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1. 发明申请

WO2004061525A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2004061525A1
公开(公告)日：2004-07-22
申请号：PCT/JP2003/016640
申请日：2003-12-24
申请人： JSR株式会社 , 西村功 , 藤原考一 , 小林英一 , 下川努 , 中村敦 , 米田英司 , 王勇
发明人：西村功 , 藤原考一 , 小林英一 , 下川努 , 中村敦 , 米田英司 , 王勇
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2006
摘要：　アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる特定の構造を有し、リビングラジカル重合により得られる酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、　上記酸解離性基含有樹脂の重量平均分子量と数平均分子量との比（重量平均分子量／数平均分子量）が１．５よりも小さい感放射線性樹脂組成物。
摘要翻译：一种辐射敏感性树脂组合物，其特征在于，具有不溶解或易溶于碱的具有酸解离性基团的树脂，具有通过酸作用使树脂碱溶性的特定结构，通过活性自由基聚合得到; 和辐射敏感性酸产生剂，其中重均分子量与具有酸解离基的树脂的数均分子量的比[（重均分子量）/（数均分子量）] 为1.5以下。

2. 发明申请

WO2007058345A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2007058345A1
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：PCT/JP2006/323091
申请日：2006-11-20
申请人： JSR株式会社 , 中村敦 , 王勇 , 辻隆幸
发明人：中村敦 , 王勇 , 辻隆幸
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0397
摘要：　液浸露光方法で得られるパターン形状が良好であり、解像度および焦点深度余裕に優れかつ液浸露光時に接触した屈折率液体（浸漬液）への溶出物の量が少ない。レンズとフォトレジスト膜との間に、波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．４４を超え、１．８５未満の液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光リソグラフィ方法に用いられてフォトレジスト膜を形成する感放射線性樹脂組成物であって、該感放射線性樹脂組成物がラクトン構造を有する繰り返し単位を含むアルカリ不溶またはアルカリ難溶で酸の作用によりアルカリ易溶となる樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する。
摘要翻译：本发明提供一种通过液浸曝光方法提供的图案形状良好的辐射敏感性树脂组合物，分辨率和焦深度纬度优异，并且洗脱液的量少，成为折射液（浸液）组合物在液浸期间已经接触。放射线敏感性树脂组合物用于通过液浸曝光光刻法形成光致抗蚀剂膜，其中在这样一种状态下施加辐射，该液体浸渍曝光的液体的折射率大于1.44且小于1.85，在透镜和光致抗蚀剂膜之间插入193nm的波长。辐射敏感性树脂组合物包含树脂和辐射敏感性酸发生剂。树脂包含具有内酯结构的重复单元，其不溶或微溶于碱，并且易于通过酸的作用溶于碱。

3. 发明申请

WO2008117644A1 コーティング組成物およびその使用方法审中-公开
标题翻译：涂料组合物及其用途
公开(公告)号：WO2008117644A1
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：PCT/JP2008/054029
申请日：2008-03-06
申请人： JSR株式会社 , 宮路正昭 , 王勇 , 籾山昌輝
发明人：宮路正昭 , 王勇 , 籾山昌輝
IPC分类号： C09D125/18 , A61L27/00 , A61L29/00 , A61L31/00 , A61L33/00 , C08F12/14
CPC分类号： A61L27/34 , C08F12/22 , C08F12/32 , C08K5/0025 , C09D125/18
摘要：　生体関連物質の吸着を低減することができ、耐水性および強度に優れ、かつ、低コストであるコーティング組成物およびその使用方法を提供することを課題としている。　本発明のコーティング組成物は、（Ａ）下記式（１）で表される繰り返し単位を有する重合体、（Ｂ）架橋剤、および（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とする。（式（１）中、Ｒ 0 は、水素原子又はメチル基である。Ｘは糖又は糖誘導体からなる１価の有機基である。）
摘要翻译：本发明旨在提供一种低成本的涂料组合物，其可以抑制生物反应物质的吸附并具有优异的耐水性和强度; 及其用途。涂料组合物的特征在于包含（A）具有由通式（1）表示的重复单元，（B）交联剂和（C）溶剂的聚合物：（1）其中R 0 0 >是氢或甲基; X为衍生自糖或糖衍生物的一价有机基团。

