发明公开
EP2093213A1 Positive resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound
有权
基本信息:
- 专利标题： Positive resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound
- 专利标题（中）：积极的Resistzusammensetzung和Verfahren zum Bilden einer Resiststruktur damit
- 申请号：EP09153291.1 申请日：2009-02-20
- 公开(公告)号：EP2093213A1 公开(公告)日：2009-08-26
- 发明人： Shimizu, Hiroaki , Nakamura, Tsuyoshi , Dazai, Takahiro , Shiono, Daiju , Hirano, Tomoyuki
- 申请人： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 申请人地址： 150, Nakamaruko Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken JP
- 专利权人： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 当前专利权人： TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 150, Nakamaruko Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa-ken JP
- 代理机构： Portal, Gérard
- 优先权： JP2008041092 20080222
- 主分类号： C07C69/67
- IPC分类号： C07C69/67 ; G03F7/039
摘要：
There is provided a positive resist composition, including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below:
wherein R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a bivalent linking group; B represents a bivalent linking group; and R 2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group.
摘要（中）：
wherein R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a bivalent linking group; B represents a bivalent linking group; and R 2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group.
提供了一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中表现出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂成分（B），其中， A）包括含有由以下通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合化合物（A1）：其中R 1表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; A表示二价连接基团; B表示二价连接基团; R 2表示酸解离，溶解抑制基团。
公开/授权文献:
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07C | 无环或碳环化合物 |
| ------C07C69/00 | 羧酸酯；碳酸酯或卤甲酸酯 |
| --------C07C69/612 | .羧酸酯，其羧基连接在非环碳原子上，且酸的部分含六元芳环 |
| ----------C07C69/67 | ..饱和酸的 |