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1. 发明申请

WO2008038460A1 感光性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：WO2008038460A1
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：PCT/JP2007/065300
申请日：2007-08-03
申请人： JSR株式会社 , 千葉隆 , 嶋田遵生子 , 浅野重人
发明人：千葉隆 , 嶋田遵生子 , 浅野重人
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0387 , G03F7/0045 , G03F7/038 , H05K3/287 , H05K3/4676
摘要：　（Ａ）ポリイミド樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）アルコキシアルキル化されたアミノ基を有する架橋剤、及び（Ｄ）下記一般式（１）で表される化合物（但し、Ｒ１は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は互いに独立して、炭素数１～５のアルキル基を示す）を含有する感光性樹脂組成物である。
摘要翻译：一种感光性树脂组合物，其包含（A）聚酰亚胺树脂，（B）光酸发生剂，（C）具有烷氧基烷基化氨基的交联剂和（D）由通式（1）表示的化合物[其中R 1是氢原子或碳原子数1〜4的烷基， R 2，R 3和R 4独立代表具有1至5个碳原子的烷基。

2. 发明申请

WO2007125817A1 感光性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：WO2007125817A1
公开(公告)日：2007-11-08
申请号：PCT/JP2007/058550
申请日：2007-04-19
申请人： JSR株式会社 , 千葉隆 , 齋藤明夫 , 浅野重人
发明人：千葉隆 , 齋藤明夫 , 浅野重人
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/037 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382
摘要：　（Ａ）ポリイミド樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、及び（Ｃ）アルコキシアルキル化されたアミノ基を有する架橋剤、を含有する感光性樹脂組成物である。
摘要翻译：公开了包含（A）聚酰亚胺树脂，（B）光酸产生剂和（C）具有烷氧基烷基化氨基的交联剂的感光性树脂组合物。

3. 发明申请

WO2007125818A1 重合体及びそれを含有する感光性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：聚合物和感光树脂组合物包括它们
公开(公告)号：WO2007125818A1
公开(公告)日：2007-11-08
申请号：PCT/JP2007/058551
申请日：2007-04-19
申请人： JSR株式会社 , 千葉隆 , 齋藤明夫 , 浅野重人
发明人：千葉隆 , 齋藤明夫 , 浅野重人
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0387
摘要： Disclosed is a polymer having a repeat unit represented by the general formula (1) and a repeat unit represented by the general formula (3).
摘要翻译：公开了具有由通式（1）表示的重复单元和由通式（3）表示的重复单元的聚合物。

4. 发明申请

WO2007052540A1 感光性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：WO2007052540A1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/JP2006/321435
申请日：2006-10-26
申请人： JSR株式会社 , 千葉隆 , 齋藤明夫 , 浅野重人
发明人：千葉隆 , 齋藤明夫 , 浅野重人
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0387
摘要：　高膜厚塗布が可能で、アルカリ現像が可能で、解像性が高く、硬化後の残留応力が小さく、耐溶剤性、耐熱衝撃性、密着性等の諸特性に優れた硬化物を得ることができる表面保護膜、層間絶縁膜や高密度実装基板用絶縁膜用途に適したものであり、所定の繰り返し単位を有する重合体、常圧での沸点が１００°C以上で、所定の群から選ばれる少なくとも一種を１０質量％以上含有する溶剤、感光性酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物である。
摘要翻译：本发明提供一种感光性树脂组合物，其可以以高膜厚度涂布，可用碱显影，具有高分辨率，固化后残留应力水平小，可提供固化物，各种性能如耐溶剂性，耐热冲击性和粘合性，并且适用于诸如表面保护膜，层间绝缘膜和用于高密度安装板的绝缘膜的应用。感光性树脂组合物包含含有规定重复单元的聚合物，在大气压下含有10质量％以上的沸点为100℃以上的溶剂且选自预定的一组溶剂的溶剂，光敏酸产生剂。

