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1. 发明申请

WO2013036979A1 FOTOLACK 审中-公开
标题翻译： PHOTO PAINT
公开(公告)号：WO2013036979A1
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：PCT/AT2012/050115
申请日：2012-08-14
申请人： AT & S AUSTRIA TECHNOLOGIE & SYSTEMTECHNIK AKTIENGESELLSCHAFT , POLYMER COMPETENCE CENTER LEOBEN GMBH , WIESBROCK, Frank , STELZER, Franz , SCHENK, Verena , ELLMAIER, Lisa
发明人： WIESBROCK, Frank , STELZER, Franz , SCHENK, Verena , ELLMAIER, Lisa
IPC分类号： G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0384
摘要： Die Erfindung betrifft einen Fotolack, insbesondere zur Herstellung einer durch Bestrahlung strukturierbaren Beschichtung, umfassend: a) ein Copolymer aus zumindest einem ersten 2-Oxazolin-Derivat der Formel (I) mit zumindest einem zweiten 2-Oxazolin-Derivat der Formel (II), wobei R 1 und R 2 jeweils aliphatische und/oder aromatische Reste darstellen, wobei der Rest R 2 eine funktionelle Gruppe aufweist, die bei Bestrahlung vernetzbar ist; b) einen Fotoinitiator; c) einen Vernetzer, der bei Bestrahlung mit der funktionellen Gruppe reagiert; d) optional einen Stabilisator; e) optional ein Tensid; f) zumindest ein Lösungsmittel. Ein derartiger Fotolack eignet sich zur Herstellung einer gut haftenden Beschichtung insbesondere auf Leiterplattensubstraten, wobei in der Folge eine Strukturierung einer erstellten Beschichtung mit hoher Auflösung möglich ist. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer durch fotochemische Vernetzung strukturierten Beschichtung auf einem Substrat, eine so erhältliche Beschichtung sowie ein Leiterplattensubstrat mit einer derartigen Beschichtung.
摘要翻译：本发明涉及的抗蚀剂，特别是用于制备图案化的照射涂层包括：a）至少将式（I）（包括式II的至少一个第二2-恶唑啉衍生物）的第一2-恶唑啉衍生物的共聚物，其中R1和R2各自是脂族和/或芳族基团，其中基团R 2具有官能团的可交联通过辐照; b）一种光引发剂; c）在照射时与所述官能团反应的交联剂; d）任选稳定剂; e）任选的表面活性剂; f）至少一种溶剂。这种光致抗蚀剂是适合于生产牢固粘附的涂层，特别是在印刷电路板基板，其中，随后用高分辨率制备的涂层的结构是可能的。此外，本发明涉及用于基片，由此获得涂层和具有这种涂层的印刷电路基板上制作一个由光化学交联涂层结构的方法。

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