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1. 发明申请

WO2012119700A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM PLASMAUNTERSTÜTZTEN BEHANDELN ZUMINDEST ZWEIER SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：设备和方法等离子辅治至少两个基底
公开(公告)号：WO2012119700A1
公开(公告)日：2012-09-13
申请号：PCT/EP2012/000712
申请日：2012-02-17
申请人： MANZ AG , SCHWARZ, Florian , RETTENBACHER, Peter , MERZ, Thomas , RACK, Andreas , HÖFLER, Mathias
发明人： SCHWARZ, Florian , RETTENBACHER, Peter , MERZ, Thomas , RACK, Andreas , HÖFLER, Mathias
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/321 , H01J37/32779
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum plasmaunterstützen Behandeln zumindest zweier Substrate (16, 20), mit: - einer Vakuumkammer (12; 30; 60) in welcher zumindest zwei Substrate (16, 20) in einem vorgegebenen Abstand und mit ihren zu behandelnden Oberflächen einander zugewandt anordenbar sind und mit - einer Plasmaerzeugungseinrichtung, welche zumindest eine Anregungsspule (22; 32; 40; 50; 56; 62) zur induktiven Anregung zumindest eines zwischen den Substraten (16, 20) befindlichen Plasmas (80) aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种方法和用于至少两个基板（16，20）的等离子体辅助处理的装置，包括： - 真空腔室（12; 30; 60），其中至少两个基材（16，20）以预定距离并与他们的（32; 40; 50; 56; 62 22），用于在所述基板之间的至少一个（16，20），其位于等离子体（80）的感应激励的等离子体发生装置，包括至少一个励磁线圈 - 表面彼此面对的可被布置，以及具有被处理。

2. 发明申请

WO2013045110A1 TRANSPORTEINRICHTUNG ZUM TRANSPORTIEREN MEHRERER SUBSTRATE IN DEN BEREICH EINER SUBSTRAT-BEHANDLUNGSEINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：搬运装置的基板处理装置的区域内运输多种底物
公开(公告)号：WO2013045110A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/EP2012/004092
申请日：2012-09-28
申请人： MANZ AG
发明人： RETTENBACHER, Peter , MERZ, Thomas , KASTL, Stefan
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/50 , C23C14/566
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Transporteinrichtung zum gleichzeitigen Transportieren von zumindest zwei in einer Vakuumbehandlungseinrichtung (11) zu behandelnden Substraten (28), mit zumindest zwei bezüglich einer gemeinsamen Achse (1) drehbar gelagerten und axial versetzt zueinander angeordneten Trägereinrichtungen (12, 14), an welchen zumindest jeweils ein zur Aufnahme zumindest eines Substrates (28) ausgebildeter Halterahmen (20, 22, 24, 26) angeordnet ist, wobei die Halterahmen (20, 22, 24, 26) durch eine Drehbewegung der Trägereinrichtungen (12, 14) um die Achse (1) in zueinander gegenüberliegende Wirkungsbereiche einer Behandlungseinheit (50) bringbar sind und wobei die Trägereinrichtungen (12, 14) einen solchen axialen Abstand zueinander aufweisen, dass die Behandlungseinheit (50) zwischen ihnen anordenbar ist.
摘要翻译：本发明涉及一种输送装置在真空处理装置同时传送所述至少两个待处理（11）的基板（28），具有至少两个相对于一个共同的轴（1），其安装彼此布置支撑装置可旋转地和轴向偏移（12，14），以其中至少每一个用于接收至少形成保持框（20，22，24，26）的基板（28）设置，其中，所述保持架（20，22，24，26）由所述支撑装置的旋转运动（12,14）绕轴（1）在一个处理单元的相互相反的作用部分（50）可以带来的，并且其中所述支撑装置（12，14）彼此这样的轴向距离，所述处理单元（50）可被布置在它们之间。

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