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    • 3. 发明申请
    • IRRADIATING DEVICE
    • 辐射装置
    • WO00061999A1
    • 2000-10-19
    • PCT/EP2000/002916
    • 2000-03-31
    • B05D3/06B29C35/08B29C35/10B29C35/16F21V29/02F26B3/28G21K5/04B41F23/04B01J19/12F21V29/00
    • F21V29/67B05D3/048B05D3/067B29C35/10B29C2035/0827B29C2035/0833B29C2035/1658F21V29/60F26B3/28G21K5/04
    • The invention relates to an irradiating device, especially for irradiating substrates with ultraviolet light which are provided with a coating that can be cured using ultraviolet light. The inventive device comprises a longitudinally extended radiation source (12) which is provided for emitting ultraviolet and/or visible electromagnetic radiation, which is arranged in a housing (10) between a reflector (18) and a housing opening (14) that can be aligned with the object (16) to be irradiated, and which is preferably configured as a tubular mercury discharge lamp. The inventive device also comprises a cooling system (20) for dissipating the waste heat generated by the radiation source (12). The aim of the invention is to create a compact modular construction and, optionally, an oxygen-reduced illumination zone. To this end, the invention provides that the cooling system (20) has a cooling circuit (26) which is arranged inside the housing (10) and which effects a circulatory cooling of the radiation source (12) by means of a force-conveyed, optionally oxygen-reduced cooling gas stream (28).
    • 本发明涉及一种照射装置,特别是用于在反射器(18)和一个在物体上之间的壳体(10)设置有具有可UV固化涂层的基材的紫外线照射到被照射(16)对准壳体开口(14) 布置,优选地配置为管状汞灯细长的辐射源(12),用于紫外和/或可见光的电磁辐射和用于通过所述辐射源(12)去除的冷却系统(20)产生的过多的热量。 为了提供一种紧凑的,模块化的结构,和任选的氧还原的照射区域中,提出的是,冷却系统(20)布置在所述壳体(10)的冷却回路(26)(用于通过强制喂食,任选氧减少冷却气流的放射线源(12)的循环冷却内部的一个 28)。
    • 5. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM STRAHLUNGSHÄRTEN
    • 方法和装置抗辐射
    • WO2008055556A1
    • 2008-05-15
    • PCT/EP2007/007555
    • 2007-08-29
    • LINDE AGORSEN, MikaelREBHAN, DieterWOLF, Erich
    • ORSEN, MikaelREBHAN, DieterWOLF, Erich
    • B05D3/06
    • B05D3/067B05D3/048B05D3/066B05D3/068F26B3/28
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Strahlungshärten wobei zumindest eine Einrichtung zum Beaufschlagen eines Werkstückes mit Strahlung vorhanden ist und zudem eine Zuleitung für Kühlmittel und eine Ableitung für Kühlmittel vorhanden ist, welches in der Einrichtung entstehende Wärme aufnimmt und abführt und eine Kühleinrichtung zum Kühlen des erwärmten Kühlmittels vorhanden ist. Zudem wird Inertgas über eine Zuleitung der Einrichtung zum Strahlungshärten zugeleitet wird, wobei das Inertgas in einer Verdampfungseinrichtung aus dem flüssigen in den gasförmigen Zustand überführt wird, wobei zumindest ein Teil des flüssigen Inertgases über einen Wärmetauscher (15) geführt wird, in den das aufgewärmte Kühlmittel eintritt. Die Verdampfung des Inertgases entzieht dem Kühlmittel Wärme.
    • 本发明涉及一种用于辐射固化的方法和装置的至少一个装置,用于与辐射存在并且还用于冷却剂供应管线和用于冷却剂排出管线是本其吸收在该装置和消散所产生的热量和冷却装置,用于冷却施加的工件 是加热的冷却剂存在。 此外,惰性气体通过辐射固化装置的供电线路供电,该惰性气体被转移到蒸发器从液态到气态,其中,所述液态惰性气体的经由热交换器(15)的至少一部分被引导,其中,所述加热的冷却剂 发生。 惰性气体的蒸发从冷却剂去除热量。
    • 7. 发明申请
    • COLD LIGHT-UV-RADIATION DEVICE
    • 冷光源紫外线辐射装置
    • WO99046546A1
    • 1999-09-16
    • PCT/EP1999/001244
    • 1999-02-26
    • F21V7/22B05D3/06B29C35/08F21V7/00F21V9/04F21V29/76F26B3/28G11B7/26F21V7/12F21V29/00
    • F21V29/74B05D3/048B05D3/067F21V7/005F21V9/04F21V29/76F26B3/28F26B3/283
    • The invention relates to a cold light-UV-radiation device which is used for hardening of UV paints and UV printing ink on thermosensitive substrates (12, 13). The inventive device is used, for example, in installations for imprinting packaging films or in production lines for CD's (compact discs) and DVD's (digital versatile discs). In addition to UV radiation, a large portion of heat radiation (IR radiation) is also radiated on the substrate (12, 13) when using preart radiation devices. Said heat radiation often leads to deformations and embrittlements of the substrate. The invention makes it possible to effectively separate the UV radiation from the IR radiation. To this end, a high UV intensity accompanied by a low heat stress of the substrate is realized by using short radiation paths.
    • 本发明涉及一种在UV涂料和UV油墨的固化涂布在热敏基材(12,13)的冷光UV照射装置。 这是,例如,在包装膜的印刷系统或在生产线的CD(压缩盘)和DVD(数字通用盘)被使用。 在以前使用的照射装置也热辐射(IR辐射)的高比例的旁边是紫外辐射(12,13)辐射的衬底,其往往导致基板变形和脆化上。 本发明使得能够通过IR辐射的UV的有效分离。 在基片的低的热负荷高的UV强度是由短辐射路径来实现。