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    • 1. 发明申请
    • DISPOSITIF DE MESURE DE L'EMISSIVITE OU DE LA REFLECTIVITE D'UNE SURFACE
    • 用于测量表面的EMISSIVITY或反射率的装置
    • WO2013121013A1
    • 2013-08-22
    • PCT/EP2013/053112
    • 2013-02-15
    • UNIVERSITE PARIS-EST CRETEIL VAL DE MARNE
    • MONCHAU, Jean-PierreCANDAU, YvesIBOS, Laurent
    • G01J5/00G01J5/08
    • G01J5/0003G01J5/0022G01J5/08G01J5/0834G01J5/0896
    • L'invention concerne un dispositif pour mesurer l'émissivité ou la réflectivité d'une surface (A), comprenant une enceinte (B), des moyens pour élever la température de ladite enceinte de manière à ce qu'elle émette un flux de rayonnement infrarouge en direction de ladite surface pouvant être réfléchi par ladite surface, caractérisé en ce que : - l'enceinte présente une symétrie de révolution et une ouverture dite de mesure, située dans un plan sensiblement perpendiculaire audit axe de symétrie, ladite ouverture étant destinée à être positionnée en regard de ladite surface; ledit dispositif comprenant : - un premier écran interne (C) à ladite enceinte et présentant des premières parties pleines et des premières ouvertures; - un second écran interne (D) à ladite enceinte présentant des secondes parties pleines et des secondes ouvertures; - lesdits écrans étant configurés pour intercepter toutes les directions au dessus de ladite surface; - des moyens de mise en rotation d'au moins un desdits écrans de manière à moduler le flux réfléchi par ladite surface en raison de la modulation du flux incident reçu par ladite surface; - des moyens de détection du flux (DFe) émis par ladite enceinte, dirigés de manière sensiblement radiale en direction de ladite enceinte; - des moyens de détection du flux réfléchi (DFr) par ladite surface dirigés en direction dudit plan sensiblement perpendiculaire audit axe de symétrie; - des moyens d'analyse dudit flux réfléchi.
    • 本发明涉及一种用于测量表面(A)的发射率或反射率的装置,包括腔室(B),用于提高所述腔室的温度以便发射红外辐射通量的装置,其可被 所述表面朝向所述表面,其特征在于,所述室是旋转对称的,并且具有位于基本上垂直于所述对称轴线的平面中的所谓的测量开口,其中所述开口定位成与所述表面相对,所述装置包括: 在所述室的内部的第一屏幕(C),并具有第一实心部分和第一开口; 第二屏幕(D)在所述室的内部并具有第二实心部分和第二开口,所述屏幕被配置为拦截所述表面上方的所有方向; 用于旋转所述屏幕中的至少一个的装置,以便通过由所述表面接收的入射磁通的调制来调制由所述表面反射的磁通量; 用于检测由所述室发射的通量(DFe)的装置,其基本上径向指向所述室; 用于检测由所述表面反射的通量(DFr)的装置,其被引导到基本上垂直于所述对称轴线的所述平面; 以及用于分析所述反射通量的装置。