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    • 4. 发明申请
    • アクリル酸エステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物
    • 丙烯酸酯衍生物,高分子化合物和光催化剂组合物
    • WO2012033019A1
    • 2012-03-15
    • PCT/JP2011/070034
    • 2011-09-02
    • 株式会社クラレ中山 修矢田 学
    • 中山 修矢田 学
    • C07D307/00C07D209/56C07D327/04C07D493/08C07D497/18C08F20/36G03F7/039
    • G03F7/004C07D209/56C07D307/00C07D327/04C07D493/08C07D497/18C08F220/28C08F220/36C08F2220/1833G03F7/0397
    •  フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位となり得る新規なアクリル酸エステル誘導体、該アクリル酸エステル誘導体を含有する原料を重合することにより得られる高分子化合物、および該高分子化合物を含有する、従来よりもLWRが改善されて高解像度のレジストパターンが形成されたフォトレジスト組成物を提供する。具体的には、下記一般式(1)(式中、R 1 は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。R 2 、R 3 、R 5 、R 7 、R 8 およびR 10 は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアルコキシ基を表す。R 4 およびR 6 は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基若しくはアルコキシ基を表すか、またはR 4 およびR 6 は両者が結合してアルキレン基、-O-、若しくは-S-を表す。R 9 は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基または-COOR 11 を表し、R 11 はアルキル基を表す。 Xは、-O-または>N-R 12 を表し、R 12 は、水素原子またはアルキル基を表す。Yは、>C=O、または>S(=O) n を表し、nは、0~2の整数を表す。 波線は、R 8 とR 9 のいずれがエンドまたはエキソであってもよいことを表す。)で示されるアクリル酸エステル誘導体等を提供する。
    • 提供:可以作为要掺入光致抗蚀剂组合物的高分子化合物中的构成单元的新型丙烯酸酯衍生物; 通过聚合含有丙烯酸酯衍生物的原料得到的高分子化合物; 以及包含高分子化合物并且可以形成高分辨率抗蚀剂图案的光致抗蚀剂组合物,其中与常规抗蚀剂图案相比,LWR得到改善。 具体而言,提供由通式(1)表示的丙烯酸酯衍生物等。 在通式(1)中,R 1为氢原子,甲基或三氟甲基; R2,R3,R5,R7,R8和R10各自独立地为氢原子,烷基,环烷基或烷氧基; R 4和R 6各自独立地为氢原子,烷基,环烷基或烷氧基,或者R 4和R 6彼此键合形成亚烷基,-O-或-S-; R9是氢原子,烷基,环烷基,烷氧基或-COOR11,R11是烷基; X是-O-或> N-R 12,R 12是氢原子或烷基; Y为> C = O或> S(= O)n,n为0〜2的整数; 并且每个波浪线表示R8或R9可以取内或外形式。
    • 5. 发明申请
    • アクリルアミド誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物
    • 丙烯酰胺衍生物,聚合物化合物和光电组合物
    • WO2012043102A1
    • 2012-04-05
    • PCT/JP2011/069213
    • 2011-08-25
    • 株式会社クラレ荒谷 一弘福本 隆司
    • 荒谷 一弘福本 隆司
    • C08F20/56C07D307/93C07D327/04C07D493/18C07D497/18G03F7/039H01L21/027
    • G03F7/004C07D307/93C07D327/04C07D493/18C07D497/18C08F20/56G03F7/0397
    •  フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位となり得るアクリル酸アミド誘導体、該アクリル酸アミド誘導体を含有する原料を重合することにより得られる高分子化合物、および該高分子化合物を含有する、従来よりもLWRが改善されて高解像度のレジストパターンが形成されたフォトレジスト組成物を提供する。具体的には、下記一般式(1) {式中、R 1 は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Wは、炭素数1~10のアルキレン基または炭素数3~10のシクロアルキレン基を表す。R 2 は、下記一般式(2) (式中、Xは、酸素原子、または>N-R 3 を表し、R 3 は、水素原子または炭素数1~5のアルキル基を表す。Yは、>C=Oまたは>S(=O)nを表し、nは、0~2の整数を表す。)で表される環形成原子数3~20の環状基を示す。}で表されるアクリルアミド誘導体を提供する。
    • 提供可以作为光致抗蚀剂组合物中包含的高分子化合物的结构单元的丙烯酰胺衍生物,通过聚合含有所述丙烯酰胺衍生物的原料而获得的高分子化合物和含有所述LWR已经被加入的所述高分子化合物的光致抗蚀剂组合物 改进了以前的抗蚀剂,并且已经形成了高分辨率抗蚀剂图案。 具体地,提供由式(1)表示的丙烯酰胺衍生物。 (1)[式中,R 1表示氢原子,甲基或三氟甲基。 W表示C1-10亚烷基或C3-10亚环烷基。 R 2表示由式(2)表示的具有3〜20个成环原子的环状基团。 (2)(式中,X表示氧原子或> N-R3,R3表示氢原子或C1-5烷基,Y表示> C = O或> S(= O)n,n表示 0-2的整数)]。
    • 7. 发明申请
    • アクリル酸エステル誘導体、ハロエステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物
    • 丙烯酸衍生物,阴离子衍生物,聚合物化合物和光电组合物
    • WO2010001913A1
    • 2010-01-07
    • PCT/JP2009/062016
    • 2009-06-30
    • 株式会社クラレ佐藤 純子中山 修福本 隆司
    • 中山 修福本 隆司
    • C07D327/04C07D497/18C08F20/38G03F7/039
    • C07D327/04C07D497/18C08F220/38G03F7/0045G03F7/0397G03F7/085
    •  下記一般式(1)(式中、R 1 は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。R 2 、R 3 、R 5 、R 7 、R 8 、R 9 、R 10 は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアルコキシ基を表す。R 4 およびR 6 は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基若しくはアルコキシ基を表すか、またはR 4 およびR 6 は両者が結合してアルキレン基、-O-、若しくは-S-を表す。nは、0、1または2を表す。Wは、アルキレン基またはシクロアルキレン基を表す。)で示されるアクリル酸エステル誘導体とその中間体およびそれらの製造方法、並びに前記アクリル酸エステル誘導体含有する原料を重合して得られる、フォトレジスト組成物の調製に用いる有機溶媒に対する溶解性に優れる高分子化合物、さらに、該高分子化合物、有機溶媒および光酸発生剤を含有する、基板密着性に優れ、パターン倒れが少ないフォトレジスト組成物を提供する。
    • 公开了通式(1)表示的丙烯酸酯衍生物,其中间体,丙烯酸酯衍生物或中间体的制造方法,通过使含有丙烯酸酯衍生物的原料聚合并且在有机溶剂中具有优异的溶解度而获得的高分子化合物 用于制备光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂组合物和含有高分子化合物,有机溶剂和光致酸产生剂的光致抗蚀剂组合物,并且对基材的粘合性优异,同时几乎不发生图案塌陷。 (通式(1)中,R 1表示氢原子,甲基或三氟甲基; R 2,R 3,R 5,R 7,R 8,R 9和R 10独立地表示氢原子,烷基,环烷基或 烷氧基; R4和R6独立地表示氢原子,烷基,环烷基或烷氧基,或R4和R6结合在一起形成亚烷基,-O-或-S-; n表示0,1或 2; W表示亚烷基或亚环烷基。)