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    • 10. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON HALOGENIERTEN POLYSILANEN
    • 用于生产的卤化聚硅烷
    • WO2011067416A1
    • 2011-06-09
    • PCT/EP2010/068993
    • 2010-12-06
    • SPAWNT PRIVATE S.À.R.L.BAUCH, ChristianHOLL, SvenDELTSCHEW, RumenMOHSSENI-ALA, Seyed-JavadLUBENTSOV, Andrey
    • BAUCH, ChristianHOLL, SvenDELTSCHEW, RumenMOHSSENI-ALA, Seyed-JavadLUBENTSOV, Andrey
    • C01B33/107
    • C08G77/60C01B33/04C01G17/00C08G79/14Y02P20/582
    • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung halogenierter Polysilane als reine Verbindung oder Gemisch von Verbindungen, das eine besondere Reinheit in Bezug auf unter anderem borhaltige Verbindungen aufweist. Eine Ausführungsform der Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung eines halogenierten Polysilans der allgemeinen Formel H p Si n-p X (2n+2)-p mit n = 1 bis 50; 0 ≤ p ≤ 2n+1 und X = F, Cl, Br, I, als Einzelverbindung oder Gemisch von Verbindungen aus einem Gemisch zur Verfügung, wobei das Gemisch bereits das halogenierte Polysilan enthält oder in dem Gemisch das halogenierte Polysilan gebildet wird. Das Gemisch enthält zusätzlich Bor-haltige Verunreinigungen. Das Verfahren umfasst dabei die Verfahrensschritte, dass c) das Gemisch mit mindestens 1 ppbw (parts per billion per weight) eines Siloxan-bildenden Oxidationsmittels oder mit Siloxan selbst versetzt wird, wobei die Borhaltigen Verunreinigungen mit den Siloxanen Verbindungen mit einer von den halogenierte Polysilanen unterschiedlichen Flüchtigkeit und/oder Löslichkeit bilden, und d) das halogenierte Polysilan von diesen Verbindungen abgetrennt wird, - wobei während des Verfahrens maximal 1 ppmw Wasser und minimal 1 ppbw Siloxane anwesend sind.
    • 本发明涉及一种用于制备卤化聚硅烷为具有相对于含硼,其它化合物中的特定纯度化合物的纯化合物或混合物。 本发明的一个实施例提供了一种用于制备通式HpSin-PX的卤化聚硅烷(2N + 2)P,其中n = 1至50; 0 = P = 2N + 1和X = F,氯,溴,I,卤化聚硅烷形成为从混合物中的化合物的单独的化合物或混合物是可用的,其中该混合物已经含有卤化聚硅烷或在混合物中。 将混合物另外含有含硼的杂质。 该方法包括C的方法步骤)加入到该混合物中至少有1等于0.1ppbw(每万亿份重量)的硅氧烷形成氧化剂或硅氧烷本身,其中与具有不同的聚硅烷卤代硅氧烷化合物含硼的杂质 挥发性和/或溶解度的形式,和d)卤化聚硅烷从这些化合物中,分离 - 其中至多1ppmw的水和至少1个等于0.1ppbw的硅氧烷是过程期间存在。