5. 发明申请

WO2005101129A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2005101129A1
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：PCT/JP2005/007123
申请日：2005-04-13
申请人： JSR株式会社 , 西村功 , 千葉隆 , 下川努
发明人：西村功 , 千葉隆 , 下川努
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0045 , G03F7/0757
摘要：　１９３ｎｍ以下の波長において透明性が高く、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた化学増幅型レジストとして、保存後の感度変化が著しく抑制された感放射線性樹脂組成物を提供する。　感放射線性樹脂組成物は、（イ）下記式（Ｉ）で表される構造単位（Ｉ）および／または下記式（II）で表される構造単位（II）を有するシロキサン樹脂、（ロ）感放射線性酸発生剤、並びに（ハ）溶剤を含有し、樹脂組成物中の（イ）～（ハ）成分以外の含窒素化合物の含有率が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。　　【化１】（ＡおよびＢは直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の（置換）炭化水素基を示し、Ｒ 1 は１価の酸解離性基を示し、Ｒ 2 は水素原子または１価の酸解離性基を示す。）
摘要翻译：公开了对波长不大于193nm高度透明的特别适合于具有优异的焦深（DOF）的化学放大型抗蚀剂的辐射敏感性树脂组合物。此外，在该放射线敏感性树脂组合物中，抑制了储存后的灵敏度变化。辐射敏感性树脂组合物的特征在于，其含有（i）具有由下式（I）表示的结构单元（I）和/或由下式（II）表示的结构单元（II））的硅氧烷树脂，（ii）辐射敏感性酸产生剂和（iii）溶剂，除了组分（i） - （iii）以外的含氮化合物的含量不超过100ppm。（I）（II）（上式中，A和B分别表示直链，支链或环状二价（取代）烃基，R 1表示一价酸可裂解基团，R 2表示氢原子或一价酸可裂解基团。）

6. 发明申请

WO2005108444A1 ラクトン系共重合体および感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译： LACTONE共聚物和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2005108444A1
公开(公告)日：2005-11-17
申请号：PCT/JP2005/008288
申请日：2005-05-02
申请人： JSR株式会社 , 中島浩光 , 宇高友広 , 千葉隆 , 米田英司 , 中村敦
发明人：中島浩光 , 宇高友広 , 千葉隆 , 米田英司 , 中村敦
IPC分类号： C08F220/28
CPC分类号： C08F220/28 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： A radiation-sensitive resin composition that not only excels in fundamental properties as resist, such as sensitivity and resolution, but also with respect to both of line-and-space pattern and isolated space pattern, realizes extensive depth of focus (DOF) and is less in the line width change attributed to alteration of baking temperature, the limit line width free from any phenomenon of line pattern collapse of the radiation-sensitive resin composition being small. Further, there is provided a lactone copolymer being useful as a resin component of the radiation-sensitive resin composition. This lactone copolymer is represented by a copolymer of compound of the following formula (1-1), compound of the following formula (2-1) and compound of the following formula (3-1). This radiation-sensitive resin composition comprises the lactone copolymer (a) and radiation-sensitive acid generating agent (b).
摘要翻译：不仅优异的抗光敏性和分辨率等基本特性的射线敏感性树脂组合物，而且对于线和空间图案和隔离空间图案两者都实现了广泛的焦点深度（DOF），并且是由于烘烤温度的变化导致的线宽变化较小，所以不存在辐射敏感性树脂组合物的线型塌陷的任何现象的极限线宽小。此外，提供了可用作辐射敏感性树脂组合物的树脂组分的内酯共聚物。该内酯共聚物由下式（1-1）的化合物，下式（2-1）的化合物和下式（3-1）的化合物的共聚物表示。该辐射敏感性树脂组合物包含内酯共聚物（a）和辐射敏感性酸产生剂（b）。

7. 发明申请

WO2005069076A1 液浸用上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于液体浸渍的上层膜形成组合物和形成光电子图案的方法
公开(公告)号：WO2005069076A1
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/JP2005/000346
申请日：2005-01-14
申请人： JSR株式会社 , 木村徹 , 西村幸生 , 宇高友広 , 根本宏明 , 中村敦 , 千葉隆 , 中川大樹
发明人：木村徹 , 西村幸生 , 宇高友広 , 根本宏明 , 中村敦 , 千葉隆 , 中川大樹
IPC分类号： G03F7/11
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F214/182 , C08F214/186 , C08F216/10 , C08F220/18 , C08F220/24 , G03F7/11 , C08F220/06 , C08F2222/1013
摘要：【課題】　２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）の露光波長での十分な透過性と、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、さらに液浸露光時の水に溶出することなく安定な被膜を維持し、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。【解決手段】　レンズとフォトレジスト膜との間に水を介して放射線照射する液浸露光装置を用いるときに、上記フォトレジスト膜に被覆される組成物であって、この組成物は、放射線照射時に水に安定な膜を形成し、その後の現像液に溶解する樹脂と、炭素数６以下の１価アルコールを含む溶媒とからなり、特に上記樹脂が、少なくともα位にフルオロアルキル基を有するアルコール性水酸基をその側鎖に有する樹脂成分を含む。
摘要翻译： [问题]为了实现248nm（KrF）和193nm（ArF）波长的曝光光的令人满意的透射率，以在光致抗蚀剂上实现膜的形成而不与光致抗蚀剂膜混合，以保持稳定的膜而不溶解在液态曝光中的水中，并形成容易溶于碱性显影剂的上层膜。 [解决问题的手段]提供了一种组合物，其中，在使用其中透镜与光致抗蚀剂膜之间的水进行放射线曝光的液浸光学曝光单元时，涂覆光致抗蚀剂膜，该组合物包含能够在暴露于辐射并且可溶于后续的显影剂和含有C6或更少的一元醇的溶剂中形成对水稳定的膜的树脂。特别地，上述树脂包含其侧链中具有醇羟基的树脂组分，并且至少在其α-位上具有氟烷基。

