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1. 发明申请

WO2009041407A1 微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成精细图案的树脂组合物和形成细小图案的方法
公开(公告)号：WO2009041407A1
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/JP2008/067143
申请日：2008-09-24
申请人： JSR株式会社 , 安陪毅由 , 杉浦誠 , 永井智樹 , 中村敦 , 若松剛史 , 庵野祐亮
发明人：安陪毅由 , 杉浦誠 , 永井智樹 , 中村敦 , 若松剛史 , 庵野祐亮
IPC分类号： G03F7/40 , C08L101/04 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/40 , C08F214/18 , C08F220/58 , C08F212/14 , C08F2220/387 , C08F220/22
摘要：熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。樹脂と、架橋成分と、アルコール溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための微細パターン形成用樹脂組成物であって、上記樹脂が下記式（２）で表される側鎖を有する繰り返し単位（Ｉ）と、水酸基を側鎖に有する繰り返し単位（ＩＩ）と、スチレン誘導体である繰り返し単位（ＩＩＩ）とを含有する。Ｒ、Ｒ'、またはＲ''は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、ヒドロキシメチル基、トリフルオロメチル基、またはフェニル基を表し、Ａは、単結合、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、またはオキシカルボニル基を表し、Ｂは、単結合、または炭素数１～２０の２価の有機基を表し、Ｒfは少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１～８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。
摘要翻译：公开了通过热处理能够使抗蚀剂图案平滑收缩的树脂组合物，并且可以通过用碱水溶液处理容易地除去。具体公开了用于形成精细图案的树脂组合物，其旨在用于制造精细抗蚀剂图案并且包括树脂，交联组分和醇溶剂，其中树脂具有侧面的重复单元（I）由式（1）表示的链，具有羟基作为侧链的重复单元（II）和作为苯乙烯衍生物的重复单元（III）。（1）其中R，R'和R“独立地表示氢原子，具有1-10个碳原子的烷基，羟甲基，三氟甲基或苯基; A表示单键，氧原子，羰基，羰氧基或氧羰基; B表示单键或碳原子数1〜20的2价有机基团。 Rf表示碳原子数1〜8的直链状或支链状的烷基，其中至少一个氢原子被氟原子取代。

2. 发明申请

WO2008117693A1 ポジ型感放射線性組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：积极工作的辐射敏感性组合物和使用组合物形成抗蚀剂图案的方法
公开(公告)号：WO2008117693A1
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：PCT/JP2008/054881
申请日：2008-03-17
申请人： JSR株式会社 , 西村幸生 , 酒井香織 , 松村信司 , 杉浦誠 , 中村敦 , 若松剛史 , 庵野祐亮
发明人：西村幸生 , 酒井香織 , 松村信司 , 杉浦誠 , 中村敦 , 若松剛史 , 庵野祐亮
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , G03F7/2041 , G03F7/40
摘要：　液浸露光プロセスを用いた二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目に形成されるパターンを不活性化させ、第二層目のパターン形成時における露光の際に、第一層目のパターンが感光してアルカリ可溶性とならず、第一層目のパターンを保持したまま第二層目のパターンを形成可能なパターン形成方法等を提供する。　本パターン形成方法は、第一レジスト層形成用組成物を用い、基板上に第一パターンを形成する工程と、第一パターンを不活性化させる工程と、第二レジスト層形成用組成物を用い、パターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、露光する工程と、現像し、第一パターンのスペース部分に第二パターンを形成する工程とを含み、第一レジスト層形成用組成物はネガ化を促進する架橋剤を含有することを特徴とする。
摘要翻译：本发明提供了一种图案形成方法，其优点在于，在通过使用液浸曝光的双曝光进行图案化时，当第一层图案在形成第二层图案时被钝化，随后曝光时，第一层图案通过第一层图案的曝光不会碱溶，因此可以在保持第一层图案的同时形成第二层图案。图案形成方法的特征在于包括以下步骤：使用第一抗蚀剂层形成用组合物在基板上形成第一图案，使第一图案失效，使用在基板上形成第二抗蚀剂层的组合物形成第二抗蚀剂层其上形成有图案并将组件暴露于光，并且显影组件以在第一图案的空间区域中形成第二图案，所述第一抗蚀剂层形成用组合物含有用于加速转化为负作用类型的交联剂。

