposing design layout for double patterning process
- 专利标题（中）：分解双图案设计布局的方法
- 申请号：KR1020140014295 申请日：2014-02-07
- 公开(公告)号：KR1020150093472A 公开(公告)日：2015-08-18
- 发明人： 서상욱 , 이정훈 , 신혜수
- 申请人： 삼성전자주식회사
- 申请人地址： ***, Samsung-ro, Yeongtong-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea
- 专利权人： 삼성전자주식회사
- 当前专利权人： 삼성전자주식회사
- 当前专利权人地址： ***, Samsung-ro, Yeongtong-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea
- 代理人： 특허법인 고려
- 主分类号： G06F17/50
- IPC分类号： G06F17/50
摘要：
컴퓨팅 시스템에 의해 폴리곤 형상의 디자인 레이아웃을 커브드 형상의 디자인 레이아웃으로 변환하고, 상기 커브드 형상의 디자인 레이아웃에 컬러링을 진행하며, 상기 컬러링된 커브드 형상의 디자인 레이아웃의 스티칭 영역에 아큐트 코너 방지용 스티칭 형상을 생성하며, 상기 아큐트 코너 방지용 스티칭 형상이 생성된 커브드 형상의 디자인 레이아웃을 컬러에 따라 각각 분리하며, 및 상기 분리된 각각의 커브드 형상의 디자인 레이아웃을 폴리곤 형상의 디자인 레이아웃으로 변환하는 것을 포함하는 더블 패터닝 공정을 위한 디자인 레이아웃 디콤포지션 방법을 제공한다.
摘要（中）：
本发明提供了一种用于双重图案化工艺的设计布局分解方法。 根据设计布局分解方法，使用计算机系统将多边形的设计布局改为弯曲形状的设计布局; 弯曲形状的设计布局是彩色的; 在彩色设计布局的弯曲形状的缝合区域中形成用于防止锐角的缝合形状; 基于颜色分离形成用于防止急转弯的缝合形状的弯曲形状的设计布局; 并且将弯曲形状中分离的设计布局改变为多边形形状的设计布局。
摘要（英）：
In the stitching area of the design layout of the conversion the design layout of the polygonal shape by the computing system, the design layout of the curve de shape, and proceed with the coloring in the design layout of the curve de shape, and the coloring curve de shape Oh acute corner preventing thereby creating a stitch shape, the O acute corners for preventing and stitching shape separates the design layout of the generated curve de shape each according to the color, and converting the design layout of the divided each curve de shape to design the layout of the polygonal shape It provides a composition di design method for double patterning process comprises.
公开/授权文献:
- KR102253129B1 더블 패터닝 공정을 위한 디자인 레이아웃 디콤포지션 방법 公开/授权日：2021-05-18