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    • 2. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON KIESELSÄURE MIT VARIABLER VERDICKUNG
    • 用于生产二氧化硅增厚变量
    • WO2015003873A1
    • 2015-01-15
    • PCT/EP2014/062356
    • 2014-06-13
    • EVONIK INDUSTRIES AGSCHULZE ISFORT, ChristianGOLCHERT, RainerROTH, HelmutHILLE, AndreasSCHUMACHER, Kai
    • SCHULZE ISFORT, ChristianGOLCHERT, RainerROTH, HelmutHILLE, AndreasSCHUMACHER, Kai
    • B01F5/04C01B33/18C01B13/20C01B13/24
    • C01B33/183
    • Verfahren zur Herstellung von Kieselsäure mit variabler Verdickung, bei dem man a) einen Stoffstrom I enthaltend wenigstens eine dampfförmige, hydrolysierbare und/oder oxidierbare Siliciumverbindung, b) einen Stoffstrom II enthaltend Sauerstoff, und c) einen Stoffstrom III enthaltend wenigstens ein Brenngas zur Reaktion bringt, wobei man d) über eine in einem Rohrstück A vorgesehenen Einspeisestelle, wobei das Rohrstück A ein oder mehrere statische Mischelemente umfasst, den Stoffstrom I in den Stoffstrom II oder umgekehrt einbringt und dadurch den Stoffstrom IV erzeugt, anschließend e) über eine in einem Rohrstück B vorgesehenen Einspeisestelle, wobei das Rohrstück B ein oder mehrere statische Mischelemente umfasst, in den Stoffstrom IV den Stoffstrom III einbringt und dadurch den Stoffstrom V erzeugt, f) den das Rohrstück B verlassenden Stoffstrom V in eine Reaktionskammer einbringt, dort zündet und in einer Flamme umsetzt, und g) den entstandenen Feststoff abtrennt.
    • 一种用于制备二氧化硅可变增稠过程,其中材料的流动)使a)第I至少含有蒸气,可水解的和/或可氧化的硅化合物,b)含有氧气流II,和c,一个流III,其包括至少一个燃料气体到反应 通过在管状部分设置的馈电点,其中,所述管件a的是包括使织物电流I在材料流II或反之亦然的一个或多个静态混合元件被引入,从而产生在管段的流IV,然后E)一种以得到D) B中提供馈电点,其中,所述管段B包括一个或多个静态混合元件,在材料流动的材料流动IV引入III,从而生成流V,F)的离去流引入到反应室中的管件乙Ⅴ的点燃那里,并且在火焰中 反应,和g)分离形成的固体。
    • 7. 发明申请
    • SILICIUMDIOXID UND TITANDIOXID ENTHALTENDES GRANULAT
    • 二氧化硅和二氧化钛含GRANULES
    • WO2011124435A1
    • 2011-10-13
    • PCT/EP2011/053532
    • 2011-03-09
    • EVONIK DEGUSSA GMBHVORMBERG, ReinhardSCHULZE ISFORT, ChristianSCHUHARDT, NinaMEYER, Jürgen
    • VORMBERG, ReinhardSCHULZE ISFORT, ChristianSCHUHARDT, NinaMEYER, Jürgen
    • C09C1/00C09C1/30C09C1/36
    • C09C1/0081C09C1/30C09C1/3607
    • Granulat, umfassend oder bestehend aus ein oder mehreren Silicium-Titan-Mischoxidpulvern, wobei der Anteil an Titandioxid 70 bis 98 Gew.-%, an Siliciumdioxid von 2 bis 30 Gew.-% beträgt, und wobei die Summe der Anteile wenigstens 98 Gew.-% ist, jeweils bezogen auf das Granulat, und wobei a) bei Raumtemperatur a1) der Anteil des Titandioxides die Modifikationen Rutil und Anatas umfasst oder aus ihnen besteht, und der Anteil an Anatas, bezogen auf den Titandioxidanteil, mehr als 50% beträgt, a2) die BET-Oberflache 10 bis 200 m 2 /g ist, a3) das Volumen der Poren von 2 bis 50 nm 0,4 bis 2,5 ml/g ist und b) nach dem Erhitzen auf 900°C über einen Zeitraum von 4 Stunden, b1) der Anteil an Anatas mehr als 50% des Anteiles bei Raumtemperatur ist, b2) die BET-Oberflache wenigstens 60% der BET-Oberfläche bei Raumtemperatur ist, b3) das Volumen der Poren von 2 bis 50 nm wenigstens 50% des Volumens der Poren von 2 bis 50 nm bei Raumtemperatur ist.
    • 颗粒剂,包含或由一个或多个硅 - 钛混合氧化物粉末,其中的二氧化钛的比例为70〜98重量%,是二氧化硅2〜30重量%,其中所述比例按重量计至少第98的总和 - %,基于该颗粒,并且其中a)在室温下a1)中,二氧化钛的比例包括所述修饰金红石和锐钛矿或由其组成,和锐钛矿的比例的基础上,二氧化钛的含量,是50%以上, a2)中的BET表面积为10至200平方米/克,A3)的2孔的体积至50nm,0.4〜2.5毫升/克,和b)加热至900℃后经过一段 ,b1)中,锐钛矿型的比例是在4小时时在室温下的比例超过50%,b2)的BET表面积是在室温下的BET表面积的至少60%,B3)的2至50纳米,至少50%的细孔容积 为2〜50nm的细孔的在室温下的体积。