3. 发明申请

WO2009041270A1 液浸用上層膜形成用組成物及び液浸用上層膜並びにフォトレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成上层暴露的上层膜的组合物，用于浸没曝光的上层膜和形成光电子图案的方法
公开(公告)号：WO2009041270A1
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/JP2008/066351
申请日：2008-09-10
申请人： JSR株式会社 , 杉浦誠 , 河野大太 , 杉江紀彦 , 若松剛史 , 夏目紀浩 , 西村幸生
发明人：河野大太 , 杉江紀彦 , 若松剛史 , 夏目紀浩 , 西村幸生
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：　本発明の目的は、ウォーターマーク欠陥や溶け残り欠陥等の液浸露光プロセス由来の欠陥発生を効果的に抑制できる上層膜を形成可能な液浸用上層膜形成用組成物及び液浸用上層膜並びにレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の上層膜形成用組成物は、樹脂成分と溶剤とを含むものであり、樹脂成分として、式（１－１）～（１－３）で表される繰り返し単位のうちの少なくとも１種と、式（２－１）及び（２－２）で表される繰り返し単位のうちの少なくとも一方と、を含有する樹脂（Ａ）を含む。［式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２及びＲ３はメチレン基、炭素数２～６の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、又は炭素数４～１２の脂環式のアルキレン基を示し、Ｒ４は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ５は単結合、メチレン基、又は炭素数２～６の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示す。］
摘要翻译：一种用于形成浸渍曝光用上层膜的组合物。可以通过浸没曝光工艺（如水印缺陷和溶解残留缺陷）形成上层膜，从而有效抑制显影缺陷。还提供了用于浸渍曝光的上层膜和形成抗蚀剂图案的方法。用于形成上层膜的组合物包括树脂成分和溶剂。树脂成分包括含有选自由式（1-1）〜（1-3）表示的重复单元中的至少一种重复单元的树脂（A）和由式（2-1）和（2-2）。（1-1）（1-2）（1-3）（2-1）（2-2）[式中，R1表示氢或甲基; R2和R3各自表示亚甲基，直链或支链C 2-6亚烷基或脂环族C 4-12亚烷基; R4代表氢或甲基; 并且R 5表示单键，亚甲基或直链或支链C 2-6亚烷基。]

4. 发明申请

WO2009093686A1 レジストパターン形成方法及びレジストパターン微細化樹脂組成物审中-公开
标题翻译：形成电阻图案和电阻图案的微型树脂组合物的方法
公开(公告)号：WO2009093686A1
公开(公告)日：2009-07-30
申请号：PCT/JP2009/051072
申请日：2009-01-23
申请人： JSR株式会社 , 安陪毅由 , 中村敦 , 若松剛史
发明人：安陪毅由 , 中村敦 , 若松剛史
IPC分类号： G03F7/40
CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40 , G03F7/405 , Y10S430/106
摘要：　第一のポジ型感放射線性樹脂組成物を用いて第一のレジストパターンを形成する工程（１）と、第一のレジストパターン上にレジストパターン微細化樹脂組成物を塗布し、ベーク後、現像して第一のレジストパターンを微細化した第二のレジストパターンを形成する工程（２）と、第二のレジストパターン上にレジストパターン不溶化樹脂組成物を塗布し、ベーク後、洗浄して、第二のレジストパターンを、現像液及び第二のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して不溶な第三のレジストパターンとする工程（３）と、第二のポジ型感放射線性樹脂組成物を用いて第三のレジストパターン上に第二のレジスト層を形成し、第二のレジスト層を露光及び現像して第四のレジストパターンを形成する工程（４）と、を含むレジストパターン形成方法である。
摘要翻译：公开了一种形成抗蚀剂图案的方法，其包括通过使用第一正性辐射敏感性树脂组合物形成第一抗蚀剂图案的步骤（1），其中涂覆抗蚀剂图案小型化树脂组合物的步骤（2）第一抗蚀剂图案，然后将所得到的图案烘焙和显影，从而使第一抗蚀剂图案小型化为第二抗蚀剂图案，其中将抗蚀剂图案不溶化树脂组合物涂覆在第二抗蚀剂图案上的步骤（3），然后将所得到的图案烘烤和清洁，从而将第二抗蚀剂图案改变成不溶于显影剂的第三抗蚀剂图案和第二正性辐射敏感性树脂组合物，以及步骤（4），其中第二抗蚀剂层形成在通过使用第二正性辐射敏感性树脂组合物，然后将第二抗蚀剂层曝光和显影，从而形成第四抗蚀剂图案 st图案。

