EP4024132B1 ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, COMPOUND, AND RESIN
有权
基本信息:
- 专利标题： ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, COMPOUND, AND RESIN
- 申请号：EP20858884.8 申请日：2020-07-29
- 公开(公告)号：EP4024132B1 公开(公告)日：2024-11-20
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku
- 代理机构： HGF
- 优先权： JP 19155791 2019.08.28
- 国际申请： JP2020028980 2020.07.29
- 国际公布： WO2021039252 2021.03.04
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/20