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1. 发明申请

WO2017184232A1 ELECTRON-BEAM SPOT OPTIMIZATION 审中-公开
标题翻译：电子束斑点优化
公开(公告)号：WO2017184232A1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：PCT/US2017/016641
申请日：2017-02-06
申请人： MOXTEK, INC.
发明人： PETERSON, Dustin , ZIMMERMAN, Richard , JONES, Vince , MILLER, Eric
IPC分类号： H01J35/14
摘要： Electron beam spot characteristics can be tuned in each x-ray tube (10, 30) by moving a focusing-ring (13) along a longitudinal-axis (15) of the x-ray tube. The focusing-ring can then be immovably fastened to the x-ray tube. An x-ray source can include an x-ray tube (10, 30) and a focusing-ring (13). The focusing-ring can at least partially encircle an electron-emitter (14), a cathode (12), an evacuated-enclosure (11), or combinations thereof. The focusing-ring can be located outside of a vacuum of the evacuated enclosure. The focusing-ring can adjust an electron-beam spot (33) on a target material of the x-ray tube when moved along a longitudinal-axis (15) extending linearly from the electron-emitter to the target material.
摘要翻译：通过沿着x射线管的纵向轴线（15）移动聚焦环（13），可以在每个x射线管（10,30）中调节电子束斑点特征。聚焦环然后可以不动地固定在X射线管上。 X射线源可以包括X射线管（10,30）和聚焦环（13）。聚焦环可以至少部分地围绕电子发射器（14），阴极（12），真空外壳（11）或其组合。聚焦环可以位于真空外壳的真空之外。当沿着从电子发射体线性延伸到靶材料的纵向轴线（15）移动时，聚焦环可以调节X射线管靶材上的电子束点（33）。

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