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1. 发明申请

WO2010112269A2 ANORDNUNG MIT EINEM AN EINEM TRÄGER BEFESTIGTEN MASSSTAB UND VERFAHREN ZUM HALTEN EINES MASSSTABS AN EINEM TRÄGER 审中-公开
标题翻译：具有固定于支持范围和方式举办规模，在支撑安排
公开(公告)号：WO2010112269A2
公开(公告)日：2010-10-07
申请号：PCT/EP2010/052239
申请日：2010-02-23
申请人： DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH , SPECKBACHER, Peter , WEIDMANN, Josef , HOLZAPFEL, Wolfgang
发明人： SPECKBACHER, Peter , WEIDMANN, Josef , HOLZAPFEL, Wolfgang
IPC分类号： G01D5/347
CPC分类号： G01D5/34707
摘要： Gemäß der Erfindung wird ein Maßstab (1) durch pneumatisches Ansaugen an einem Träger (2) gehalten. Der Maßstab (1) wird mittels zweidimensional verteilt angeordneter und voneinander beabstandeter Unterstützungen (12) am Träger (2) gehaltert, wobei die Unterstützungen (12) einen gegenseitigen Mittenabstand (A) kleiner als die Dicke (D) des Maßstabs (1) aufweisen.
摘要翻译：根据本发明的标度（1）通过抵靠支撑件（2）气动抽吸保持。标尺（1）（2）支撑在所述载体上二维排列和间隔开的支撑（12）的装置，所述支撑件（12）具有相互的中心距离（A）小于所述标尺（1）的厚度（D）。

2. 发明申请

WO2007112796A1 VERFAHREN ZUM HALTEN EINES MASSSTABS AN EINEM TRÄGER SOWIE ANORDNUNG MIT EINEM TRÄGER UND EINEM MASSSTAB 审中-公开
标题翻译：方法用于固定规模，载体和安排与载体和比例
公开(公告)号：WO2007112796A1
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：PCT/EP2007/000404
申请日：2007-01-18
申请人： DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH , HOLZAPFEL, Wolfgang , SPECKBACHER, Peter
发明人： HOLZAPFEL, Wolfgang , SPECKBACHER, Peter
IPC分类号： G01D5/347
CPC分类号： G01D5/34707
摘要： Gemäß der Erfindung wird ein eine Messteilung (15) aufweisender Maßstab (1) durch elektrostatische Klemmung an einem Träger (2) sicher und lösbar gehalten.
摘要翻译：根据本发明的测量分（15）被保持，包括方向尺度（1）通过静电夹持至支撑（2）牢固和可释放本发明。

3. 发明申请

WO2005057668A1 ABTASTKOPF FÜR OPTISCHE POSITIONSMESSSYSTEME 审中-公开
标题翻译：扫描光学位置测量系统
公开(公告)号：WO2005057668A1
公开(公告)日：2005-06-23
申请号：PCT/EP2004/008483
申请日：2004-07-29
申请人： DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH , SPECKBACHER, Peter , WEIDMANN, Josef , EISELE, Christopher , MAYER, Elmar , BURGSCHAT, Reiner
发明人： SPECKBACHER, Peter , WEIDMANN, Josef , EISELE, Christopher , MAYER, Elmar , BURGSCHAT, Reiner
IPC分类号： H01L31/105
CPC分类号： G01D5/34707 , H01L31/1055
摘要： Es wird ein Abtastkopf für ein optisches Positionsmesssystem beschrieben, mit einem aus photoempfindlichen Bereichen (3) gebildeten Empfangsgitter (1.7) zum Abtasten von örtlich intensitätsmoduliertem Licht unterschiedlicher Phasenlage. Das Empfangsgitter (1.7) ist aus einem Halbleiterschichtstapel (1.2), bestehend aus einer dotierten p-Schicht (1.2.1), einer intrinsischen i-Schicht (1.2.2) und einer dotierten n-Schicht (1.2.3) gebildet. Die einzelnen photoempfindlichen Bereiche (3) haben eine erste dotierte Schicht (1.2.1) und zumindest einen Teil der intrinsischen Schicht (1.2.2) gemeinsam und sind durch Unterbrechungen der zweiten dotierten Schicht (1.2.3) elektrisch voneinander getrennt.
摘要翻译：描述了一种扫描头，用于一种光学位置测量系统，形成与感光区域中的一个（3）接收用于采样光栅（1.7）局部不同的相位位置的强度调制光。该接收机光栅（1.7）是由半导体层堆叠（1.2），包括一个p掺杂层（1.2.1）所示，形成本征i层（1.2.2）和n掺杂层（1.2.3）的。各个光敏区（3）具有第一掺杂层（1.2.1）和至少在共同的本征层（1.2.2）的一部分，并且通过彼此电的第二掺杂层（1.2.3）的中断是分开的。