4. 发明申请

WO2006080250A1 液浸型露光システム、液浸型露光用液体のリサイクル方法及び供給方法审中-公开
标题翻译：浸入式曝光系统及回收方法及液体暴露的供应方法
公开(公告)号：WO2006080250A1
公开(公告)日：2006-08-03
申请号：PCT/JP2006/300840
申请日：2006-01-20
申请人： JSR株式会社 , 古川泰一 , 稗田克彦 , 宮松隆 , 王勇 , 山田欣司
发明人：古川泰一 , 稗田克彦 , 宮松隆 , 王勇 , 山田欣司
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要：　投影光学手段１２１の光学素子と基板１１１との間に満たされた液体３０１を介して露光を行う液浸型露光システム１である。この液浸型露光システム１は、液体３０１の供給をする液体供給部８０と、その液体供給部８０から供給をされた液体３０１（３０１ｂ）が所定方向に沿って連続的に導入をされ投影光学手段１２１の光学素子と基板１１１との間を液体３０１で満たしながら露光を行う露光処理部１１０と、その露光処理部１１０の基板１１１を挟んだ対称の位置において排出をされた液体３０１（３０１ａ）の回収をする液体回収部９０と、液体回収部９０で回収をされた液体３０１（３０１ｃ）の再生をする液体リサイクル部２０と、を有する。液浸法を適用した場合に、液浸型露光用液体の性質を安定させることが出来、良好な露光を継続的に行うことが可能であり、且つランニングコストを抑えることが出来る。
摘要翻译：公开了一种浸渍曝光系统（1），其中通过填充投影光学装置（121）的光学装置和基板（111）之间的空间的液体（301）进行曝光。该浸渍曝光系统（1）包括用于供应液体（301）的液体供应部分（80），在填充投影光学装置（121）的光学装置之间的空间的同时进行曝光的曝光处理部分（110）和从液体供给部（80）供给的液体（301（301b））沿预定方向连续引入液体（301）的基板（111），用于回收排出液体的液体回收部（90）（101a）的与曝光处理部（110）相反的位置处的液体再循环部（301a）），以及用于再循环由液体回收部（90）回收的液体（301（301c））的液体再循环部，。利用该系统，能够稳定浸渍曝光用液体的品质，能够在抑制运转成本的同时持续进行良好的曝光。

5. 发明申请

WO2007046452A1 色素及び色素増感太陽電池审中-公开
标题翻译： DYE和DYE-SENSITIZED太阳能电池
公开(公告)号：WO2007046452A1
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/JP2006/320809
申请日：2006-10-19
申请人： JSR株式会社 , 王勇 , 山田欣司 , 佐藤哲哉
发明人：王勇 , 山田欣司 , 佐藤哲哉
IPC分类号： C09B57/10 , C09B23/00 , H01L31/04 , H01M14/00
CPC分类号： C09B57/10 , H01G9/2059 , H01M14/005 , Y02E10/542
摘要：　下記一般式（１）で表される色素であり、高い発電効率を発揮し得る色素である。　ＭＬ１Ｌ２Ｘ１Ｘ２・・・（１）（上記一般式（１）中、Ｍは長周期表上の８～１０族の元素であり、Ｌ１は所定の式で表される二座配位子であり、Ｌ２は前記所定の式、又は前記所定の式とは異なる式で表される二座配位子であり、Ｘ１及びＸ２は一価の原子団又は一座配位子である）
摘要翻译：公开了由下述通式（1）表示的能够表现出高发电效率的染料。（1）（通式（1）中，M表示1〜2个长周期表的第8-10族元素; L 1表示由一定式表示的二齿配体; L 2表示由上述某些式表示的二齿配位体式或不同于上述某些式的式; X 1和X 2分别表示一价原子基团或单齿配体。）

