基本信息:
- 专利标题： 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
- 专利标题（英）：JP2018059992A - Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method and manufacturing method of electronic device
- 申请号：JP2016195930 申请日：2016-10-03
- 公开(公告)号：JP2018059992A 公开(公告)日：2018-04-12
- 发明人： 小島 雅史 , 後藤 研由 , 浅川 大輔 , 加藤 啓太 , 崎田 享平 , 王 惠瑜
- 申请人： 富士フイルム株式会社
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理人： 特許業務法人航栄特許事務所; 高松 猛; 尾澤 俊之
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/038 ; G03F7/20 ; G03F7/004
摘要：
【課題】ラフネス性能と露光ラチチュードが非常に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法を提供する。 【解決手段】活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される酸を発生する化合物、及び、樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法。 上記一般式(I)中、Rfは、フッ素原子を含むアルキル基を表す。Xは、−COO−、−OCO−、−COS−、−SCO−、−CONR 1 −、−NR 2 CO−、−OCOO−、−NR 3 COO−、−OCONR 4 −、−NR 5 CONR 6 −、−SCOO−、−OCOS−、−SCOS−、−SCONR 7 −又は−NR 8 COS−で表される基を表す。 【選択図】なし
公开/授权文献:
- JP6846151B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法 公开/授权日：2021-03-24