专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2005039771A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNGEN ZUR PROBENABLAGE AUF EINEM ELEKTRISCH ABGESCHIRMTEN SUBSTRAT 审中-公开
标题翻译：方法和样品的存储设备上电SHIELDED衬底
公开(公告)号：WO2005039771A1
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/EP2004/011878
申请日：2004-10-20
申请人： SCIENION AG , NORDHOFF, Eckhard , BULLOCK, Alan
发明人： NORDHOFF, Eckhard , BULLOCK, Alan
IPC分类号： B01L3/02
CPC分类号： B01L3/0268 , B01J2219/00315 , B01J2219/00378 , B01J2219/00662 , B01L3/5085 , B01L2300/06 , B01L2300/0636 , B01L2300/0829 , B01L2400/0415 , C40B60/14 , Y10T436/119163 , Y10T436/2575
摘要： Ein Verfahren zur Probenablage, bei dem mindestens eine Probe (10) auf einem Substrat (30) angeordnet wird, umfasst die Schritte Positionierung eines Probendispensers (20) über dem Substrat (30) und Betätigung des Probendispensers (20), so dass die Probe (10) vom Probendispenser (20) entlang einer Flugbahn (11) zu einer vorbestimmten Ablageposition (32) auf dem Substrat (30) bewegt wird, wobei wenigstens ein Teil der Flugbahn (11) gegen elektrische Störfelder abgeschirmt wird. Es wird auch ein Substrat (30) zur Aufnahme von Proben (10), mit einem Substratkörper (31), auf dessen Oberfläche mindestens eine Ablageposition (32) vorgesehen ist, und einer Abschirmelektrode (40) beschrieben, die zur elektrostatischen Abschirmung des Raumes oberhalb der mindestens einen Ablageposition (32) gegen elektrische Störfelder eingerichtet ist.
摘要翻译：样品存储的方法被设置在衬底（30）上的至少一个样本（10）中，包括在所述衬底（30）和致动所述Probendispensers（20）的上方定位Probendispensers（20）的步骤，以使样品（ 10）（从Probendispenser 20）（沿飞行路径11）被移动到基板（30）上的预定存储位置（32），其中，至少所述轨迹（11）的一部分被防电波干扰场屏蔽。它也是用于接收样品（10），包括一个基体（31）的基板（30），在其表面上的至少一个沉积位置（32）被提供，并且描述上方的屏蔽电极（40），用于对空间的静电屏蔽所述至少一个沉积位置（32）被布置成防电波干扰场。

2. 发明申请

WO2010023119A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM FÖRDERN VON VERBRENNUNGSRÜCKSTÄNDEN 审中-公开
标题翻译：方法和设备输送燃烧残留物
公开(公告)号：WO2010023119A2
公开(公告)日：2010-03-04
申请号：PCT/EP2009/060565
申请日：2009-08-14
申请人： CLYDE BERGEMANN DRYCON GMBH , BULLOCK, Alan
发明人： BULLOCK, Alan
IPC分类号： F23J1/02
CPC分类号： F23J1/02 , F23J2900/01003 , F23J2900/01006 , F23J2900/01009
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Fördern von Verbrennungsrückständen (6) in einer Förderrichtung (2) entlang eines Förderweges aus einem Verbrennungsraum (1), umfassend die folgenden Schritte: a) Fördern der Verbrennungsrückstände (6) aus dem Verbrennungsraum (1) mittels einer Fördereinrichtung (2), die wenigsten ein Gehäuse (4) aufweist; b) Erzeugen eines ersten Druckniveaus (12) in dem Gehäuse (4); c) Nachbehandlung der Verbrennungsrückstände (6) in einer im Förderweg angeordneten Behandlungseinrichtung (5); d) Erzeugen eines zweiten Druckniveaus (13) in Förderrichtung (7) der Verbrennungsrückstände (6) hinter der Behandlungseinrichtung (5) durch Einleiten eines Fluids (14) zur Ausbildung eines Druckgradienten.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于在传送方向（2）沿从一个燃烧室（1）的进料路径，包括下列步骤（6）输送燃烧残余物：1）输送所述燃烧残渣（6）从所述燃烧室（1）的手段输送机（2），其具有至少一个壳体（4）; b）产生在所述壳体中的第一压力水平（12）（4）; c）中后处理设置在所述处理装置（5）中的传送路径的燃烧残余物（6）的; 通过引入用于形成压力梯度的流体（14）（6）下游的处理装置（5）的燃烧残余物的D）在输送方向上产生的第二压力水平（13）（7）。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式