6. 发明申请

WO2005114711A1 液浸露光用液体および液浸露光方法审中-公开
标题翻译：液体暴露和暴露暴露方法
公开(公告)号：WO2005114711A1
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：PCT/JP2005/009128
申请日：2005-05-19
申请人： JSR株式会社 , 宮松隆 , 根本宏明 , 王勇
发明人：宮松隆 , 根本宏明 , 王勇
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041
摘要：　液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、レジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができる液浸露光用液体およびその液体を用いた液浸露光方法の提供を目的とする。　投影光学系のレンズと基板との間に満たされた液体を介して露光する液浸露光装置または液浸露光方法に用いられる液体であって、該液体は、液浸露光装置が作動する温度領域において液状であり、脂環式炭化水素化合物または珪素原子を環構造中に含む環式炭化水素化合物である。
摘要翻译：公开了一种具有高折射率的浸渍曝光用液体，其能够防止光刻胶膜成分或光致抗蚀剂膜上层的膜成分的溶出或溶解，并抑制浸渍曝光方法中的抗蚀剂图案形成时的缺陷。还公开了使用这种液体的浸渍曝光方法。具体公开了在浸渍曝光装置中使用的液体或浸渍曝光方法，其中通过填充在投影光学系统的透镜和基板之间的空间中的液体进行曝光。该液体在浸渍曝光装置的工作温度范围内为液态，由环状结构中含有硅原子的脂环族烃化合物或环状烃化合物构成。

7. 发明申请

WO2005100484A1 色素および色素増感太陽電池审中-公开
标题翻译： DYE和DYE-SENSITIZED太阳能电池
公开(公告)号：WO2005100484A1
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：PCT/JP2005/007486
申请日：2005-04-13
申请人： JSR株式会社 , 王勇 , 松木安生
发明人：王勇 , 松木安生
IPC分类号： C09B57/10
CPC分类号： H01G9/2059 , C07D213/79 , C07F15/0053 , C09B57/10 , H01M14/005 , Y02E10/542
摘要：色素増感太陽電池に使用した場合に、高い変換効率、優れた耐候性、耐熱性を示す新規な色素およびこの色素を使用した色素増感太陽電池が提供される。この色素は、下記式(1)で表わされる。ML 1 L 2 X 1 X 2 …(1)ただし、式(1)において、Mは長周期律表上の8乃至10族の元素であり、L 1 およびL 2 はそれぞれ特定ビピリジンからなる二座配位子であり、X 1 およびX 2 は一価の原子団又は一座配位子である。
摘要翻译：公开了一种新颖的染料，其在染料敏化太阳能电池中使用时具有优异的转化效率，优异的耐候性和优异的耐热性。还公开了使用这种染料的染料敏化太阳能电池。染料由下式（1）表示。 ML 1 L 2 X 1（2）（式中，M表示长周期表的第8-10族元素; L 1和L < 2>分别表示由特定的联吡啶构成的双齿配体; X 1和X 2分别表示一价原子团或单齿配体。

8. 发明申请

WO2004065377A1 スルホニウム塩化合物、感放射線性酸発生剤およびポジ型感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：硫酸钠，辐射敏感酸发生器和阳性辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2004065377A1
公开(公告)日：2004-08-05
申请号：PCT/JP2004/000130
申请日：2004-01-09
申请人： JSR株式会社 , 宮松隆 , 庭田弘一 , 江幡敏 , 王勇
发明人：宮松隆 , 庭田弘一 , 江幡敏 , 王勇
IPC分类号： C07D333/46
CPC分类号： C07D333/72 , C07D333/46 , C07D333/78 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/123
摘要： Sulfonium salts which are excellent in transparency to rays having wavelengths of 220nm or below and can attain excellent performances in sensitivity, resolution, pattern shape, LER, storage stability, and so on when used as radiation-sensitive acid generator; and positive radiation-sensitive resin compositions containing the salts as the radiation-sensitive acid generator. The sulfonium salts are represented by the general formula (I): (I) [wherein R is halogeno, alkyl, alicyclic hydrocarbyl, alkoxyl, -OR (wherein R is alicyclic hydrocarbyl), or the like; R is (substituted) alkyl, or two or more R s are united to form a ring structure; p is 0 to 7; q is 0 to 6; n is 0 to 3; and X is a sulfonate anion]. The positive radiation-sensitive resin compositions comprise (A) radiation-sensitive acid generators consisting of the sulfonium salts and (B) resins having acid-dissociable groups.
摘要翻译：对于波长为220nm以下的光线的透明度优异的锍盐，当作为辐射敏感性酸发生剂使用时，可以在灵敏度，分辨率，图案形状，LER，储存稳定性等方面获得优异的性能; 和含有盐作为辐射敏感性酸产生剂的正性辐射敏感性树脂组合物。锍盐由通式（I）表示：（I）[其中R 1是卤代，烷基，脂环烃基，烷氧基，-OR 3（其中R 3是脂环烃基），或喜欢; R 2为（取代的）烷基，或两个或多个R 2结合形成环结构; p为0〜7; q为0〜6; n为0〜3; 和X'是磺酸根阴离子]。阳性辐射敏感性树脂组合物包含（A）由锍盐和（B）具有酸解离基团的树脂组成的辐射敏感酸产生剂。

