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    • 2. 发明申请
    • PROCESS FOR PRODUCING HIGHLY ORDERED NANOPILLAR OR NANOHOLE STRUCTURES ON LARGE AREAS
    • 在大面积生产高阶纳米或纳米结构的方法
    • WO2012048870A2
    • 2012-04-19
    • PCT/EP2011/005122
    • 2011-10-12
    • MAX-PLANCK-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER WISSENSCHAFTEN E.VMORHARD, ChristophPACHOLSKI, ClaudiaSPATZ, Joachim P.FACHHOCHSCHULE JENABRUNNER, Robert
    • MORHARD, ChristophPACHOLSKI, ClaudiaSPATZ, Joachim P.BRUNNER, Robert
    • B81C1/00
    • B29C59/002B81C99/009B81C2201/0149B82Y30/00G03F7/0002
    • The present invention relates to an improved process for producing highly ordered nanopillar or nanohole structures, in particular on large areas, which can be used as masters in NIL, hot embossing or injection molding processes. In a preferred embodiment, said process comprises at least the following steps: a) providing a primary substrate that is decorated on at least one surface with an ordered array of metal nanoparticles produced by means of a micellar block-copolymer nanolithography process; b) etching the primary substrate of step a) in a predetermined depth, preferably in the range from 50 to 500 nm, wherein the nanoparticles act as a mask and an ordered array of nanopillars or nanocones corresponding to the positions of the nanoparticles is produced; c) using the nanostructured substrate obtained in step b) as a master or stamp in nanoimprint lithographic (NIL), hot embossing or injection molding processes. In another preferred embodiment, said process comprises the steps a) and b) above and additionally c) coating the nanostructured substrate surface obtained in step b) with a continuous metal layer; d) selective etching of the product of step c) using an etching agent, e.g. HF, which removes the primary substrate but not the metal layer, resulting in a metal substrate comprising an ordered array of nanoholes which is a negative of the original array of nanopillars or nanocones.
    • 本发明涉及用于生产高度有序的纳米柱或纳米孔结构的改进方法,特别是在大面积上,其可以用作NIL,热压花或注射成型工艺中的主机。 在优选的实施方案中,所述方法至少包括以下步骤:a)提供在至少一个表面上装饰有通过胶束嵌段共聚物纳米光刻法制备的金属纳米粒子的有序阵列的初级基底; b)将步骤a)的初级衬底蚀刻在预定深度,优选在50至500nm的范围内,其中纳米颗粒用作掩模,并且产生对应于纳米颗粒位置的纳米级或纳米颗粒的有序阵列; c)使用步骤b)中获得的纳米结构底物作为纳米压印平版印刷(NIL),热压花或注射成型工艺中的母版或印模。 在另一个优选实施方案中,所述方法包括上述步骤a)和b),另外c)用连续金属层涂覆步骤b)中获得的纳米结构化基材表面; d)用步骤c)的产物选择性蚀刻使用蚀刻剂,例如, HF,​​其去除主要基底而不是金属层,导致金属基底包括纳米孔的有序排列,其是原始阵列的纳米柱或纳米孔的负数。
    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR RÄUMLICH AUFGELÖSTEN VERGRÖSSERUNG VON NANOPARTIKELN AUF EINER SUBSTRATOBERFLÄCHE
    • 在衬底表面上空间扩大纳米颗粒的方法
    • WO2011057816A3
    • 2011-05-19
    • PCT/EP2010/006938
    • 2010-11-15
    • Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V.MORHARD, ChristophPACHOLSKI, ClaudiaSPATZ, Joachim P.
    • MORHARD, ChristophPACHOLSKI, ClaudiaSPATZ, Joachim P.
    • C23C18/16
    • Die Erfindung betrifft Verfahren zur räumlich aufgelösten Vergrößerung und größenmäßigen Feineinstellung von Edelmetall-Nanopartikeln auf einer Substratoberfläche sowie die so hergestellten Nanopartikel-Anordnungen und nanostrukturierten Substratoberflächen und deren Verwendung. Die vorliegende Erfindung betrifft speziell ein Verfahren zur räumlich aufgelösten Vergrößerung von Edelmetall-Nano-Partikeln, die auf einem Substrat vorliegen, welches die folgenden Schritte umfasst: a) Bereitstellung eines mit Edelmetall-Nanopartikeln beschichteten Substrats, b) gegebenenfalls Funktionalisierung des Substrats mit einem Agens, welches die Haftung der Edelmetall-Nanopartikel an dem Substrat unterstützt, c) Kontaktierung des Substrats mit einer Edelmetallsalzlösung, d) UV-Bestrahlung des Substrats in Kontakt mit der Edelmetallsalzlösung, wodurch eine Reduktion des Edelmetallsalzes und eine stromlose Abscheidung von elementarem Edelmetall auf den Edelmetall-Nanopartikeln und entsprechendes Wachstum der Edelmetall-Nanopartikel in den bestrahlten Bereichen des Substrats veranlasst wird, und e) gegebenenfalls Verwendung einer Maske, um ein lokalisiertes Wachstum der Edelmetall-Nanopartikel in vorbestimmten Bereichen des Substrats zu veranlassen.
    • 本发明涉及一种R&AUML的方法;空间分辨ö最放大ö大街增加和GRö大街ENMÄ大街贵金属纳米颗粒上的Substratoberfl&AUML强度精细调整;枝和纳米颗粒如此产生 排列和纳米结构的基底表面及其使用。 本发明具体地涉及一种用于R&AUML的方法;空间分辨Ö斯登倍率Ö贵金属纳米颗粒,其存在于基板上的ROAD扩增,其包括以下步骤:a)提供一个贵金属涂覆的纳米颗粒衬底,B )任选地在基底的官能化用试剂,其支撑到基板导航用途TZT的贵金属纳米颗粒的粘附性,c)用Edelmetallsalzl&oUML基板接触;溶液,d)与该Edelmetallsalzl&oUML接触的基材的UV照射;溶液,由此 贵金属盐的还原和元素贵金属的电沉积被导致贵金属纳米颗粒和相应的任选使用掩模的贵金属纳米颗粒的局部增长,所述衬底的所述照射区域的贵金属纳米粒子的生长,以及e)在预定的 基材的区域要真实 是