发明专利
JP2007536745A Semiconductor devices that utilize the position and sign of the electron spin
审中-公开
基本信息:
- 专利标题: Semiconductor devices that utilize the position and sign of the electron spin
- 申请号:JP2007511827 申请日:2005-05-03
- 公开(公告)号:JP2007536745A 公开(公告)日:2007-12-13
- 发明人: グールド、チャールス , シュミット、ゲオルク , モーレンカンプ、ローレンス、ヴェー , リスター、クリスチアン
- 申请人: イーテク アーゲー
- 专利权人: イーテク アーゲー
- 当前专利权人: イーテク アーゲー
- 优先权: US56882304 2004-05-07; US60357104 2004-08-24; US64155804 2004-12-28
- 主分类号: H01L43/08
- IPC分类号: H01L43/08 ; H01F10/193 ; H01F10/32 ; H01F41/30 ; H01L29/66
0.94 Mn
0.06 As/非ドープ型GaAs/Ga
0.94 Mn
0.06 As3層構造と非ドープ型LT−GaAs緩衝層とを有する両面構造を設けることができる。 内側の正方形接点と周囲の電気バック接点とがある。 このサンプル構造によれば、強磁性体およびGaAsトンネル障壁の双方を通して2プローブ式磁気抵抗測定を実行することができる。 デバイスの抵抗は、トンネル障壁を介する垂直トンネリングプロセスによって充分優位を占めている。
Providing a substrate, growing a ferromagnetic layer on the substrate, growing a tunnel barrier layer over the ferromagnetic layer, the step providing a first non-magnetic metal contact over the ferromagnetic layer and by a method comprising the step of providing a second non-magnetic metal contacts for a single ferromagnetic layer, a spin valve structure showing a layer structure utilized for the magnetic tunnel junction is provided. In addition to such single-sided structure, the upper surface of semi-insulating GaAs substrate, for example, Ga 0.94 Mn 0.06 As / undoped GaAs / Ga 0.94 Mn 0.06 As3 layer structure and undoped LT it is possible to provide a double-sided structure having a -GaAs buffer layer. There is an inner square contact with the surrounding electrical back contact. According to this example structure, it is possible to perform the second probe type magnetoresistive measured through both of the ferromagnetic bodies and GaAs tunnel barrier. Resistance of the device occupies a sufficient advantage by a vertical tunneling process through the tunnel barrier.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L43/00 | 应用电—磁或者类似磁效应的器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L43/08 | .磁场控制的电阻器 |