8. 发明申请

WO2006035790A1 共重合体および上層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：共聚物和上胶膜组合物
公开(公告)号：WO2006035790A1
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：PCT/JP2005/017790
申请日：2005-09-28
申请人： JSR株式会社 , 千葉隆 , 木村徹 , 宇高友広 , 中川大樹 , 榊原宏和 , 堂河内寛
发明人：千葉隆 , 木村徹 , 宇高友広 , 中川大樹 , 榊原宏和 , 堂河内寛
IPC分类号： C08F220/10 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/38 , C08F228/00 , G03F7/2041
摘要： Disclosed is an upper film-forming composition which enables to form a coating film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film and to maintain a stable coating film without dissolving into a medium used during immersion exposure. The upper film-forming composition is also capable to form an upper layer which enables to obtain a pattern shape that is not inferior to the one obtained by a process other than immersion exposure, namely a dry exposure and can be easily dissolved in an alkaline developer. Also disclosed is a copolymer containing a repeating unit having a group represented by the general formula (1) below, a repeating unit having a group represented by the general formula (2) below, at least one repeating unit (I) selected from repeating units having a carboxyl group, and a repeating unit (II) having a sulfo group, and having a weight average molecular weight of 2,000-100,000 determined by gel permeation chromatography. (1) (2) At least one of R
摘要翻译：公开了一种能够在光致抗蚀剂上形成涂膜而不会与光致抗蚀剂膜混合并且保持稳定的涂膜而不溶解于浸渍曝光期间使用的介质的上成膜组合物。上部成膜组合物也能够形成上层，其能够获得不劣于通过浸渍曝光以外的方法获得的图案形状，即干燥曝光并且可以容易地溶解在碱性显影剂中。还公开了含有具有下述通式（1）所示基团的重复单元，具有下述通式（2）所示基团的重复单元，至少一个选自重复单元具有羧基的重复单元（II）和具有磺基的重复单元（II），并且通过凝胶渗透色谱测定其重均分子量为2,000-100,000。（1）（2）至少有一个R

9. 发明申请

WO2005116776A1 微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成精细图案的树脂组合物和形成细小图案的方法
公开(公告)号：WO2005116776A1
公开(公告)日：2005-12-08
申请号：PCT/JP2005/009394
申请日：2005-05-24
申请人： JSR株式会社 , 榊原宏和 , 安陪毅由 , 千葉隆 , 木村徹
发明人：榊原宏和 , 安陪毅由 , 千葉隆 , 木村徹
IPC分类号： G03F7/40
CPC分类号： G03F7/40 , H01L21/0274
摘要：　フォトレジストを用いて形成されたレジストパターンを熱処理することにより微細パターンを形成するに際し、該レジストパターン上に設けられ、熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る樹脂組成物、およびこれを用いて効率よく微細レジストパターンを形成できる。　水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、全溶媒に対して１０重量％以下の水を含むアルコール溶媒とを含有し、また、上記アルコール溶媒が炭素数１～８の１価アルコールである。
摘要翻译：公开了一种树脂组合物，其在通过抗蚀剂图案的热处理形成微细图案时，设置在使用光致抗蚀剂形成的抗蚀剂图案上。树脂组合物能够使抗蚀剂图案通过热处理而平滑地收缩，并且可以通过使用碱水溶液的后续处理容易地除去。还公开了一种有效地形成使用这种树脂组合物的精细抗蚀剂图案的方法。树脂组合物含有相对于总溶剂含有不超过10重量％水的羟基，交联组分和醇溶剂的树脂。醇溶剂是具有1-8个碳原子的一元醇。

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