9. 发明申请

WO2008059960A1 クォータピリジン誘導体の製造方法及びその中間体审中-公开
标题翻译：季戊四醇衍生物的制备方法和季戊四醇衍生物的中间体
公开(公告)号：WO2008059960A1
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：PCT/JP2007/072287
申请日：2007-11-16
申请人： JSR株式会社 , 王勇
发明人：王勇
IPC分类号： C07D213/79 , C07D213/61 , C07D405/04 , C07D405/14
CPC分类号： C07D213/61 , C07D213/79 , C07D405/04 , C07D405/14
摘要：　式（１）で表されるビピリジン誘導体と、式（２）で表される有機金属中間体とを、遷移金属触媒を用いて反応させて式（３）で表されるクォータピリジン誘導体を生成させるクォータピリジン誘導体の製造方法。クォータピリジン誘導体を容易に製造することが可能な、クォータピリジン誘導体の製造方法を提供する。
摘要翻译：公开了通过使用过渡金属催化剂使下述式（1）表示的联吡啶衍生物与下述式（2）表示的有机金属中间体反应的季铵化合物的制造方法，吡啶衍生物，由下式（3）表示。该方法能够容易地生成四分之一吡啶衍生物。

10. 发明申请

WO2004078703A1 酸発生剤、スルホン酸、スルホニルハライド化合物および感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：酸发生器，磺酸，磺酰胆碱和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2004078703A1
公开(公告)日：2004-09-16
申请号：PCT/JP2004/001973
申请日：2004-02-20
申请人： JSR株式会社 , 江幡敏 , 王勇 , 西村功
发明人：江幡敏 , 王勇 , 西村功
IPC分类号： C07C309/23
CPC分类号： C07C309/19 , C07C309/17 , C07C309/23 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D207/46 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/122 , Y10S430/126
摘要： The invention provides novel acid generators which are unproblematic in combustibility and accumulation inside the human body and can generate acids having high acidities and high boiling points and exhibiting properly short diffusion lengths in resist coating films and which permit the formation of resist patterns excellent smoothness with little dependence on the denseness of a mask pattern; sulfonic acids generated from the acid generators; sulfonyl halides useful as raw material in the synthesis of the acid generators; and radiation-sensitive resin compositions containing the acid generators. The acid generators have structures represented by the general formula (I): (I) [wherein R is a monovalent substituent such as alkoxycarbonyl, alkylsulfonyl, or alkoxysulfonyl; R to R are each hydrogen or alkyl; k is an integer of 0 or above; and n is an integer of 0 to 5]. Among the radiation-sensitive resin compositions, a positive one contains a resin having acid-dissociable groups in addition to the above acid generator, while a negative one contains an alkali-soluble resin and a crosslinking agent in addition to the acid generator.
摘要翻译：本发明提供了新颖的酸产生剂，其在人体内的可燃性和积聚中是无问题的，并且可以产生具有高酸度和高沸点的酸，并且在抗蚀剂涂膜中显示适当短的扩散长度，并且允许形成抗蚀剂图案，具有极好的平滑性依赖于掩模图案的致密度; 酸产生器产生的磺酸; 用于合成酸发生剂的原料的磺酰卤; 和含有酸发生剂的辐射敏感性树脂组合物。酸产生剂具有由通式（I）表示的结构：（I）[其中R 1是一价取代基，例如烷氧基羰基，烷基磺酰基或烷氧基磺酰基; R 2至R 4各自为氢或烷基; k为0以上的整数; n为0〜5的整数]。在辐射敏感性树脂组合物中，除了上述酸发生剂之外，阳性物质还含有具有酸解离性基团的树脂，而除酸产生剂之外，还含有碱溶性树脂和交联剂。

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