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1. 发明申请

WO2023278175A1 OVERLAY MARK DESIGN FOR ELECTRON BEAM OVERLAY 审中-公开
公开(公告)号：WO2023278175A1
公开(公告)日：2023-01-05
申请号：PCT/US2022/033903
申请日：2022-06-17
申请人： KLA CORPORATION
发明人： STEELY-TARSHISH, Inna , EYRING, Stefan , GHINOVKER, Mark , FELER, Yoel , HAJAJ, Eitan , POHLMANN, Ulrich , GUTMAN, Nadav , STEELY, Chris , YOHANAN, Raviv , NAOT, Ira
IPC分类号： G03F7/20 , H01L22/12 , H01L22/30 , H01L23/544
摘要： The present disclosure provides a target and a method of performing overlay measurements on a target. The target includes an array of cells comprising a first cell, a second cell, a third cell, and a fourth cell. Each cell includes a periodic structure with a pitch. The periodic structure includes a first section and a second section, separated by a first gap. The target further includes an electron beam overlay target, such that electron beam overlay measurements, advanced imaging metrology, and/or scatterometry measurements can be performed on the target.

2. 发明申请

WO2022193915A1 测量外延前后光刻套刻误差的方法及结构审中-公开
公开(公告)号：WO2022193915A1
公开(公告)日：2022-09-22
申请号：PCT/CN2022/077203
申请日：2022-02-22
申请人：上海信及光子集成技术有限公司
发明人：李冰 , 李营营
IPC分类号： G03F9/00 , H01L21/66 , H01L23/544 , G03F9/708 , G03F9/7088 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01L22/30
摘要：提供了一种测量外延前后光刻套刻误差的方法，包括：在第一基底表面上进行刻蚀，形成游标主尺刻度原始标记（11）;在第一基底表面上进行外延，形成第二基底表面，根据游标主尺刻度原始标记（11）的现有形貌（15）设置游标主尺刻度标记（13）、以及设置游标主尺刻度标记的原点（12）；在第二基底表面上进行光刻，形成游标尺刻度标记（21）;检测游标主尺刻度标记（13）与游标尺刻度标记（21）的实际对准点（30）,根据实际对准点（30）和游标尺精度计算光刻套刻误差。还提供了一种测量外延前后光刻套刻误差的结构。

3. 发明申请

WO2021248545A1 OLED显示面板及其制备方法、OLED显示装置审中-公开
公开(公告)号：WO2021248545A1
公开(公告)日：2021-12-16
申请号：PCT/CN2020/097027
申请日：2020-06-19
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：卢瑞 , 夏存军
IPC分类号： H01L27/32 , H01L51/56 , H01L21/66 , G09F9/301 , H01L22/30 , H01L27/3244 , H01L51/5237
摘要：本申请实施例提供一种OLED显示面板及其制备方法、OLED显示装置，该OLED显示面板通过在封装层下设置有机功能层，使得有机功能层能够在接触水氧时，发出可视性变化，从而仅需知道有机功能层的变化，即可检测出封装效果，检测时长较短，同时，有机功能层与封装层的边界的最小距离大于封装层的镀膜精度，从而保证封装效果。

4. 发明申请

WO2021049845A2 오버레이 측정장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2021049845A2
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：PCT/KR2020/012096
申请日：2020-09-08
申请人： (주)오로스 테크놀로지
发明人： 박규남 , 신현기 , 이성수
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G03F7/70575 , G03F7/70633 , G03F7/70825 , H01L21/67 , H01L21/67242 , H01L22/30
摘要： 본 발명은 오버레이 측정장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 서로 다른 파장의 광원을 사용하는 자동 초점(Auto focus) 시스템을 구비한 오버레이 측정장치에 관한 것이다. 본 발명은 웨이퍼에 형성된 서로 다른 층들에 각각 형성된 제1 오버레이 마크와 제2 오버레이 마크 사이의 오차를 측정하는 장치로서, 제1 빔을 조사하는 제1 광원과; 상기 제1 광원으로부터 나와서 상기 웨이퍼의 측정위치에서 반사된 상기 제1 빔에 의한 신호를 획득하는 제1 검출기와; 상기 제1 빔과 파장이 다른 제2 빔을 조사하는 제2 광원과; 상기 제2 광원으로부터 나와서 상기 웨이퍼의 상기 측정위치에서 반사된 상기 제2 빔에 의한 신호를 획득하는 제2 검출기와; 상기 제1 빔과 상기 제2 빔을 상기 웨이퍼의 상기 측정위치에 집광시키고, 상기 측정위치에서 반사된 빔을 수집하는 대물렌즈와; 상기 웨이퍼에 대한 상기 대물렌즈의 광축 방향의 상대 위치를 조절하는 액추에이터와; 상기 액추에이터를 제어하는 제어수단과; 상기 웨이퍼에 대한 상기 대물렌즈의 상기 광축 방향의 상대 위치의 변화에 따른 상기 제1 검출기의 신호의 변화를 기초로 상기 제1 오버레이 마크의 높이를 검출하고, 상기 웨이퍼에 대한 상기 대물렌즈의 상기 광축 방향의 상대 위치의 변화에 따른 상기 제2 검출기의 신호의 변화를 기초로 상기 제2 오버레이 마크의 높이를 검출하는 높이 검출수단을 포함하는 오버레이 측정장치를 제공한다.

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