EP0548990B1 Chemical vapor deposition method for forming a deposited film with the use of a liquid raw material and apparatus suitable for practising said method
失效
基本信息:
- 专利标题： Chemical vapor deposition method for forming a deposited film with the use of a liquid raw material and apparatus suitable for practising said method
- 专利标题（中）：通过CVD来制造的沉积层的过程中，采用液体原料加合适的装置
- 申请号：EP92122039.8 申请日：1992-12-28
- 公开(公告)号：EP0548990B1 公开(公告)日：1997-03-12
- 发明人： Asaba, Tetsuo, c/o Canon Kabushiki Kaisha , Makino, Kenji, c/o Canon Kabushiki Kaisha
- 申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
- 申请人地址： 30-2, 3-chome, Shimomaruko, Ohta-ku Tokyo JP
- 专利权人： CANON KABUSHIKI KAISHA
- 当前专利权人： CANON KABUSHIKI KAISHA
- 当前专利权人地址： 30-2, 3-chome, Shimomaruko, Ohta-ku Tokyo JP
- 代理机构： Pellmann, Hans-Bernd, Dipl.-Ing.
- 优先权： JP345056/91 19911226
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; C23C16/18 ; C23C16/20 ; C23C16/40