4. 发明申请

WO2003034105A3 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES MASSSTABES, SOWIE DERART HERGESTELLTER MASSSTAB UND EINE POSITIONSMESSEINRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2003034105A3
公开(公告)日：2003-04-24
申请号：PCT/EP2002/010669
申请日：2002-09-24
申请人： DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH , SPECKBACHER, Peter , FLATSCHER, Georg
发明人： SPECKBACHER, Peter , FLATSCHER, Georg
IPC分类号： G02B5/18
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Massstabes in Form eines Phasengitters und den Massstab selbst, sowie eine Positionsmesseinrichtung mit diesem Massstab, der zwei voneinander beabstandete Reflexionsschichten (2, 4) aufweist, die zu beiden Seiten einer Abstandsschicht (3) angeordnet sind. Die Herstellung des Massstabes umfasst folgende Verfahrensschritte: zur Verfügung stellen einer ersten Reflexionsschicht (2) als eine ganzflächig durchgehende Schicht, die eine Beziehung A = R/η ≥ 3 erfüllt, wobei R der Reflexionsgrad und η der Rückstreukoeffizient für Elektronen ist, Aufbringen der Abstandsschicht (3) auf die erste Reflexionsschicht (2), Aufbringen der zweiten Reflexionsschicht (4) auf die Abstandsschicht (3), Strukturieren der zweiten Reflexionsschicht (4) durch einen Elektronenstrahllithografieprozess.

5. 发明申请

WO2022078724A1 STRUKTURIERTE SCHICHTANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER DERARTIGEN SCHICHTANORDNUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2022078724A1
公开(公告)日：2022-04-21
申请号：PCT/EP2021/076140
申请日：2021-09-23
申请人： DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH
发明人： SPECKBACHER, Peter , SEDLMEIER, Wolfgang , CSIKI, Réka , DOWY, Martina , OBERG, Jenny
IPC分类号： B01J35/00 , B01J35/02 , G01N33/52 , G03F1/54 , G03F7/00 , G03F7/075 , G01N33/53 , G02B5/08
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine strukturierte Schichtanordnung mit einem planaren Trägersubstrat, auf dessen funktional-wirksamer Seite eine strukturierte Chrom-Schicht angeordnet ist. Diese besteht aus Chrom-Bereichen, die alternierend mit unbeschichteten Bereichen des Trägersubstrats angeordnet sind. Über der Chrom-Schicht ist eine flächige Reaktiv-Schicht angeordnet, die in Teilbereichen über den Chrom-Bereichen eine höhere photokatalytische Aktivität aufweist als in Teilbereichen über den unbeschichteten Bereichen des Trägersubstrats.

6. 发明申请

WO2023046339A1 PHOTOKATALYTISCHE SCHICHTANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER DERARTIGEN SCHICHTANORDNUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2023046339A1
公开(公告)日：2023-03-30
申请号：PCT/EP2022/071310
申请日：2022-07-29
申请人： DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH
发明人： SPECKBACHER, Peter , SEDLMEIER, Wolfgang , DOWY, Martina , CSIKI, Réka , WUNDERLICH, Bernhard
IPC分类号： B01J21/06 , B01J23/26 , B01J35/00
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine photokatalytische Schichtanordnung mit einem Trägersubstrat, auf dem eine Chrom-Schicht mit definiertem Stickstoff-Gehalt abgeschieden ist. Auf der Chrom-Schicht ist eine Titanoxid- Schicht mit der Strukturformel TiOx (x = 2 - 4) aufgewachsen, wobei die Anatas-Phase der Titanoxid-Schicht gegenüber der Rutil-Phase der Titanoxid-Schicht einen prozentualen Anteil im Bereich von 30% - 90% aufweist (Fig. 1).

7. 发明申请

WO2003034105A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES MASSSTABES, SOWIE DERART HERGESTELLTER MASSSTAB UND EINE POSITIONSMESSEINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：用于生产规模，也因此造就标尺和位置测量装置
公开(公告)号：WO2003034105A2
公开(公告)日：2003-04-24
申请号：PCT/EP2002/010669
申请日：2002-09-24
申请人： JOHANNES HEIDENHAIN GMBH , SPECKBACHER, Peter , FLATSCHER, Georg
发明人： SPECKBACHER, Peter , FLATSCHER, Georg
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/1861
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Massstabes in Form eines Phasengitters und den Massstab selbst, sowie eine Positionsmesseinrichtung mit diesem Massstab, der zwei voneinander beabstandete Reflexionsschichten (2, 4) aufweist, die zu beiden Seiten einer Abstandsschicht (3) angeordnet sind. Die Herstellung des Massstabes umfasst folgende Verfahrensschritte: zur Verfügung stellen einer ersten Reflexionsschicht (2) als eine ganzflächig durchgehende Schicht, die eine Beziehung A = R/η ≥ 3 erfüllt, wobei R der Reflexionsgrad und η der Rückstreukoeffizient für Elektronen ist, Aufbringen der Abstandsschicht (3) auf die erste Reflexionsschicht (2), Aufbringen der zweiten Reflexionsschicht (4) auf die Abstandsschicht (3), Strukturieren der zweiten Reflexionsschicht (4) durch einen Elektronenstrahllithografieprozess (Figur 1d).
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造在一个相位光栅和标尺本身的形式的规模，以及一个位置测量装置与该刻度具有两个间隔开的反射层（2，4），其被布置在间隔层的两侧（3）。规模的制备包括以下步骤：提供第一反射层（2），其满足关系A = R / ETA> / = 3，其中R是电子的后向散射系数的反射率和ETA的整个区域连续的层，施加第一反射层（2）在隔片层（3），将所述第二反射层（4）的隔离层（3），构建所述第二反射层（4），通过电子束光刻工艺（图1d）上。

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