5. 发明申请

WO2008087840A1 液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びフォトレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于浸没曝光的辐射敏感性树脂组合物和形成光电子图案的方法
公开(公告)号：WO2008087840A1
公开(公告)日：2008-07-24
申请号：PCT/JP2007/075016
申请日：2007-12-26
申请人： JSR株式会社 , 西村幸生 , 原田健太郎 , 若松剛史 , 中島浩光 , 中川大樹 , 松村信司
发明人：西村幸生 , 原田健太郎 , 若松剛史 , 中島浩光 , 中川大樹 , 松村信司
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/2041
摘要：　本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、液浸露光時に接触した水等の液浸媒体への溶出物の量が少なく、且つバブル欠陥の発生を抑制することができる液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、フッ素化アルキル基を含有し、フッ素含量が３ａｔｏｍ％以上であり、且つ酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体（Ａ）と、酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素含量が３ａｔｏｍ％未満である樹脂（Ｂ）と、感放射線性酸発生剤（Ｃ）と、を含有する樹脂組成物であって、この樹脂組成物を基板上に塗布して形成されるフォトレジスト膜の水に対する前進接触角が９５度以下である。
摘要翻译：用于浸渍曝光的辐射敏感树脂组合物，其能够产生令人满意的图案形状，具有优异的焦深，并且降低溶解在浸渍介质（例如水）中的组分的含量，浸渍介质中的组合物在浸渍期间与其接触曝光。减少气泡缺陷是有效的。还提供了从组合物形成光致抗蚀剂图案的方法。用于浸渍曝光的辐射敏感性树脂组合物包括：含有氟烷基的聚合物（A），氟含量为3原子％以上，并且通过酸的作用变得碱溶性; 通过酸作为碱溶性且氟含量低于3原子％的树脂（B）; 和辐射敏感性酸产生剂（C）。通过将该树脂组合物涂布在基板上而形成的光致抗蚀剂膜与水的前进接触角为95°以下。

6. 发明申请

WO2007116664A1 フッ素含有重合体及び精製方法並びに感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：含氟聚合物，纯化方法和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2007116664A1
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：PCT/JP2007/056094
申请日：2007-03-23
申请人： JSR株式会社 , 中川大樹 , 中島浩光 , 若松剛史 , 原田健太郎 , 西村幸生 , 塩谷健夫
发明人：中川大樹 , 中島浩光 , 若松剛史 , 原田健太郎 , 西村幸生 , 塩谷健夫
IPC分类号： C08F20/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要： Disclosed are a novel fluorine-containing polymer, and a radiation-sensitive resin composition for immersion exposure containing such a polymer. The radiation-sensitive resin composition enables to obtain a pattern having a good shape and excellent depth of focus, while hardly dissolving into water which comes into contact during immersion exposure. In addition, the radiation-sensitive resin composition enables to obtain a large receding contact angle between a resist film and water. Also disclosed is a method for purifying a fluorine-containing polymer. Specifically, the resin composition contains a novel fluorine-containing polymer (A) containing repeating units represented by the general formulae (1) and (2) below and having an Mw of 1,000-50,000, a resin (B) having an acid labile group, a radiation-sensitive acid generator (C), a nitrogen-containing compound (D) and a solvent (E).
摘要翻译：公开了一种新型含氟聚合物和用于浸渍曝光的含有这种聚合物的辐射敏感性树脂组合物。该辐射敏感性树脂组合物能够获得具有良好的形状和优异的聚焦深度的图案，同时几乎不溶于浸入曝光期间接触的水中。此外，辐射敏感性树脂组合物能够获得抗蚀剂膜和水之间的大的后退接触角。还公开了一种用于纯化含氟聚合物的方法。具体而言，树脂组合物含有含有下述通式（1）和（2）表示的重复单元，Mw为1000〜5000的新的含氟聚合物（A），具有酸不稳定基团的树脂（B），辐射敏感性酸产生剂（C），含氮化合物（D）和溶剂（E）。

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