基本信息:
- 专利标题： Positive resist composition and method of forming a resist pattern using the same
- 专利标题（中）：正型抗蚀剂组合物和使用其形成抗蚀剂图案的方法
- 申请号：EP09153291.1 申请日：2009-02-20
- 公开(公告)号：EP2093213B1 公开(公告)日：2017-10-04
- 发明人： Shimizu, Hiroaki , Nakamura, Tsuyoshi , Dazai, Takahiro , Shiono, Daiju , Hirano, Tomoyuki
- 申请人： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 申请人地址： 150, Nakamaruko Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken JP
- 专利权人： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 当前专利权人： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 150, Nakamaruko Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken JP
- 代理机构： Hart-Davis, Jason
- 优先权： JP2008041092 20080222
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C07C69/67 ; G03F7/039