基本信息:
- 专利标题: Magnetoresistive element and semiconductor memory
- 专利标题(中):磁性元件和半导体存储器
- 申请号:JP2010262721 申请日:2010-11-25
- 公开(公告)号:JP2012114288A 公开(公告)日:2012-06-14
- 发明人: RI EIMIN
- 申请人: Fujitsu Ltd , 富士通株式会社
- 专利权人: Fujitsu Ltd,富士通株式会社
- 当前专利权人: Fujitsu Ltd,富士通株式会社
- 优先权: JP2010262721 2010-11-25
- 主分类号: H01L27/105
- IPC分类号: H01L27/105 ; G11C11/15 ; H01L21/8246 ; H01L29/82 ; H01L43/08
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure both the margin of the write current and the margin of retention.SOLUTION: The magnetoresistive element comprises: a first ferromagnetic tunnel junction element where a first fixed layer, a first tunnel insulating film and a first free layer are laminated; and a second ferromagnetic tunnel junction element where a second fixed layer, a second tunnel insulating film and a second free layer are laminated, the second ferromagnetic tunnel junction element being connected to the first ferromagnetic tunnel junction element in series. Lamination direction of the first fixed layer, first tunnel insulating film and first free layer is opposite from the lamination direction of the second fixed layer, second tunnel insulating film and second free layer. The thickness of the first tunnel insulating film is different from the thickness of the second tunnel insulating film, and the first ferromagnetic tunnel junction element and second ferromagnetic tunnel junction element are formed using a common mask material by etching. Consequently, the cross-sectional area and the volume of the first and second free layers can be substantially equalized, and the write current can be set commonly.
摘要(中):
要解决的问题:确保写入电流的裕度和保留余量。 解决方案:磁阻元件包括:第一铁磁隧道结元件,其中第一固定层,第一隧道绝缘膜和第一自由层被层压; 以及层叠有第二固定层,第二隧道绝缘膜和第二自由层的第二铁磁隧道结元件,所述第二铁磁隧道结元件串联连接到所述第一铁磁隧道结元件。 第一固定层,第一隧道绝缘膜和第一自由层的层叠方向与第二固定层,第二隧道绝缘膜和第二自由层的层叠方向相反。 第一隧道绝缘膜的厚度与第二隧道绝缘膜的厚度不同,并且通过蚀刻使用公共掩模材料形成第一铁磁隧道结元件和第二铁磁隧道结元件。 因此,第一自由层和第二自由层的横截面积和体积可以基本相等,并且可以共同地设定写入电流。 版权所有(C)2012,JPO&INPIT
公开/授权文献:
- JP5671972B2 磁気抵抗素子および半導体メモリ 公开/授权日:2015-02-18
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L27/00 | 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件 |
--------H01L27/02 | .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的 |
----------H01L27/04 | ..其衬底为半导体的 |
------------H01L27/06 | ...在非重复结构中包括有多个单个组件的 |
--------------H01L27/105 | ....包含场效应组件的 |