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    • 4. 发明申请
    • VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR THERMISCHEN BEHANDLUNG VON SCHÜTTGUTMATERIALIEN
    • 装置和方法。散装物料进行热处理
    • WO2008067680A1
    • 2008-06-12
    • PCT/CH2007/000505
    • 2007-10-12
    • BÜHLER AGCULBERT, Brent AllanEUSEBIO, FernandoCHRISTEL, Andreas
    • CULBERT, Brent AllanEUSEBIO, FernandoCHRISTEL, Andreas
    • B01J8/18B01J8/24B01J8/34B01J19/32
    • B01J8/125B01J8/1872B01J8/34B01J19/32B01J2219/32231B01J2219/32282B01J2219/32286F26B3/084F26B3/0923F26B17/1475
    • Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung und ein Verfahren zum thermischen Behandeln eines Schüttgutmateriales. Die Vorrichtung besitzt einen Behandlungsraum (12) zur Aufnahme des Schüttgutmateriales; mindestens eine Schüttgut-Einfüllöffnung (13), mindestens eine Schüttgut-Austragsöffnung (14), mindestens eine Behandlungsgas-Zuführeinrichtung (15) im Bodenbereich (16) des Behandlungsraumes (12); mindestens eine Behandlungsgas-Wegführeinrichtung (17) im Deckenbereich (18) des Behandlungsraumes (12); sowie eine Vielzahl von übereinander angeordneten Stauelementschichten (19a-n) im Behandlungsraum (12), wobei sich zwischen den Stauelementschichten eine Vielzahl von Behandlungsschichten (21a-n) befindet und die Stauelementschichten eine Durchlassfläche zwischen 40% und 98% aufweisen. Erfindungsgemäss erstreckt sich zumindest eine Stauelementschicht (19) im Wesentlichen über den gesamten Querschnitt des Behandlungsraumes (12), und zumindest eine der Behandlungsschichten (21) besitzt eine Höhe von weniger als 100 mm, und/oder zumindest eine Stauelementschicht (19) ist mittels einer trennbaren Verbindung im Behandlungsraum (12) angeordnet. Erfindungsgemäss liegt bei dem Verfahren zur thermischen Behandlung die Strömungsgeschwindigkeit des Prozessgases in zumindest einer Stauelementschicht (19) über dem Lockerungspunkt des Schüttgutmaterials.
    • 本发明涉及一种装置和用于散装材料的热处理的方法。 该装置包括用于接收散装材料的处理空间(12); 至少一种散装材料填充开口(13),至少一个散装材料排出口(14),至少一个处理气体供给装置(15)在处理室(12)的底部区域(16); 在处理室的顶棚区域(18)的至少一种处理气体去除装置(17)(12); 和多个在处理室(12),其特征在于,存在多个的阻塞元件层和堰塞元件层之间的处理层(21A-N)叠加存储元件层(19A-N)的具有40%和98%之间的通道面积。 根据本发明,延伸至少一个存储元件层(19)基本上在所述处理室(12)的整个横截面,并且该处理层中的至少一个(21)具有小于100毫米的高度,和/或通过的装置的至少一个存储元件层(19) 在处理室中设置可分离的链路(12)。 根据本发明在于用于热处理,该处理气体中的散装材料的松动点上方的至少一个存储元件层(19)的流率的方法。